加熱装置の製品一覧
- 分類：加熱装置
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【重量物の取り扱いによる作業負担を軽減！】お客様の課題を解決した導入事例5選を収録！ワークに応じた無料相談、テストも受付中！
- その他搬送機械
日酸TANAKAの生産するガス溶断、一般工業用製品を網羅したカタログです
- 塑性加工機械(切断・圧延)
- 加熱装置
- 圧力制御
加熱乾燥工程の自動化に最適！放熱、炉体周辺温度の上昇を抑え、省エネに貢献！ オーバーシュートの無い均熱精度の高い加熱装置を提供
- 加熱装置
年間最大60％の省エネを実現！熱ロールの課題を解決し、生産性向上に寄与する誘導発熱ジャケットロール！省エネ事例進呈中！
- 加熱装置
SEMICON Japan 2024へ出展いたします
弊社では2024年12月11日 (水) 〜 13日 (金)にかけて東京ビッグサイトで開催される SEMICON Japan 2024へ出展いたします 昨年同様、各種光加熱製品を出展しますので、ご来場をお待ちしております。
お客様の製品とプロセスに応じて精密に調整可！赤外線技術を用いて解決策をご提案しています
- 加熱装置
- その他ヒータ
自動車製造プロセスにおけるプロセス時間の短縮、コスト削減、省エネルギー等、プロセスの高効率化をもたらします！
- 加熱装置
- 乾燥機器
- その他ヒータ
Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar）
- アニール炉
- 加熱装置
- 電気炉
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
CFRP部材の耐摩耗性向上やSiC部材の酸化・反応防止などに対応。CO2排出量削減、カーボンニュートラルなどの実現を支援
- 加熱装置
- 表面処理受託サービス
- その他搬送機械
