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更新日:2026年01月15日 集計期間:2026年01月07日〜2026年01月13日 ※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
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「FHR.Star.600-EOSS」は、精密な光学フィルター成膜用として開発された高機能マグネトロンスパッタ装置です。
高水準な仕様と豊富なオプションで様々な成膜用途に適した研究開発用スパッタリング装置です。
コンパクト設計で省スペースを実現!大学や民間の研究室に最適なスパッタリング装置(研究者用価格)
X-Y-Z-θx-θy-θzの全方向において、高精度アライメント(ターゲット1μm以下)が可能になりました。
膜厚分布:トレー内 ±1.2%、トレー間 ±1.5%を達成しました。
樹脂基板への金属膜、保護膜が全自動で成膜可能!
超高温基板加熱ステージに、基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全てが1台で可能! 'All-In-One'コンポーネント
<Q&A集付> 手元に欲しい一冊!
各種材料、基材の加工実績が豊富!電磁波シールド、帯電防止、面状発熱体など
DCパルススパッタリングが可能(導電性ターゲット使用した絶縁膜のリアクティブスパッタ)!
高レート リアクティブ成膜 生産装置の最適解
最大5(220mm径)又は4(300mm径)ターゲット搭載!イオンビームスパッタ装置をご紹介
成膜装置で使用されるバッキングプレートです。
表面改質から触媒利用まで!成膜事例付きで密着性が高い粉体スパッタ技術をご紹介!
高真空及び超高真空に対応可能の真空部品
半導体・医療機器分野に求められる高清浄度に対応。精密洗浄から包装・組立までを一貫してクリーン環境で行います。
半導体業界や太陽電池業界(PV)向けに、ポリシリコーンは原材料として使用。素材:ニッケル合金 プロセス:フィルター
Flexible Display用など機能性Film製造用Coating装備
平板ガラス基板の上に薄膜をコーティングする装備
電子線後方散乱回折法EBSDはアルミスパッタ膜の性能評価や下地材料の選定に役立ちます
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。
スパッタ装置
主要サプライヤーの情報等を掲載!スパッタリングターゲット市場とサプライチェーン
PLP向けにより高い生産性!より多くのプロセス可能性。アドバンストパッケージング向けに最適
柔軟性、コンパクトな設計、および低い投資コスト!少量生産に理想的な選択肢
繊維・フィルムへの真空スパッタリング加工で抗菌・消臭付加価値製品を提案いたします。
FCCL(フレキシブル銅張積層板)製造用高スループットロール to ロール型スパッタリング装置
1辺25mmトライアングルの有効エリア!単一基板に数百条件分の組成分布を形成します
ヒーターステージ(1000℃)搭載!開発工程~量産工程まで様々な用途へ活用が可能
コンパクトな卓上サイズで3源のカソードを搭載。絶縁薄膜、酸化物・窒化物薄膜の作製も可能
クリーンルーム内や真空チャンバー内で使用できる完全オイルフリー・コンタミフリーなアルミホイルです。
省スペースで大容量!各種ご要望に合わせたオーダーメイドも製作可能!
粉体凝集対策可能!各種ご要望に合わせたオーダーメイドも製作可能!
酸素や水分を排除したい研究製膜環境!多層膜、化合物製膜、反応製膜に対応します!
基板寸法は最大3インチで3枚収納可能!加熱機構・逆スパッタ機構を備えています!
研究開発から量産までサポート!
先端薄膜デバイスの研究開発に最適。カスタマイズ容易な枚葉式超高真空インラインシステム。豊富なオプションと柔軟な対応で要求に対応
先端パッケージへの展開 □300、510×515等、次世代パッケージ基板向けに各種プロセス装置をご提案
アフターサービスの対応にも好評!定期メンテナンスを実施する事で装置の長寿命化を実現
良好な絶縁膜形成を実現するバイアススパッタリング装置!
お客様ご依頼サンプルによる受託成膜、立会実験にも対応いたします!
DLC成膜(膜質:ta-C領域, 表面粗度Ra0.16nm, 透過率:88%)を 従来では課題の多かったスパッタで実現
コスト削減に寄与する汎用性に優れたMFC
【技術資料を無料進呈】緻密で硬質な成膜が可能!自動車のミラーなどの生産にも応用
製品多様真空部品-アダッブタシリーズ
特許的な異質材質溶接技術で溶接しているサファイア真空覗き窓
実験用の小型成膜装置。PET等のフィルムに成膜します。
業界を問わずお客様を悩ませてきたメンテナンス時の粘着ロール洗浄をより迅速に、より効率よく洗浄することができる装置です!
ワーク幅 255,350,450,550,600,750mmに対応!
クリーンルーム内の使用に最適!全自動でロールを洗浄するシステムです。
ULT roll to rollウェブクリーナー装置は コンバーティング生産ライン速度300m/minでも安定して除塵。
三元同時スパッタによる新素材の薄膜開発!実験内容や予算に応じてカスタマイズ可能
輸送ケース 通箱 保管箱
位置決めがかなり求められる加工です。±0.05の保障を維持します。
EUROVAC社製VARIAN型廉価版3keVイオン銃
高機能織物を使用してスパッタ、火、熱を防ぎ、飛散防止用途にも!
新しい成膜方法をお考えのエンジニア必見!樹脂基板への金属膜、保護膜を全自動で成膜
■長所 ・ご要望に合わせたオーダーメイド ・均一な気体の拡散 ・標準コネクタエレメント
SiC/Si複合材料をターゲット材としてご使用頂いております。
最短半日見積り/アルミ材による生産設備部品の製作を承りました。
最短半日見積り/金属部品から樹脂製品まで、半導体製造装置に関わる部品を実績にてご紹介!
一つのチャンバーに基板を搭載して生産する方式
標準モデル登場!低コスト・短納期で提供可能になりました。 高真空、多層連続膜・同時成膜、RF/DC多目的スパッタ装置。
小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成
蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み立てることができるセミカスタムメイド薄膜実験装置
スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに金属蒸着・有機蒸着・スパッタカソードを設置
高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ、4元マルチスパッタ(Φ2〜4inchカソード)
半導体・電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用各種実験装置、薄膜実験装置を紹介。
不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率マグネトロンスパッタカソード。メンテナンス性にも優れます。
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
真空蒸着(金属・有機蒸着源)、スパッタリングカソードの混在設置が可能な「複合型」薄膜実験装置 nanoPVD-ST15A
高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用) 4元マルチスパッタ(Φ6, 8inch用)
蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式スパッタリング装置
コンパクト、70ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの薄膜モジュールを組込み、様々な用途に対応するマルチ薄膜装置
2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置(スパッタ、蒸着、など)をロードロックでシームレスに連結
高エネルギーを利用して材料そのものを叩き出す、再現性に優れた成膜技術!
各コーティング方法の違いや特徴、コーティング事例、お問い合わせの多い質問をまとめた『薄膜Q&A』を無料でプレゼントします!
小型設計ながら性能はキープ!高温での基板加熱が可能なスパッタ装置
電圧・電流設定の操作、モニタ-を行う事が可能
イオンソースを搭載した実験用装置 精密光学の超薄膜多層成膜に活用可能
RFイオンソースを使用し、シングルステージまたはプラネタリーステージを搭載したイオンビームスパッタリング(IBS)装置です。
真空中の試料や機器等に、大気側から直線運動を伝達する導入機です。
磁気結合式直進回転導入機(MFL)を取り付ける際の軸差および角度調整に!
ビューイングポートへの蒸着保護および光・ビームの遮断にご利用ください。
真空チャンバーを製作いたします
主に半導体製造装置関連の据付、組立、改造、保守などの組立サービスをお請けします。
半導体スパッタリングターゲット製造のことなら当社へお任せください
業界で非常に低いRcのシステム設計と最高レベルのウェーハ間再現性!
高速かつ柔軟性のある基板成膜用途向けの大量生産ソリューションを提供!
各種成膜処理ができる半導体ウェハー・アドバンストパッケージング向け成膜プラットフォーム
現地調査から設計・施工まで、経験豊富なエンジニアが対応します!