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頑丈でスケーリング可能な設計！高エネルギーで強く集束されたビーム

• 電子ビーム描画装置

今までの露光装置とは生産性が違います！

• 電子ビーム描画装置
• その他半導体製造装置
• レジスト装置

高速高解像度レーザー露光装置

• 電子ビーム描画装置
• その他半導体製造装置
• ステッパー

パーマロイの性質、磁気シールド性能を手軽に知ることができるキット

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世界で初めて最小画素1μm（オプション：0.5um対応可能）の自由度の高いパターニングを実現！DMDを用いたマスクレス露光装置

• 3Ｄプリンタ
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• その他半導体製造装置

外乱の変動磁界を検出、それを打ち消す磁界を発生させて磁界変動を制御し、安定させるための磁界発生器

• 電子ビーム描画装置

静電場、静磁場内のイオン軌道、誘電体、電極、導体、コイル、磁石、磁性体、空間電化を考慮する！

• 電子ビーム描画装置

モデル２７０圧力センサは０～７００ｋＰａの絶対圧、ゲージ圧を±０．０５％ＦＳ精度で計測可能。気圧計としては気象庁検定も可能です。

• 電子ビーム描画装置

加速電圧50kVで2nmの最小ビーム径を実現！※描画デモ可能

• 電子ビーム描画装置

研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置

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• ステッパー

3波長を自在にコントロールし、最適な波長域でダイレクトイメージングが可能

• 電子ビーム描画装置

様々な半導体基板やガラス、ダイヤ等にも加工可能

• エッチング装置
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• 加工受託

小型･高精度･低消費電流を誇り、水晶加工から一貫して生産することで お客様の要求にも細かく、短納期でお応えしております。

• 電子ビーム描画装置

滑らかな非球面レンズにより、特定の波長に制限されない高精度なトップハットビームシェイパーです。

• 電子ビーム描画装置

ライン直線性を追求！照度均一の理想的なトップハットビームを生成

• 電子ビーム描画装置

CD-SEM、レビューSEM用の高圧電源装置「FE103XP」です！

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TFE電子銃、電子線リソグラフィ用の、高圧電源装置「FE503XP」です！

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開発期間の短縮にも役立つ、FIBイオン銃用の高圧電源装置「IB303XS」です！

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サーマルFEエミッタを使用した軟Ｘ線管専用の駆動電源「XE303XP」です！

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ＥＨ４３０Ｂ

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5"6"9"マスクケース

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• その他クリーンルーム用機器・設備
• その他光学部品

フォトマスクが不要！100nm以下の超微細パターンの形成が可能です

• 加工受託
• 製造受託
• 電子ビーム描画装置

高加速電圧100ｋVの高精度タイプからSEM機能も有するユニバーサルタイプの電子線描画装置をラインナップ、各種ニーズに対応可能

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• その他表面処理装置

業界ハイレベルの高解像度 or 高スループット　マスクレスレーザー直接描画装置

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• その他表面処理装置

静電場、静磁場内のイオン軌道、誘電体、電極、導体、コイル、磁石、磁性体、空間電化を考慮する！

• 電子ビーム描画装置

静電場、静磁場内のイオン軌道、誘電体、電極、導体、コイル、磁石、磁性体、空間電化を考慮する！

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静電場、静磁場内のイオン軌道、誘電体、電極、導体、コイル、磁石、磁性体、空間電化を考慮する！

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静電場、静磁場内のイオン軌道、誘電体、電極、導体、コイル、磁石、磁性体、空間電化を考慮する！

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静電場、静磁場内のイオン軌道、誘電体、電極、導体、コイル、磁石、磁性体、空間電化を考慮する！

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静電場、静磁場内のイオン軌道、誘電体、電極、導体、コイル、磁石、磁性体、空間電化を考慮する！

• 電子ビーム描画装置

絶対圧、ゲージ圧、気圧を±０．０２％ＦＳで計測します。長期安定性に優れ高精度の圧力基準器として使用可能です。各種デジタル設定可能

• 電子ビーム描画装置
• 試験機器・装置
• 距離関連測定器

真空非磁性 ＵＳＭ駆動ユニット＜特注＞

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• その他半導体製造装置
• 分析機器・装置

表面処理装置　スパッタ用イオン銃

• スパッタリング装置
• 電子ビーム描画装置

表面処理装置　走査型イオン銃

• スパッタリング装置
• 電子ビーム描画装置

ファイバーレーザー溶接によるアルミ板金溶接

• 電子ビーム描画装置

ＦＰＤのセルパネル欠陥に対し、ＩＴＯパターンをカットして修正可能。

• 電子ビーム描画装置
• レーザーマーカー
• その他加工機械

今後の更なる半導体製造装置の高機能化・省スペース化にもマッチした高電圧ソリューションを提供いたします。

• 丸型コネクタ
• その他コネクタ
• 電子ビーム描画装置

従来の電子源と比較して、低エネルギー分散かつ大電流を得ることが可能

• 電子ビーム描画装置
• その他理化学機器

2台のロボットが協調しながら似顔絵を作画！輪郭などの線を画像から抽出してロボットの軌跡を生成します

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• 画像処理機器
• その他画像関連機器

高速パターン・ジェネレータ

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• その他半導体製造装置
• ステッパー

高速半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』

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• フォトマスク
• ステッパー

スルーホールやレーザービア（LVH）検査に多くの実績あり。長年の知見と最新技術を結集したハイエンド基板向けAOI

• 電子ビーム描画装置

アルミ溶接：薄板～厚板

• 電子ビーム描画装置

MEMS加工装置用イオン源に！ご要望に合わせたオーダーメイドが可能です

• 電子ビーム描画装置
• その他機械要素

ビームエネルギー100～2,000eV！独創的な磁路設計による均一長尺イオンビーム

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• その他機械要素