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更新日:2025年10月09日 集計期間:2025年10月01日〜2025年10月07日 ※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
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0.6umの微細描画が可能な高速マスクレスアライナー
LED/LD混合波レンズ 高速で高い生産能力・高コストパフォーマンス
高速高解像度レーザー露光装置
Canon製FPA3000/Nikon製NSRのサービスを行っております。
テーブルトップサイズのオートフォーカス付きマスクレスアライナー
研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置
独自のチャック方法により、高精度の薄板加工品を提供します【サイズや、加工による変形で精度でお困りのお客様お気軽にご相談ください】
5相ステップモータドライバ「5D14C」
ウエハサイズ 後工程 投影露光装置 MRS 標準光源としてUV-LED光源を採用(生産性を落さずランニングコスト削減が可能!)
自動機・専用機
高速パターン・ジェネレータ
Flexible Display用など機能性Film製造用Coating装備
平板ガラス基板の上に薄膜をコーティングする装備
一つのチャンバーに基板を搭載して生産する方式
500~1200mmサイズの加工を得意とし、1000分台の精度保証対応が可能です。まずはご相談ください。
【削る前が決め手】仕様確認、工法の提案、工程及び治具設計、工具の選定、プログラム作成、加工シュミレーションにも力を入れています
半導体製造装置の技術サービスはお任せ下さい。
高速トルク特性が良好な5相ステップモータドライバ
5相マイクロステップモータドライバ 「5D03M」
2相バイポーラマイクロステップドライバ 「PMB212C」
5相AC電源マイクロステップモータドライバ 「5D1AM」
5相マイクロステップモータドライバ「5D13M」
2相マイクロステップモータドライバ「2D14M」
2相マイクロステップモータドライバ「2D24M」
最高1/200まで非常に滑らかに回転する2相モータドライバ
用途に合わせた幅広い提案が可能です。
高出力・高安定のLED光源装置。ハイパワーUV出力最大30W、水銀不使用、内蔵するLEDを選択可能
高出力・高安定のLED光源装置。ハイパワーUV出力最大30W、水銀不使用、内蔵するLEDを選択可能!
最大50W 超高出力。水銀ランプに代わるLED照射器。UV硬化、半導体検査装置などに使用可能
高出力・高安定のLED光源装置。ハイパワーUV出力最大15W、水銀不使用、内蔵するLEDを選択可能
同一波長のモジュールを複数搭載可能な高出力・高安定のLED光源装置。ハイパワーUV出力最大80W、水銀不使用、
光源と光学系技術の開発・応用力の粋を集めた各種ランプのご案内です。
全自動全面一括露光が可能なオートアライナー装置をラインアップ
両面アライメントと、プロキシミティおよびソフトコンタクト露光が可能
フレキシブルプリント基板(FPC)の回路形成を行うための装置
CCDカメラによる画像処理自動整合システムを搭載
搬送系はローラコンベア方式でインラインとして利用可能!
フレネルレンズを搭載した高精度露光装置です。
平行光露光装置のラインナップのご案内です。
顕微鏡オート移動など、生産性、使い勝手に優れたアライナ
1軸から3軸一体型までの低振動型ステッピングドライバー
50μm厚の超薄型ガラス基板を非接触にて搬送する 非接触搬送装置「50μm厚超薄型ガラス非接触搬送装置LNAS型」
露光装置及び、周辺装置用のレチクルケース。主要露光装置メーカーの露光装置にて多数採用済み。クリーンな環境での使用可能!
サポート終了の半導体製造装置の長期使用・保守改善・メンテナンスの救世主。老朽化する高価半導体製造装置の制御装置延命処置。
プロダクション向け高性能マスクレスアライナー
高速半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』
最大8インチ対応角基板まで対応可能 セミオートアライメント対応露光装置
最大4インチ角基板対応 手動露光機