加熱装置・炉の製品一覧
- 分類：加熱装置・炉
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１００万回繰り返しても壊れない！確実動作と高耐久性・低価格のマットスイッチ。工作機械のオプションなどにも。納期ご相談ください。
- センサ
直径３０ｍｍ程度から8インチ、高ライフタイム、１万オームを超えるような高抵抗も対応可能！薄化、チップ加工もアレンジいたします！
- その他半導体
- 加工受託
- ウエハー
試作原料を少量レベルで焼成できる小型サイズの試験用ロータリーキルンです。
- 工業炉
ロータリーキルン処理が不可な原料および各種テスト用、少ロット生産可能な小型バッチ炉をご提案します。
- 工業炉
長時間 (4h以上) の焼成が必要なサンプルはバッチタイプのロータリーキルンを推奨しています。
- 工業炉
火災・爆発事故の多いアルミ切粉等 (活性金属) を安全に付着油水分除去し、安定操業＆付加価値向上を実現します。
- 工業炉
ブリケットリサイクルで困っているユーザー様へ、ブリケットの“品質向上”と“安全溶解”を提供します。
- 工業炉
従来方式 (直接燃焼するタイプ他) と比較し、高付加価値効果および省エネの過熱水蒸気システムを提案致します。
- 工業炉
カーボンヒータ、カーボンレトルト採用により不活性ガス雰囲気下での連続焼成を可能にしたロータリーキルンを提供しています。
- 工業炉
High Temp. Continuous Firing Furnace
- セラミックヒータ
テルモセラ・ジャパン研究開発用実験炉を紹介。燃料電池・セラミックス等の材料開発・黒鉛・等の超高温実験に活用頂けます。
- 電気炉
高温アニール炉 ◉Mini-BENCH-prism セミオート式 超高温実験炉 Max2000℃ 真空・大気圧ガス置換焼成（Ar, N2, O2）
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオート制御：真空/パージ、ガス置換、ベントの各工程を自動制御 ◉使用雰囲気：真空、大気圧ガス置換焼成（Ar, N2, O2）、APCプロセス圧力制御 ◉ヒーター材質： ・C/Cコンポジット ・SiC/TaCコーティング ・タングステン ◉有効加熱範囲 ・面状ヒーター加熱範囲：Φ2inch〜Φ6inch ・円筒状ヒーター加熱範囲：Φ30〜Φ80 x 深さMax100(H)mm ◉到達真空度：10-3 Pa台（@1800℃ *但し空炉、高真空ポンプ仕様の場合） ◉MFC最大3系統 自動流量制御（又は手動） ◉APC圧力制御（オプション） ◉インターロック：冷却水異常・チャンバー温度異常・過昇温異常 ◉小型・省スペース：幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm（*ロータリーポンプ筐体内設置） ◆主な応用アプリケーション◆ ・新素材開発 ・材料分析 ・その他各種先端材料開発に応用
