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フォトマスク洗浄装置|PDP・大判フォトマスク用 TW-1000

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TW-1000

最終更新日:2023年04月28日

株式会社テクノビジョン 本社
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スモールサイズからラージサイズまで、スクラブ洗浄・リンス・乾燥を1台で実施!

テクノビジョンのフォトマスク洗浄装置は、スクラブ洗浄・リンス・乾燥を一台で行いフォトマスクに付着したゴミや汚れを洗浄するマスククリーナーです。 弊社では多様なお客様からのご要望にお応えするため、スモールサイズからラージサイズまでの幅広いフォトマスクに対応した洗浄装置、TW-200、TW-300、TW-700、TW-1000 をご提供しています。

    フォトマスクその他半導体製造装置その他洗浄機
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フォトマスク洗浄装置|PDP・大判フォトマスク用 TW-1000

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基本情報

■主な特長 ・ワークの スクラブ洗浄 ・ リンス ・ 乾燥 を一台の装置でスピーディーに行う ・特殊洗浄ブラシにてワークに傷を付けず洗浄ムラなく精密洗浄を行う ・縦型処理の為、ワークにストレスがかからない ・少量多品種、R&D用途の基板洗浄にも最適 ・各サイズ専用ワークホルダーの用意とフリーサイズ対応ワークホルダーをご用意 ・ワーク接触部分は、樹脂にて対応 ※各種オプションも用意。 ※カスタム対応等、詳細はお気軽にお問い合わせください。

価格情報

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用途/実績例

フォトマスク: 半導体用、液晶用、有機EL用、カラーフィルター用、 薄膜デバイス用、ICパッケージ用、PWB用、PCB用、FPC用 その他、板状基板等洗浄可

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フォトマスク洗浄装置PDP・大判用フォトマスク対応装置TW-1000

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この製品に関するニュース(1)

新型マスク洗浄装置 TWC-300の製品画像です

【大手メーカーで全自動フォトマスク洗浄装置の導入が増加しています!】

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"マスク洗浄といえばテクノビジョン" を合言葉にこれからも業界一、世界一を 目指して参ります。 台湾、中国、日本でLEDの生産が活発になり、それに伴いフォトマスク洗浄装置の受注が大手メーカーより相次いでいます。 テクノビジョンでは従来から培ってきたスクラブ洗浄術に加え、新たに薬液洗浄技術の開発に取り組んでまいりました。  ◆スクラブ洗浄:主にパーティクルの除去  ◆薬液洗浄:マスクに付着したレジストを除去 LED生産においては素子パターンのデザインルールL/Sが、サブミクロン領域には至っていないため、露光プロセスにはプロキシミティーまたはコンタクトアライナーが使用されます。 このため、マスク汚染に対してはレジスト除去とパーティクル除去機能をもった 洗浄装置が必要となります。 某大手LEDメーカーではマスク洗浄が月間5000枚以上に達し、有害薬液などの保護対策が必要とされています。 テクノビジョンの全自動マスク洗浄装置は、このような量産工場で対応できる、 安全かつ環境にやさしい唯一のコンパクト、スモールフットプリント洗浄装置です。 ◆詳しくはお問い合わせください。

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株式会社テクノビジョンは、1987年9月創業以来、洗浄技術、組立技術をコアーに自社製品の開発、製造、輸出入業務に取り組んでおります。 今日のハイテク産業の中でお客様のニーズにお応えし、お客様の立場に立った視野で技術、製品、及びサービスの提供を目指していく所存でございます。

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