科学・理化学機器の製品一覧
- 分類：科学・理化学機器
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【重量物の取り扱いによる作業負担を軽減！】お客様の課題を解決した導入事例5選を収録！ワークに応じた無料相談、テストも受付中！
- その他搬送機械
縦型装置として大流量の処理ができ、省スペースの設置し易い装置です。
- 紫外線照射装置
- 紫外線殺菌装置
- 紫外線・オゾン応用殺菌システム・装置
タンク内の貯留⽔の殺菌及び雑菌の繁殖を防ぎます。
- 紫外線照射装置
- 紫外線殺菌装置
- 紫外線・オゾン応用殺菌システム・装置
光化学作用と蛍光作用の強い紫外線315nm～400nmの波長域（UV-A）を放射するランプです。
- 紫外線照射装置
- ランプ・発光素子
光化学作用と蛍光作用の強い紫外線315nm～400nmの波長域（UV-A）を放射するランプです。
- 紫外線照射装置
- ランプ・発光素子
高アスペクトTGV/ TSVに対応可能。ALD用として世界最大チャンバーサイズ（1000mm□）
- その他半導体製造装置
- プラズマ表面処理装置
- 表面処理受託サービス
Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar）
- アニール炉
- 加熱装置
- 電気炉
多元マルチスパッタリング装置【MiniLab-125】Φ8"対応 SiCコーティング 1000℃ヒーターステージ 搭載！コンパクトサイズ！
多元マルチスパッタリング装置（Φ8inch基板対応） ・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ ・RF500W, DC850W両電源を3元カソード（Source1, 2, 3）へ自在に配置変更 ・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード（4）で使用 ・基板加熱ステージ Max800℃（SiCコーティングヒーターでMax1000℃も可能） ・MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー ＜30W 低出力制御ソフトエッチング ・独自の"Soft-Ething"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減 ・タッチパネル又はWindows PC操作：操作が分散せず、全ての操作をタッチパネル/PCで行うことができます。 ・装置設置寸法：1,960(W) x 1,100(D) x 1,700(H)mm ・マルチチャンバー式も製作可能です。 ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
殺菌紫外線253.7nmと同時に、オゾン生成作用をもつ185nmの紫外線を透過するランプです。
- 紫外線照射装置
- 紫外線・オゾン応用殺菌システム・装置
- ランプ・発光素子
殺菌紫外線253.7nmと同時に、オゾン生成作用をもつ185nmの紫外線を透過する石英ガラスを用いたランプです。
- 紫外線照射装置
- 紫外線・オゾン応用殺菌システム・装置
- ランプ・発光素子
小さなボディに大きな除菌力 独自開発UV-C反射技術で処理水量を大幅に向上
- 紫外線照射装置
- 紫外線殺菌装置
- 紫外線・オゾン応用殺菌システム・装置
卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 加熱装置
- 電気炉
- その他ヒータ
BHシリーズ【UHV対応 超高温 真空薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃
高真空対応 多彩なヒーター材質オプション。 PVD（スパッタ、蒸着、EB等）、高温真空アニール、高温解析用基板ステージ、などに応用いただけます。 様々なご要望仕様にカスタムメイド対応致します。 【特徴】 ● 予備ヒーター素線との交換が容易 ●設置、メンテナンスが容易（M6スタッドボルト、支柱） 【対応基板サイズ】 ◉ Φ1inch〜Φ6inch 【標準付属品】 ● 熱電対：素線タイプ アルミナ絶縁スリーブ付き ● 取付用スタッドボルト 【オプション】 ● 標準外ヒーター素線（Nb, Mo, Pt/Re, WRe他） ● 基板保持クリップ ● 取付ブラケット ● 基板ホルダー ● ホルダー設置用タップ穴加工 ● トッププレート材質変更（PBN, 石英, カーボン, Inconel, 他） ● 過昇温用追加熱電対 ● ベースフランジ、真空導入端子
