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既設のボルトのサイズ・数は変更不要？半導体製造装置で『真空のゴムOリング ガス透過やガス放出を無くしたい』などお困りの方必見！

• シール・密封
• CVD装置
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パーマロイの性質、磁気シールド性能を手軽に知ることができるキット

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• 半導体検査/試験装置
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研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置

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• ステッパー

世界で初めて最小画素1μm（オプション：0.5um対応可能）の自由度の高いパターニングを実現！DMDを用いたマスクレス露光装置

• 3Ｄプリンタ
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• その他半導体製造装置

3波長を自在にコントロールし、最適な波長域でダイレクトイメージングが可能

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5"6"9"マスクケース

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• その他クリーンルーム用機器・設備
• その他光学部品

高加速電圧100ｋVの高精度タイプからSEM機能も有するユニバーサルタイプの電子線描画装置をラインナップ、各種ニーズに対応可能

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• その他表面処理装置

モデル２７０圧力センサは０～７００ｋＰａの絶対圧、ゲージ圧を±０．０５％ＦＳ精度で計測可能。気圧計としては気象庁検定も可能です。

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表面処理装置　スパッタ用イオン銃

• スパッタリング装置
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今後の更なる半導体製造装置の高機能化・省スペース化にもマッチした高電圧ソリューションを提供いたします。

• 丸型コネクタ
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高速高解像度レーザー露光装置

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小型･高精度･低消費電流を誇り、水晶加工から一貫して生産することで お客様の要求にも細かく、短納期でお応えしております。

• 電子ビーム描画装置

滑らかな非球面レンズにより、特定の波長に制限されない高精度なトップハットビームシェイパーです。

• 電子ビーム描画装置

ライン直線性を追求！照度均一の理想的なトップハットビームを生成

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ＥＨ４３０Ｂ

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TFE電子銃用の高圧電源装置です！

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TFE電子銃用の高精度な高圧電源装置です！

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CD-SEM、レビューSEM用の高圧電源装置「FE103XP」です！

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TFE電子銃、電子線リソグラフィ用の、高圧電源装置「FE503XP」です！

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開発期間の短縮にも役立つ、FIBイオン銃用の高圧電源装置「IB303XS」です！

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業界ハイレベルの高解像度 or 高スループット　マスクレスレーザー直接描画装置

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様々な半導体基板やガラス、ダイヤ等にも加工可能

• エッチング装置
• 電子ビーム描画装置
• 加工受託

頑丈でスケーリング可能な設計！高エネルギーで強く集束されたビーム

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フォトマスクが不要！100nm以下の超微細パターンの形成が可能です

• 加工受託
• 製造受託
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静電場、静磁場内のイオン軌道、誘電体、電極、導体、コイル、磁石、磁性体、空間電化を考慮する！

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静電場、静磁場内のイオン軌道、誘電体、電極、導体、コイル、磁石、磁性体、空間電化を考慮する！

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• 電子ビーム描画装置

絶対圧、ゲージ圧、気圧を±０．０２％ＦＳで計測します。長期安定性に優れ高精度の圧力基準器として使用可能です。各種デジタル設定可能

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• 試験機器・装置
• 距離関連測定器

真空非磁性 ＵＳＭ駆動ユニット＜特注＞

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• その他半導体製造装置
• 分析機器・装置

ファイバーレーザー溶接によるアルミ板金溶接

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表面処理装置　走査型イオン銃

• スパッタリング装置
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今までの露光装置とは生産性が違います！

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• その他半導体製造装置
• レジスト装置

ＦＰＤのセルパネル欠陥に対し、ＩＴＯパターンをカットして修正可能。

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• レーザーマーカー
• その他加工機械

移動距離数十ミリ程度の位置決めに適したボイスコイル型リニアモータ（ＶＣＭ）を高速移動と超精密位置決め用に開発しました。

• 電子ビーム描画装置
• サーボ
• トルク制御

高出力赤色半導体レーザーマーキング／品番 M1170NMSH-7LA

• 電子ビーム描画装置
• 刻印機
• レーザーマーカー

スルーホールやレーザービア（LVH）検査に多くの実績あり。長年の知見と最新技術を結集したハイエンド基板向けAOI

• 電子ビーム描画装置

従来の電子源と比較して、低エネルギー分散かつ大電流を得ることが可能

• 電子ビーム描画装置
• その他理化学機器

MEMS加工装置用イオン源に！ご要望に合わせたオーダーメイドが可能です

• 電子ビーム描画装置
• その他機械要素

ビームエネルギー100～2,000eV！独創的な磁路設計による均一長尺イオンビーム

• 電子ビーム描画装置
• その他機械要素

ロバストな高輝度・長寿命・低消費電力電子銃の開発資料！

• 電子ビーム描画装置
• その他電子部品

超高速電子ビーム描画技術・要素技術の開発・製造・コンサルティング！微細加工技術を通して社会に貢献

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• その他電子部品
• 製造受託

高速パターン・ジェネレータ

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• ステッパー

高速半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』

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• フォトマスク
• ステッパー

2台のロボットが協調しながら似顔絵を作画！輪郭などの線を画像から抽出してロボットの軌跡を生成します

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• 画像処理機器
• その他画像関連機器

加速電圧50kVで2nmの最小ビーム径を実現！※描画デモ可能

• 電子ビーム描画装置

電子ビーム方式の金属3DプリンターでSUS材を造形することにより、大幅な造形時間の短縮・コスト削減が期待できます。

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