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更新日:2025年12月04日 集計期間:2025年11月26日〜2025年12月02日 ※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
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高機能メタルシール!!各種真空機器、半導体製造装置などに最適!
液漏れを早期に発見し事故を最小限に防止!油、有機溶剤検知器にRoHSおよびCE対応のOD-7が加わりました。
配管形状を選ばず、粉体の析出を抑制し配管内の閉塞を局所集中により防止してポンプ性能を延命させます。
排気を上方向に排出する機構を採用。周囲のチップを噴出気体により吹き飛ばすことなく非接触でつかみ移載します。
Oリングの桜シールは、過酷な温度条件や強力な薬品にも耐えることが出来る特別な材質を取り揃え、様々なサイズに成形いたします。
1000mm*1000mm*1000hの真空チャンハ゛ーです。材質SUS304 使用環境:真空
Oリングの桜シールによる白色タイプの3元系フッ素ゴム材質
MOCVD、フィルター、AIXTRON、LED、中国産、高温真空粉塵濾過、
CVD, PVD(蒸着, スパッタ等)均熱性・再現性に優れた高真空 超高温 ウエハー・小片チップ加熱用 プレートヒーター
コンパクトで省電力!デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験用プラズマCVD装置
大気放出できない装置から排出される有害排気ガスを安全に除害処理します。現地での排気ガス成分分析による処理剤設計もします。
超耐熱・低吸水率・優れた摺動特性を誇るエンジニアリングプラスチックです。
エラストマーシールから置換!当社のメタルシールをご紹介
金属ベローズは各種の真空装置や半導体製造装置に応用された部材です。
Oリングの桜シールは、AS568規格(航空宇宙規格)ほか様々なサイズのOリングを、多種多様な材質によって成形いたします。
Oリングの桜シールによる耐熱性パーフロロエラストマー(耐高温-300℃)材質の旧グレード
Oリングの桜シールによる白色タイプのバイトンETP (FFKM-E)材質
Oリングの桜シールによる配合材無使用の特殊(フッ素ゴム+フッ素樹脂)材質
MOCVD装置 VEECO K465i G2
中古装置活用で大幅なコストダウンができるだけでなく、導入後のアフターサービス、メンテナンス、仕様変更にも格安で対応致します。
各種真空装置内でのウエハ応力、反り、曲率、異方性等をリアルタイム、高精度に測定するIn-situモニター。
商業的使用に好適!非常に安定性があり、予測可能な特性と挙動を持っています
毒性ガス漏洩の緊急時に無害化します。(高圧ガス保安法一般則第55条第1項 対応可)
ポリパラキシレン(パリレン)とALD(原子層堆積法)による無機酸化物層を交互に積層します。
最大成膜温度は800℃!チャンバー加熱機構で最大4x DLI気化器を搭載可能
熟練したリターン技術による、安定放電が可能な直流(充電)電源です。
厚膜形成用プラズマCVD装置。高速かつ低ストレス(特許出願中)
ブレードダイシングとプラズマダイシングの比較などを掲載しています
シリコンのノンボッシュプロセスの新しいデータを掲載しています
ガスボックス
高い汎用性を備えたシンプルな構造!独自のプラズマ制御方式を採用しています
配管ヒーター、シリンダー等の熱を逃がさない!電力削減やCO2を削減!用途に合わせて形状・材料を自由にカスタマイズ可能!
高純度を要求される半導体製造工程でのイオン注入には多数のカーボンが使用されます。その高純度カーボンのご紹介です。
空気噴流によりワークを非接触にて懸垂搬送! ベルヌーイチャック
穴あきセラミック基板・FPC基板を穴の位置に関係なく非接触にて移載可能。
独自のLIA方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速、高品質な真空成膜を実現!
優れた膜厚・不純物濃度の均一性。高生産性と低価格を実現した常圧CVD装置
配管部品は各種の真空装置や半導体製造装置に応用された部材です。
高・強誘電材料、電極材料、配線材料等で多くのオリジナル製品を開発
Oリングの桜シールによる標準タイプのパーフロロエラストマー材質
Oリングの桜シールによる白色タイプのパーフロロエラストマー材質
Oリングの桜シールによる標準タイプの3元系フッ素ゴム材質
Oリングの桜シールによる耐熱性3元系フッ素ゴム(耐高温: 250℃)材質
Oリングの桜シールによる白色タイプの耐熱性パーフロロエラストマー(耐高温: 280℃)材質
Oリングの桜シールによる標準タイプのバイトンETP (FFKM-E)材質
Oリングの桜シールによる標準タイプのアフラス (FEPM)材質
Oリングの桜シールによる低固着性+低アウトガス性のフッ素ゴム(FKM)材質
Oリングの桜シールでは、幅広いサイズと多様な材質をラインナップし、常備20000種類以上の在庫による即納販売を行っております。
Oリングの桜シールは、JIS規格サイズは勿論のこと、中間・延長・派生サイズなども規格に組み込んで、多様な材質にて成形いたします。
Oリングの桜シールは、耐熱性や耐圧性、耐薬品性といった様々な性能を持つ多種多様な材質を取り揃え、様々なサイズで成形いたします。
Oリングの桜シールは、PTFE(テフロン/4フッ化エチレン樹脂)ほか多様な材質で、幅広いサイズのOリングを制作いたします。
Oリングの桜シールによる充填剤無使用の耐熱パーフロ(耐高温: 300℃)材質
Oリングの桜シールによる高硬度タイプのアフラス (FEPM)材質
・標準サイズの製品が多数・Easy installation 簡単設置 ・精密焼結拡散接合 ( 同時焼結 ) ・高い流量
3種類の堆積装置をラインアップ!用途に合わせてお選びください
半導体・医療機器分野に求められる高清浄度に対応。精密洗浄から包装・組立までを一貫してクリーン環境で行います。
耐熱性があり、かつ耐熱衝撃性にも優れている『窒化珪素』は、機械的強度も強くバランスの良い素材です。
砂型鋳造、金型鋳造、金型鋳造、ダイカスト鋳造、石膏鋳造など、あらゆる鋳物品加工を対応いたします。最大900×900×1000mm
豊富なプロセスレシピを持ちながらも非常に小型な原子層堆積装置
真空蒸着装置とこれらに関連する機器メンテナンスサービスを行っております。
◉ 短時間 1バッチわずか30分で容易にグラフェン合成実験が可能 ◉ 高精度温度・圧力制御 ◉ 洗練されたソフトウエア
【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能CVD装置
コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの薄膜モジュールを組込み、様々な用途に対応するマルチ薄膜装置
Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。
独自の冷却技術を用いた 多段ルーツ式真空ポンプ
ガスを化学反応させることで緻密な薄膜を形成!低温加工も可能です。
半導体製造装置の技術サービスはお任せ下さい。
日新技研社〜単結晶育成装置〜総合カタログ 無料配布中!
対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等!基板加熱機構付き(最高設定温度:500℃)
各種成膜処理ができる半導体ウェハー・アドバンストパッケージング向け成膜プラットフォーム
クリーンルーム対応の精密機器据付から保守まで、半導体製造装置の導入をトータルサポート! 補足情報
完全に再生(リファブ)され、アップグレードされたレガシーMOCVD装置を最良のサービス、サポートと共に提供します。
Agnitron社にて独自開発された、高性能、高スループット先端化合物半導体向けMOCVD装置を提供します。
最新の制御機能とデータロギング機能を有する、WindowsベースのSCADAパッケージMOCVD装置制御ソフトウエアです。
Agnitron社で開発されたAgniTemp-MOCVD In-situ温度モニターは高精度、高安定である温度モニターです。
パッシベーション用MBE装置は、レーザーファセットパッシベーション等のために特別設計された各種チャンバーで構成されております。
耐熱150℃ 断熱材
なぜ断熱材『シルサーム』を導入するのか?そのメリットを解説します。
横の許容は+0.2/0-0mm、厚さの許容は+/-0.05mm!電子グレードCVDについてご紹介します
3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをラインアップしています!
側面粗さRaは、研磨済み、Ra<5nm!光学グレード単結晶をご紹介します
0.25mmと0.50mmの厚みをラインアップ!多結晶メカニカルのご紹介です
1,000W/mKから2,000W/mK以上までの熱伝導率を設計!多結晶サーマルをご紹介します
横の許容範囲は+0.1/0-0mm!単結晶メカニカルをご紹介します
各種半導体基板上への窒化物半導体結晶の成長実績あり。ご要望に応じたカスタマイズも可能。
各種各様の素材・規格に対応可能でございます。
半導体、液晶製造装置用部材、耐熱、耐食部材、セッター、放熱板に!
粒子専用のALD(原子層堆積 Atomic Layer Deposition)装置 ナノスケールの粒子を成膜できます。
従来の陽極酸化装置をさらに応用したポーラスシリコン形成装置。使用薬液・電流密度により多孔質シリコンウエハーが形成されます。
除害装置前段やCVD排気ラインの副生成物対応にお困りの方必見! 高温(180℃)バルブで副生成物を抑制した事例を進呈!
『流路まるごと事例集』バルブ半開によるヒヤリハット事例がある方、狭所での閉止確認にお困りの方必見! 安全対策の事例を進呈中。
『流路まるごと事例集』半導体ガス供給装置輸送時のリスクに先手を打つ。安全対策の事例を進呈中
『流路まるごと事例集』錠やタグ付きワイヤーでバルブをロック!バルブ誤操作対策の事例を進呈中
デバイスメーカーの求める装置の価値基準とは? KITZSCTは排気系ラインの省スペース化設計/施工性向上をお助けします。
『流路まるごと事例集』ワイヤーや錠の取付け不要!ヒューマンエラーによるバルブの誤作動を防止するロック付きバルブの事例を進呈中
【特に人気のある3事例をまとめて進呈中!】「バルブを変える」ことでトラブル発生率低下も。作業者を危険から守る安全対策のヒント集