分類カテゴリから製品を探す
業種から企業を探す
更新日:2025年10月09日 集計期間:2025年10月01日〜2025年10月07日 ※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
ブックマークに追加いたしました
ブックマークを削除いたしました
これ以上ブックマークできません
会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます
X-Y-Z-θx-θy-θzの全方向において、高精度アライメント(ターゲット1μm以下)が可能になりました。
標準モデル登場!低コスト・短納期で提供可能になりました。 高真空、多層連続膜・同時成膜、RF/DC多目的スパッタ装置。
逆スパッタも可能!500Wの高周波電源を1台搭載し、金属・酸化物・絶縁物等の成膜が可能です
半導体・医療機器分野に求められる高清浄度に対応。精密洗浄から包装・組立までを一貫してクリーン環境で行います。
スパッタ装置
「FHR.Star.600-EOSS」は、精密な光学フィルター成膜用として開発された高機能マグネトロンスパッタ装置です。
リアクティブスパッタ、合金スパッタを自在にコントロールしての成膜を実現します
省スペースで大容量!各種ご要望に合わせたオーダーメイドも製作可能!
立体形状部品や外周全面や平板基板の両面、立体形状の成膜に特化した表面処理用多目的スパッタリング装置。タンブラーの内面も成膜OK
パイロットラインから量産ラインへが展開が可能な装置です。
EUROVAC社製VARIAN型廉価版3keVイオン銃
膜厚分布:トレー内 ±1.2%、トレー間 ±1.5%を達成しました。
蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式スパッタリング装置
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。
小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成
イオンソースを搭載した実験用装置 精密光学の超薄膜多層成膜に活用可能
<Q&A集付> 手元に欲しい一冊!
PLP向けにより高い生産性!より多くのプロセス可能性。アドバンストパッケージング向けに最適
柔軟性、コンパクトな設計、および低い投資コスト!少量生産に理想的な選択肢
誘電体、強磁性体成膜を高レートかつ高品位に高速成膜
貴社の装置を ボルトオン、カプラーオンで延命化いたします
ヒーターステージ(1000℃)搭載!開発工程~量産工程まで様々な用途へ活用が可能
コンパクトな卓上サイズで3源のカソードを搭載。絶縁薄膜、酸化物・窒化物薄膜の作製も可能
電波透過膜を高品質に実現する枚葉式スパッタリング装置です。
クリーンルーム内や真空チャンバー内で使用できる完全オイルフリー・コンタミフリーなアルミホイルです。
CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能です!
半導体、MEMS、電子部品等に!単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで高速かつ安定した連続成膜が可能!
酸素や水分を排除したい研究製膜環境!多層膜、化合物製膜、反応製膜に対応します!
良好な絶縁膜形成を実現するバイアススパッタリング装置!
拡張スロットが5つあり、スパッタチャンバーや蒸着装置、グローブボックス等、追加搭載可能
ガス導入と圧力コントロールバルブによるスパッタ圧の制御が可能!
コスト削減に寄与する汎用性に優れたMFC
業界を問わずお客様を悩ませてきたメンテナンス時の粘着ロール洗浄をより迅速に、より効率よく洗浄することができる装置です!
ワーク幅 255,350,450,550,600,750mmに対応!
クリーンルーム内の使用に最適!全自動でロールを洗浄するシステムです。
ULT roll to rollウェブクリーナー装置は コンバーティング生産ライン速度300m/minでも安定して除塵。
高真空及び超高真空に対応可能の真空部品
製品多様真空部品-アダッブタシリーズ
特許的な異質材質溶接技術で溶接しているサファイア真空覗き窓
三元同時スパッタによる新素材の薄膜開発!実験内容や予算に応じてカスタマイズ可能
輸送ケース 通箱 保管箱
最短半日見積り/アルミ材による生産設備部品の製作を承りました。
最短半日見積り/金属部品から樹脂製品まで、半導体製造装置に関わる部品を実績にてご紹介!
半導体業界や太陽電池業界(PV)向けに、ポリシリコーンは原材料として使用。素材:ニッケル合金 プロセス:フィルター
■長所 ・ご要望に合わせたオーダーメイド ・均一な気体の拡散 ・標準コネクタエレメント
SiC/Si複合材料をターゲット材としてご使用頂いております。
位置決めがかなり求められる加工です。±0.05の保障を維持します。
樹脂基板への金属膜、保護膜が全自動で成膜可能!
新しい成膜方法をお考えのエンジニア必見!樹脂基板への金属膜、保護膜を全自動で成膜
Flexible Display用など機能性Film製造用Coating装備
平板ガラス基板の上に薄膜をコーティングする装備
一つのチャンバーに基板を搭載して生産する方式
500~1200mmサイズの加工を得意とし、1000分台の精度保証対応が可能です。まずはご相談ください。
ブロックを組み立てるように自由自在に構成を変更可能な多目的真空蒸着装置|スパッタリング・抵抗加熱蒸着・電子ビーム蒸着・有機蒸着
多目的真空蒸着装置HEXシステム用RF&DCスパッタリングソース
多目的真空蒸着装置HEXシステム用抵抗加熱蒸着源
多目的真空蒸着装置HEXシステム用1源および4源電子ビーム蒸着源
多目的真空蒸着装置HEXシステム用有機蒸着源
高機能織物を使用してスパッタ、火、熱を防ぎ、飛散防止用途にも!
超高温基板加熱ステージに、基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全てが1台で可能! 'All-In-One'コンポーネント
蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み立てることができるセミカスタムメイド薄膜実験装置
スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに金属蒸着・有機蒸着・スパッタカソードを設置
高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用) 4元マルチスパッタ(Φ6, 8inch用)
半導体・電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用各種実験装置、薄膜実験装置を紹介。
不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率マグネトロンスパッタカソード。メンテナンス性にも優れます。
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
真空蒸着(金属・有機蒸着源)、スパッタリングカソードの混在設置が可能な「複合型」薄膜実験装置 nanoPVD-ST15A
コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの薄膜モジュールを組込み、様々な用途に対応するマルチ薄膜装置
2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置(スパッタ、蒸着、など)をロードロックでシームレスに連結
高エネルギーを利用して材料そのものを叩き出す、再現性に優れた成膜技術!
各コーティング方法の違いや特徴、コーティング事例、お問い合わせの多い質問をまとめた『薄膜Q&A』を無料でプレゼントします!
小型設計ながら性能はキープ!高温での基板加熱が可能なスパッタ装置
電圧・電流設定の操作、モニタ-を行う事が可能
RFイオンソースを使用し、シングルステージまたはプラネタリーステージを搭載したイオンビームスパッタリング(IBS)装置です。
各種材料、基材の加工実績が豊富!基材×薄膜=光学調整・導電・抗菌/ウイルス
各種抗菌/抗ウイルス加工、抗カビなど!繊維・フィルムへのスパッタ加工
各種材料、基材の加工実績が豊富!防カビ対策としても有効なスパッタリング技術
金属/合金で菌/ウイルスの増殖を抑制!繊維へのスパッタ加工が可能
基材×薄膜=光学調整・導電・抗菌/ウイルス!遮熱・保温効果を発揮
各種材料、基材の加工実績が豊富!電磁波シールド、帯電防止、面状発熱体など
半導体スパッタリングターゲット製造のことなら当社へお任せください
業界で非常に低いRcのシステム設計と最高レベルのウェーハ間再現性!
高速かつ柔軟性のある基板成膜用途向けの大量生産ソリューションを提供!
各種成膜処理ができる半導体ウェハー・アドバンストパッケージング向け成膜プラットフォーム
現地調査から設計・施工まで、経験豊富なエンジニアが対応します!
真空装置により酸化防止すること、効率においてはターゲット材の寸法公差などが重要!
初期導入コストを抑え、拡張で高性能化が可能!研究ステージに合せてグレードアップ
放電操作が容易!RF電源にオートマッチングを採用したコンパクトな設計
Enduraを知り尽くした会社が提案する新たなPVD装置