既設のボルトのサイズ・数は変更不要？半導体製造装置で『真空のゴムOリング ガス透過やガス放出を無くしたい』などお困りの方必見！
真空排気シミュレーションなど 低圧条件のガス流れの解析ができる 希薄気体(希薄流体)にも対応した解析ソフト
Oリングの桜シールは、PTFE（テフロン／4フッ化エチレン樹脂）ほか多様な材質で、幅広いサイズのOリングを制作いたします。
MOCVD装置 VEECO K465i G2
『流路まるごと事例集』バルブ半開によるヒヤリハット事例がある方、狭所での閉止確認にお困りの方必見！ 安全対策の事例を進呈中。
高効率高周波電源【ローコスト・省電力・コンパクト設計】600W以上の耐反射能力を持ち、短絡・開放の急激な負荷変動に耐えます
試作・開発・小ロット生産向け NSG(SiO2)/BSG/PSG/BPSG膜成膜用 バッチ式(複数枚同時処理)APCVD装置
量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続式常圧CVD(APCVD)装置 (8インチウェハまで対応)
高温アンモニアに耐性があり、容易に高温が得られる機能部品、高温用ヒータ、構造材。窒化物の単結晶成長からウェハプロセスまで対応。
Oリングの桜シールは、AS568規格（航空宇宙規格）ほか様々なサイズのOリングを、多種多様な材質によって成形いたします。
・標準サイズの製品が多数・Easy installation 簡単設置 ・精密焼結拡散接合 （ 同時焼結 ） ・高い流量
フッ素樹脂チューブライニングとは、金属パイプ内面にフッ素樹脂チューブ（内径3mm～）を焼付して接着させるライニング技術です。
弊社にてデモ可能！ 市場初投入の新技術。大気圧プラズマでＣＶＤ。 少量多品種に対応できます。
結晶Si太陽電池セル量産用 NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用 高生産性 連続式常圧CVD(APCVD)装置
少量・多品種向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 枚葉式常圧CVD(APCVD)装置(8インチSiCウェハ対応)
量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続式常圧CVD(APCVD)装置(12インチウェハ対応)
独自のLIA方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔に超高速、高品質な真空成膜を実現！
Oリングの桜シールは、過酷な温度条件や強力な薬品にも耐えることが出来る特別な材質を取り揃え、様々なサイズに成形いたします。
MOCVD、フィルター、AIXTRON、LED、中国産、高温真空粉塵濾過、
液漏れを早期に発見し事故を最小限に防止！油、有機溶剤検知器にＲｏＨＳおよびＣＥ対応のＯＤ－７が加わりました。
CVD, PVD（蒸着, スパッタ等）均熱性・再現性に優れた高真空 超高温 ウエハー・小片チップ加熱用 プレートヒーター
◉ 短時間 1バッチわずか30分で容易にグラフェン合成実験が可能 ◉ 高精度温度・圧力制御 ◉ 洗練されたソフトウエア
コンパクト、70ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの薄膜モジュールを組込み、様々な用途に対応するマルチ薄膜装置
コンパクト、70ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの薄膜モジュールを組込み、様々な用途に対応するマルチ薄膜装置
Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。
