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更新日:2026年03月12日 集計期間:2026年03月04日〜2026年03月10日 ※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
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半導体ウェハーをコンパクトに梱包。薄ウェハーも安全に搬送可能。ANSI/ESD S541 規格対応
半導体技術の基盤であるウエハーを安全かつクリーンに搬送!
【工場セキュリティ】ソフトウェアのインストール不要
高品質と短納期を信条に、お客様の多様なニーズを満たすよう事業を展開していきます!
衝撃や振動による破損防止!!
研究開発から量産対応まで豊富なネットワークを活かした素材・材料調達!
アルミはリサイクルの優等生!また軽量なので輸送コストの低減・作業者負担の軽減に貢献!
CVSにサンプルチェンジャーや電動ビュレットを組み合わせた多検体連続自動分析できる「894プロフェッショナルCVS分析装置」
机の上に設置可能なコンパクト設計、材料分析までの迅速アプローチを実現
専用ラインでの洗浄後、クリーンパックした状態で出荷するので手間なく使用可能!コストも抑えられるウエハー搬送用ケース!
シリコンウエハ、サファイアウエハ、SiCウエハ、ガラス基板など各種基板の保管用及び搬送用ケース
小ロットからの対応可能です。特殊なエピ、多層エピなどにも出来るだけ対応いたします。
モーター駆動採用!無発塵でクリーンルームにも好適。
【CZ法単結晶育成装置用】種付けから回転引上げ、インゴット完成まで重量制御が可能
ウエハ白色干渉測定、PLP検査、LDI露光機、ウエハ光学検査対応標準モデルをラインアップ
半導体装置部品の高純度SiC、海外製SiCウエハ、耐火物SiCに加えて、SiC部品と相性が良いレーザー加工まで受託対応します!
超音波洗浄の洗浄力を飛躍的にUPさせる!
製造元や保守先が不明の表示装置の修理及び再設定(大歓迎です)。
2インチ;3インチ;4インチ;5インチ;6インチ;8インチ;12インチ ダミーウェハー~プライムウェハーまで、各グレードご提供
御指定場所へ回収に伺います!数量や形状についてはご相談下さい
各種平面部分の平面仕上げ・平坦化・突起物除去
【サンプル進呈】半導体、液晶などの電子材料製造プロセス薬剤のメタルフリー用途に。
半導体パワーデバイスとして一般産業分野から家電分野まで広く利用できます
3インチ~12インチまで少量対応が可能です。 仕様により高抵抗基板・高抵抗活性層でのSOIウエハも対応可能!
気泡無く貼り付け可能!パターン面非接触式も製作できます
クリンルームで使用できるプラコン(プラスチックコンテナ)~少量で制作可能~
くっつける技術、制御する技術、モニタリングする技術を開発!設計から製造まで一貫対応
速い・簡単・使い易い!全ての標準テープに対応するダイシングシート貼り付け機
対象物の温度に合わせて霧の質と量をコントロール!濡らさず冷却する冷却システム
脆いフィルム,超薄シートを非接触にて把持し移載いできます。
加工難度が高い硬質なワークに対応! Low-kウエハなど脆弱チップもダメージフリーでダイシング加工が可能
日本機能材料株式会社は、SiGeのエピタキシャル成長膜を提供します。
硫酸銅めっき浴やスズ/鉛浴中の有機添加剤測定を目的とした新型CVS分析装置「894プロフェッショナルCVS」
シリコン貫通電極 (Through Sillicon Via TSV)をはじめとする銅電極及び配線向けの電解めっき薬液
3次元実装サービス(TSV技術等による実装サービス)
2インチ~12インチ、多品種のシリコンウエーハを豊富な在庫で取り揃えており、小ロット、短納期、安定供給が可能です!
CZ/FZ、各口径のシリコンインゴットを取り揃えております。
1×12Ω未満の表面抵抗値です!
0.3mm以下のチップにも対応!電子部品の極小化に対応した次世代製造装置!
低価格、しかも高性能なWet処理装置のことなら、弊社にお任せください。
LED用、光学用パーツなど幅広く使用される単結晶サファイヤウエハです。
水を使わないスクライブ&ブレイク工法!ガラスやセラミックなどの硬脆性材料を高品質に切断する技術!カーフロスゼロで生産性向上を実現
ドライプロセスの為、水を一切使用せず環境に優しい。カーフロスゼロで生産性向上を実現。従来工法と比較して小フットプリント化.
安定した高精度な微量塗布を実現します。 シリーズにTM-08S(内径φ0.08)を追加、 さらなる微量塗布を実現します。
単結晶ニョウブ酸リチウム(LN / LiNbO3)のインゴット、ウェハー、特殊加工をご提供いたします。
ソーラーウエハー
シリコン部品製造用シリコンディスク、プラズマ処理装置用フォーカスリング等をご用意!
多様化するニーズにお応えする高品質シリコンウェハー製品
真空環境下でのUV照射により硬化処理効率UP! 最大8インチまでのウェハリング対応! デモ及びカスタマイズ可能!
半導体シリコンウェーハのことなら当社にお任せください
世界のチップ工場の地域分布や生産能力、需要供給分析を掲載
先端の合理化ラインでの小型パッケージの製造とテスティング技術!スピーディーできめ細やかな対応
ウェット工程の合理化や省スペース化に課題をお持ちの方必見。プロセスインテグレーションの技術概要を紹介した資料を進呈中です。
より優れた潤滑及び冷却性能、高い研削効率、優れた表面処理品質、より優れた仕上げ、使いやすい
簡便・確実にウエハ裏面に接する部位の微小異物を捕集できるウエハ
半導体レーザ、VCSEL、PD、DBR 各種光半導体デバイスのエピウェハを提供
2インチから12インチウエハへの成膜が可能です。
半導体の材料メーカーや装置メーカーに供給するテストウエハについてご案内いたします。
成膜工程におけるテストウエハを、各企業様の状況に合わせてご提案&製造致します。
200mm 300mm にて対応可能! 対応膜種はご希望によりご相談ください。
画像はCuブランケットウェハの例です!
CMP研究・開発用途に大変有用! 高段差のパターンも用意あり
半導体ダイシング工程中にウエハを保護して固定するためのテープ(UV硬化型)
半導体ウェハーの裏面研削保護テープ
気流の摩擦損失を減じた気体垂直噴流方式を採用したベルヌーイチャックド「フロートチャックSAC型」
重たいワークでも効率よく非接触搬送可能なベルヌーイチャック
誰でも使える現場向きの使いやすさと、裏面反射キャンセルなどの高機能を両立させ、更にコストパフォーマンスにも優れた干渉計です。
鉄鋼・リサイクル原料、電子材料、半導体製造装置関連のことなら当社まで
ダイシング後のシート状態では装置でピックアップが出来ない、トレイ仕様に変更したいなど、用途に合わせてダイソートだけでも対応!
<高精度・高速性・高剛性>大気、真空用あらゆるサイズの仕様を取り揃えております!
最新のピコ秒・フェムト秒レーザーを搭載した汎用マーキング装置
深堀エッチング技術で高アスペクトトレンチパターンウェハを実現
安全・機能的な生産体制で石英製品の製造・加工を担う
試作対応 少量対応 4~12inch対応 任意膜厚(10nm~20μm) 基板手配可能 支給基板対応 短納期
JEITA・SEMI規格品 TTV・パーティクルのハイグレード品 その他任意の仕様対応 国内外メーカー品の取り扱い 少量対応
193 nm, 213 nm, 244 nm, 257 nm, 266 nm FHG 発生半導体レーザーシステム
融点60~110℃で調整可能なはんだめっきを開発!!
量産テスト(CP test / FINAL test) 及び、テスト開発(テストプログラム、ボート) を対応します。
ウェハ加工受託サービス
コンパクト設計の卓上式UV(紫外線)オゾン洗浄改質装置『CUVDシリーズ』シリコーンウェハー、半導体部品等の有機汚染物質除去に
プラズマの処理強度や処理時間に応じて連続的に変色しますので、プラズマ処理効果を「色で見える化」できます。
切削加工であれば金型無しで製作可能。
弊社では様々な材質の製品を御客様にご提供致します。
弊社に御一報下さい。弊社のネットワークでお探し致します。
弊社におまかせ下さい。
高温鉛フリーはんだ材料として最適! 金錫合金めっきの量産を実現し、ウエハロス費用を削減!
NASAスペースシャトルに搭載され、実験成功!
1個の試作から量産まで対応!各種ウェハへのめっき承ります!
三ツ矢おすすめの接合めっきをご紹介!
市場から非常に効率的に高品質のシリコンを入手し、ご提供いたします!
イオンクロマトグラフィーによる半導体製造用【高濃度水酸化ナトリウム】溶液中の陰イオンの定量
半導体ウェハー上へのCu成膜に使われる酸性銅鍍金浴の塩化イオン濃度を電位差自動滴定装置を使って品質管理を自動化
ウエハ用洗浄槽の水酸化アンモニウム、過酸化水素、塩酸の同時分析をインライン近赤外分析計でモニタリング!
プロセス分析計 / オンライン分析計でCMT工程における過酸化水素の濃度を常時モニタリング!
半導体産業向け!プロセス分析計 / オンライン分析計で現像液中の水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)をモニタリング!
ISO17463に基づく電気化学測定装置を用いた金属上の有機被膜の評価 - 塗料およびワニス
半導体製造プロセスの工程と品質管理に欠かせない分析法
Moモリブテンとその合金の超薄い高平面度製品加工
Wタングステンとその合金の超薄高精度加工