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更新日:2026年04月30日 集計期間:2026年04月22日〜2026年04月28日 ※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
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X-Y-Z-θx-θy-θzの全方向において、高精度アライメント(ターゲット1μm以下)が可能になりました。
取付方向を自由に設定可能!回転寿命3000万回転の長寿命でメンテナンスフリーを実現!
最大5(220mm径)又は4(300mm径)ターゲット搭載!イオンビームスパッタ装置をご紹介
クリーンルーム内や真空チャンバー内で使用できる完全オイルフリー・コンタミフリーなアルミホイルです。
平板ガラス基板の上に薄膜をコーティングする装備
<Q&A集付> 手元に欲しい一冊!
スパッタ膜と蒸着膜の多層成膜
各種成膜処理ができる半導体ウェハー・アドバンストパッケージング向け成膜プラットフォーム
コンパクト・ローコスト・充実機能、研究開発用ローコストスパッタリング装置 サンプルテスト&装置見学対応中
先端パッケージへの展開 □300、510×515等、次世代パッケージ基板向けに各種プロセス装置をご提案
対応基板は最大φ1インチまで処理が可能!デュアルガスノズルを備えた装置
基板へのダメージを60%以上低減!低ダメージ性を維持したまま成膜速度を向上
製品多様真空部品-アダッブタシリーズ
三元同時スパッタによる新素材の薄膜開発!実験内容や予算に応じてカスタマイズ可能
輸送ケース 通箱 保管箱
標準モデル登場!低コスト・短納期で提供可能になりました。 高真空、多層連続膜・同時成膜、RF/DC多目的スパッタ装置。
高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ、4元マルチスパッタ(Φ2〜4inchカソード)
高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式スパッタリング装置
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。
SiC/Si複合材料をターゲット材としてご使用頂いております。
最短半日見積り/アルミ材による生産設備部品の製作を承りました。
高機能織物を使用してスパッタ、火、熱を防ぎ、飛散防止用途にも!
電子線後方散乱回折法EBSDはアルミスパッタ膜の性能評価や下地材料の選定に役立ちます
高エネルギーを利用して材料そのものを叩き出す、再現性に優れた成膜技術!
「FHR.Star.600-EOSS」は、精密な光学フィルター成膜用として開発された高機能マグネトロンスパッタ装置です。
指向性成膜を実現し、リアクティブスパッタリングも可能な高イオン電流ヘリコンプラズマイオンソースPVDモジュール
誘電体、強磁性体成膜を高レートかつ高品位に高速成膜
高レート・高信頼性を実現した生産用イオンビームミリング装置
ヒーターステージ(1000℃)搭載!開発工程~量産工程まで様々な用途へ活用が可能
各種材料、基材の加工実績が豊富!基材×薄膜=光学調整・導電・抗菌/ウイルス
主に半導体製造装置関連の据付、組立、改造、保守などの組立サービスをお請けします。
難しい材料、様々な基板形状、用途にも!非常に幅広い基板サイズに対応可能
DCパルススパッタリングが可能(導電性ターゲット使用した絶縁膜のリアクティブスパッタ)!
耐摩耗性コーティング業界のエンジニアに!膜応力の精密なコントロール性
ITO膜の膜質コントロールを解決
高速かつ柔軟性のある基板成膜用途向けの大量生産ソリューションを提供!
初期導入コストを抑え、拡張で高性能化が可能!研究ステージに合せてグレードアップ
包装・梱包機械や真空ポンプなど!各分野において装置本体からコンポーネントまで取り揃えております
お客様ご依頼サンプルによる受託成膜、立会実験にも対応いたします!
ガス導入と圧力コントロールバルブによるスパッタ圧の制御が可能!
逆スパッタも可能!500Wの高周波電源を1台搭載し、金属・酸化物・絶縁物等の成膜が可能です
プランゼーの高機能材料(タングステン・モリブデン)製品がオンラインで購入できます。板、棒、ワイヤー、蒸着部品、ヒートシンクなど
高水準な仕様と豊富なオプションで様々な成膜用途に適した研究開発用スパッタリング装置です。
研究開発から量産までサポート!
サンプルテスト対応中 フィルム・金属箔に成膜、フレキシブルデバイスや先端機能材料の開発~量産に対応。デモ機でプロセスサポート。
最大5元カソードによる多元・多層成膜。耐摩耗性・耐熱性・平滑薄膜。ロードロックタイプぷで高温成膜でもハイスループット。
CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可!オーダーメイド製作実績多数あり!
CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能です!
粉体凝集対策可能!各種ご要望に合わせたオーダーメイドも製作可能!
多層膜の作成を自動で実行することが可能なスパッタ装置の納入事例をご紹介!
旋盤加工/アルミ加工/精密部品加工
不活性ガス雰囲気中で基板・ターゲットの交換ができる、研究開発用小型スパッタ装置
拡張スロットが5つあり、スパッタチャンバーや蒸着装置、グローブボックス等、追加搭載可能
酸化被膜防止を目的としたプレスパッタリングが必要なく工数削減が可能!熱膨張による割れも抑えたスパッタリングターゲットです。
ブロックを組み立てるように自由自在に構成を変更可能な多目的真空蒸着装置|スパッタリング・抵抗加熱蒸着・電子ビーム蒸着・有機蒸着
EUROVAC社製VARIAN型廉価版3keVイオン銃
高真空及び超高真空に対応可能の真空部品
特許的な異質材質溶接技術で溶接しているサファイア真空覗き窓
業界を問わずお客様を悩ませてきたメンテナンス時の粘着ロール洗浄をより迅速に、より効率よく洗浄することができる装置です!
ワーク幅 255,350,450,550,600,750mmに対応!
クリーンルーム内の使用に最適!全自動でロールを洗浄するシステムです。
ULT roll to rollウェブクリーナー装置は コンバーティング生産ライン速度300m/minでも安定して除塵。
実験用の小型成膜装置。PET等のフィルムに成膜します。
超高温基板加熱ステージに、基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全てが1台で可能! 'All-In-One'コンポーネント
小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成
蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み立てることができるセミカスタムメイド薄膜実験装置
スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに金属蒸着・有機蒸着・スパッタカソードを設置
半導体・電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用各種実験装置、薄膜実験装置を紹介。
不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率マグネトロンスパッタカソード。メンテナンス性にも優れます。
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
真空蒸着(金属・有機蒸着源)、スパッタリングカソードの混在設置が可能な「複合型」薄膜実験装置 nanoPVD-ST15A
高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用) 4元マルチスパッタ(Φ6, 8inch用)
蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
コンパクト、70ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの薄膜モジュールを組込み、様々な用途に対応するマルチ薄膜装置
2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置(スパッタ、蒸着、など)をロードロックでシームレスに連結
半導体・医療機器分野に求められる高清浄度に対応。精密洗浄から包装・組立までを一貫してクリーン環境で行います。
位置決めがかなり求められる加工です。±0.05の保障を維持します。
真空蒸着装置とこれらに関連する機器メンテナンスサービスを行っております。
Flexible Display用など機能性Film製造用Coating装備
一つのチャンバーに基板を搭載して生産する方式
半導体業界や太陽電池業界(PV)向けに、ポリシリコーンは原材料として使用。素材:ニッケル合金 プロセス:フィルター
■長所 ・ご要望に合わせたオーダーメイド ・均一な気体の拡散 ・標準コネクタエレメント
最短半日見積り/金属部品から樹脂製品まで、半導体製造装置に関わる部品を実績にてご紹介!
イオンソースを搭載した実験用装置 精密光学の超薄膜多層成膜に活用可能
RFイオンソースを使用し、シングルステージまたはプラネタリーステージを搭載したイオンビームスパッタリング(IBS)装置です。
スパッタ装置
小型設計ながら性能はキープ!高温での基板加熱が可能なスパッタ装置
電圧・電流設定の操作、モニタ-を行う事が可能
磁気結合式直進回転導入機(MFL)を取り付ける際の軸差および角度調整に!
ビューイングポートへの蒸着保護および光・ビームの遮断にご利用ください。
各コーティング方法の違いや特徴、コーティング事例、お問い合わせの多い質問をまとめた『薄膜Q&A』を無料でプレゼントします!
単品試作から用途に合わせて製作可能!「EBガン」や「Kセル」などをラインアップ!