半導体製造装置の製品一覧

  • 分類:半導体製造装置

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電池の基本概念から、利用目的・実現方法による分類までを体系化。複雑な電池選定の第一歩を、初心者目線で分かりやすくまとめました

  • 電池・バッテリー
  • 技術書・参考書
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静電式により高い捕集率を実現。大型から小型まで豊富なラインアップを展開。水溶性オイルミストにも対応

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  • 空調

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独自の刃先ポジショナーと微調整可能なコレットホルダの採用で目視で素早く正確にドリルのセッティングが可能!

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  • 卓上型ドリル研磨機3.jpg
  • 卓上型ドリル研磨機3.5.jpg
  • 卓上型ドリル研磨機4.jpg
  • 卓上型ドリル研磨機5.jpg
  • 卓上型ドリル研磨機6.jpg
  • ウエハ加工/研磨装置

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溶剤消耗量を減らしてランニングコストを激減! 蒸留&分離で洗浄溶剤を常に再生・再利用する洗浄機です。

  • 超音波洗浄機
  • その他半導体製造装置
  • その他環境機器

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縦型・真空・大気・脱ガスなど多様な熱処理炉を展開し、様々な熱処理ニーズに応じてオーダーメイド対応で提供

  • s1.png
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  • アニール炉

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PCIeケーブルBERTと3.2Tロードマップを初公開。1.6T対応BERT・DCA、高精度SMUも実機デモ展示。

  • オシロスコープ
  • テスタ

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【2026年4月22日(水)~24日(金)】「OPIE ’26(OPTICS PHOTONICS International Exhibition 2026)」出展のお知らせ

当社は、パシフィコ横浜で開催される「OPIE ’26(OPTICS PHOTONICS International Exhibition 2026)」に出展いたします。 当社ブースでは、PXIe/ベンチトップSMUと1.6T対応DCA/BERTを実機デモ展示。 LDテスト(Chip Tester:ダイ、CoC Tester:CoC、CoCバーンイン)をはじめ、 CPO(PIC/OEハンドラ)、PCIe高速ケーブルBER、WAT/WLRまで用途別に提案します。 また、3.2Tロードマップもご紹介いたしますので、ぜひご来場ください。

高感度検出・定量化・可搬性に優れ、品質検査や研究開発の現場に好適。微小な付着異物や傷の検出とその定量評価に貢献いたします。

  • 半導体検査/試験装置
  • その他 衛生検査
  • その他 外観・画像検査装置

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TRACERサムネ.png

Medtec Japan医療機器の設計・製造に関する展示会・セミナーに微粒子可視化システムを出展いたします。(2026.4.21.(火)-4.23.(木)/東京ビッグサイト 東7ホール 207)

自社ブランド「ViEST」として展開している微粒子可視化技術は、マイクロ・ナノサイズの微小粒子の浮遊状態や付着状態をリアルタイムに映像化できる非常に高い水準の検出感度を有しています。 可視化システムの販売や、評価サービス(生産工程・製造装置内外・工場環境等における微粒子や気流の調査、クリーン化商品の性能評価、歩留り改善策の提案等)の受託業務を国内外で展開しています。 医療機器の製造現場において、製造工程中の発塵源の特定、清浄度管理、異物混入リスクの低減などに有効で、品質向上や安定生産に貢献します。  以下は適用例の一部ですが、私達の技術を用いることで、微細な異物による不良率の悪化、清浄気流の見える化、現場のクリーン化に関する悩み、といった諸問題の解決を強く推し進めることができます。 ・製造ライン中の微細粒子や気流の可視化調査と環境改善 ・製造装置内や製造環境のクリーン化推進 ・各種設備性能のクリーン度評価 ・コンタミ問題に起因する歩留まりや品質低下の改善 ・微粒子や気流の可視化を要する研究開発の支援 ・製品からの粒子発生量評価"

0.005mm(5μm)の外形研磨加工で、もの作りを支えます。センタレス仕上げ快削リン青銅丸棒

  • プローブ
  • 半導体検査/試験装置
  • 非鉄金属

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ナノメートル精度のポジショニングステージ。半導体検査装置、半導体製造装置に!

  • 550x550_N2_02.jpg
  • 半導体検査/試験装置

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2605_関西ネプコン.jpg

【2026年5/13(水)~5/15(金)】第2回 関西ネプコンジャパン 出展のお知らせ

当社ブースでは、PLP工程に対応したナノ精度位置決めステージをはじめ、スカラロボットおよび直交ロボットによるトレー段積み/段バラシ工程にAIビジョンシステムを組み合わせた外観検査デモなどをご覧いただけます。また、当社主力製品のリニアガイドウェイでは、半導体製造装置に最適な「ステンレス製リニアガイドウェイ」も展示いたします。半導体製造の高度化と開発効率化に貢献するソリューションを、ワンストップでご提案いたします。

高速フォーカス・高精度検出、ウエハ反りなどによる焦点誤差を解消!

  • 半導体検査/試験装置

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【2026年1/21(水)~1/23(金)】第40回 ネプコン ジャパン 出展のお知らせ

ハイウィン株式会社は、東京ビッグサイトにて開催される 第40回 ネプコン ジャパン に出展いたします。 本展では、PLP工程に対応したナノ精度位置決めステージや、ウエハ検査に活用いただける多軸位置決めステージをご紹介いたします。また、当社主力製品のリニアガイドウェイは、半導体製造装置に最適な「ステンレス製リニアガイドウェイ」もご覧いただけます。

高精度なMEMSデバイス製造をサポートするレジスト剥離・リフトオフ装置

  • 高圧洗浄機
  • レジスト装置

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微細加工プロセスを支える、高性能レジスト剥離装置

  • 高圧洗浄機
  • レジスト装置

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当社のコア技術で、お客様のテーマにお応え!ハイメカはお客様と共に歩んでいきます!

  • 製造受託
  • その他半導体製造装置
  • 基板設計・製造

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半導体製造工程の効率化と品質向上に貢献。専用部品がないのでメンテナンスしやすく、早期復旧が可能です。低コストを実現しています。

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  • 半導体検査/試験装置

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一貫して提供します!電子部品・電子モジュール・電子機器検査装置

  • 半導体検査/試験装置

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可動部にも使える、ブラシシール

  • その他半導体製造装置
  • 基板搬送装置(ローダ・アンローダ)
  • その他搬送機械

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