半導体製造装置の製品一覧
- 分類：半導体製造装置
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１００万回繰り返しても壊れない！確実動作と高耐久性・低価格のマットスイッチ。工作機械のオプションなどにも。納期ご相談ください。
- センサ
直径３０ｍｍ程度から8インチ、高ライフタイム、１万オームを超えるような高抵抗も対応可能！薄化、チップ加工もアレンジいたします！
- その他半導体
- 加工受託
- ウエハー
切削加工では困難な超高精度を実現。内外面めっきによる低抵抗化で、半導体検査プローブの長寿命化や医療用部品の課題を解決します。
- 半導体検査/試験装置
｢21世紀版薄膜作製応用ハンドブック｣から17年、基礎を押さえつつ、新規応用分野を充実させ発刊！
- 技術書・参考書
- その他表面処理装置
- その他半導体製造装置
高加速電圧100ｋVの高精度タイプからSEM機能も有するユニバーサルタイプの電子線描画装置をラインナップ、各種ニーズに対応可能
- 電子ビーム描画装置
- その他表面処理装置
ケーブル障害やVSWRの測定作業に時間を取られていませんか？高度なRFパラメータ表示と多機能統合で検証工数を大幅削減
- テスタ
ドリル研磨のブレや刃先破損にお悩みの方へ！平面研磨方式で加工精度向上と工具寿命延長を実現
- ウエハ加工/研磨装置
独自の刃先ポジショナーと微調整可能なコレットホルダの採用で目視で素早く正確にドリルのセッティングが可能！
- ウエハ加工/研磨装置
刃先強度＆工具寿命を向上！熟練工不要の『卓上型ドリル研磨機』【9/1-12/31まで砥石 or LEDルーペ付ポジショナー進呈】
- ウエハ加工/研磨装置
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。
- スパッタリング装置
- 蒸着装置
- アニール炉
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】自動連続多層膜・同時成膜 RF/DC/PulseDC
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
狭所でも精細な研削・切断作業が安全で楽に行えるアングルグラインダー＆カッター！グラインダーが入らない狭い隙間での研削・切断が可能
- カッター
- ウエハ加工/研磨装置
◉ 短時間 1バッチわずか30分で容易にグラフェン合成実験が可能 ◉ 高精度温度・圧力制御 ◉ 洗練されたソフトウエア
- CVD装置
VOXIA compact X線CT撮影装置
コンパクト設計、設置場所を選ばない省スペース設計。 コンパクトボディながら高度計算ソフトにより高解像度のデータを生成します。 ＊ X線管電圧：20〜90kV, 又は40〜最大130kV ＊ 焦点径：7μm（5μm@4W） ＊ 検出器画素：89μm、約320万画素！ ＊ サンプルサイズ：Φ120mm ◉ Vcap（制御ソフト）： 撮影対象物、目的に合わせたカスタムメイドの撮影ステージ。撮影から画像出力までの一連の作業をクリック操作だけで行えます。最速20秒で高速連続撮影、撮影開始から画像再構成まで約30秒で処理 ◉ VCT（再構成ソフト）： ご指定の撮影対象物に特化した自動計測・解析ソフトをカスタマイズ可能 撮影画像992 x 992ピクセル、プロジェクション数600の撮影データをわずか3.8秒で高速再構成！ ◉ MolcerPlus（3D表示解析）： 従来他のソフトウエアで困難であった測定条件を可能にするカスタムソフトウエア 画像化した物体を、表示・加工・計測するためのソフトウエア ●高い安全性、 ●多種・多様なサンプルにも対応 ●直感的HMI、簡単操作
「コーティングの効果を事前に確かめておきたい」 そんなニーズにお応えするため、吉田SKTではコーティング面の測定も承ります。
- レジスト装置