半導体製造装置の製品一覧

アイソレーターをお持ちの方へ。高い薬品耐性と作業性を実現。低価格、短納期も実現可能なグローブボックス・アイソレーター用グローブ

• 作業用手袋

洗浄可能な、タッチレス(非接触)構造のバルブフィーダー！異物混入リスクを低減しました

• フィーダー

500℃ウエハステージ！プラズマダメージの無いリモートICPソース採用

• その他半導体製造装置

研究開発用、小規模バッチ用！簡易除害ユニットALD Shield Vapor Trap標準搭載

• その他半導体製造装置

基板バイアス機構！当社のマイクロウエーブPECVD/エッチング装置をご紹介

• エッチング装置

最大5(220mm径)又は4(300mm径)ターゲット搭載！イオンビームスパッタ装置をご紹介

• スパッタリング装置

最大200mm径基板！ダブルリングマグネトロン(Fraunhofer FEP)

• スパッタリング装置

メカニカルクランプ又は静電チャック対応！サブナノメーターエッチング機構

• エッチング装置

最大150又は200mmウエハ基板対応！エッチング角度及びステージ傾斜・回転機構

• エッチング装置

インターロックカバーもご用意！研磨作業の更なる効率化を実現しました

• ウエハ加工/研磨装置
• その他加工機械

研究開発用の試料作製に好適！振動と騒音を大幅に抑えることに成功しました

• ウエハ加工/研磨装置
• その他加工機械

主軸に高精度アンギュラベアリングを採用！基準テーブル上で±10μm以内の面振れ精度を実現

• ウエハ加工/研磨装置
• その他加工機械

真空チャック式ホルダーや貼付けホルダーなど、豊富なラインアップをご用意！

• ウエハ加工/研磨装置
• その他加工機械
• その他機械要素

高精度・高効率性を追求した研磨技術！精密研磨装置の総合カタログをプレゼント

• ウエハ加工/研磨装置

固定砥粒盤から遊離砥粒盤、ポリシングクロスまで多種多様な研磨盤をご紹介いたします。

• ＣＭＰ装置
• ウエハ加工/研磨装置
• その他加工機械

手動で研磨盤にダイヤモンド液を吹き付けるよりも経済的！自動噴霧装置をご紹介します

• ウエハ加工/研磨装置
• その他加工機械
• その他理化学機器

エッジのダレが無く、介在物の脱落も無いためEPMA等での評価に適しています！

• ウエハ加工/研磨装置
• その他加工機械