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１００万回繰り返しても壊れない！確実動作と高耐久性・低価格のマットスイッチ。工作機械のオプションなどにも。納期ご相談ください。

センサ

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直径３０ｍｍ程度～8インチまで対応可能　高抵抗FZウエハ

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株式会社エナテック東京本社

直径３０ｍｍ程度から8インチ、高ライフタイム、１万オームを超えるような高抵抗も対応可能！薄化、チップ加工もアレンジいたします！

その他半導体
加工受託
ウエハー

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多角度測定での動的光散乱測定　

後方・側方・前方の3角度での動的光散乱測定で分離能を向上

その他理化学機器

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【2026年12月9日(水)～11日(金)】「SEMICON Japan」出展のお知らせ

当社は、東京ビッグサイトで開催される「SEMICON Japan」に出展いたします。半導体製造プロセスからアプリケーションまでを網羅し、先進技術を体験できます。大塚電子では、ラインスキャンのモックアップ、スマート膜厚計などを展示予定。ぜひ当社ブースにて実機をお近くでご覧ください。皆様のご来場をお待ちしております。

『レーザー溶接用マイクロワイヤー』

テラスレーザー株式会社

毎日使うものだから、よいものを少しでも安く提供したい

鉄鋼

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多検体ナノ粒子径測定システムを用いたエマルションの粒子径測定　

O/Wエマルションの粒子径測定

その他計測・記録・測定器

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【2026年12月9日(水)～11日(金)】「SEMICON Japan」出展のお知らせ

当社は、東京ビッグサイトで開催される「SEMICON Japan」に出展いたします。半導体製造プロセスからアプリケーションまでを網羅し、先進技術を体験できます。大塚電子では、ラインスキャンのモックアップ、スマート膜厚計などを展示予定。ぜひ当社ブースにて実機をお近くでご覧ください。皆様のご来場をお待ちしております。

粒子径・ゼータ電位測定による無機粒子の分散性評価

コロイド分散系における無機粒子のｐHタイトレーションによる等電点の評価

分析機器・装置

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【2026年12月9日(水)～11日(金)】「SEMICON Japan」出展のお知らせ

当社は、東京ビッグサイトで開催される「SEMICON Japan」に出展いたします。半導体製造プロセスからアプリケーションまでを網羅し、先進技術を体験できます。大塚電子では、ラインスキャンのモックアップ、スマート膜厚計などを展示予定。ぜひ当社ブースにて実機をお近くでご覧ください。皆様のご来場をお待ちしております。

プリンター用インクのゼータ電位・粒子径測定　

株式会社マコメ研究所 (MACOME) 本社・伊那工場

高濃度試料のゼータ電位・粒子径測定による分散安定性評価

その他理化学機器

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【2026年12月9日(水)～11日(金)】「SEMICON Japan」出展のお知らせ

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【船舶向け】傾斜計CM-961A

MEMS加速度計搭載、IP67の傾斜計で船体の安定をサポート

その他計測・記録・測定器

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プリンター用インクを高濃度状態で粒子径・粒子径分布測定　

株式会社マコメ研究所 (MACOME) 本社・伊那工場

有機顔料の分散性を高濃度状態で評価

分析機器・装置

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【土木向け】傾斜計CM-961A：地盤の安定監視に

MEMS加速度計搭載、IP67の傾斜計。地盤監視の安全性を向上。

その他計測・記録・測定器

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ゼータ電位・粒度分布測定　コロイド粒子のｐH依存性評価

ゼータ電位・粒子径・分子量測定システムを用いたDDSナノ材料リポソームの等電点評価

分析機器・装置

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【2026年12月9日(水)～11日(金)】「SEMICON Japan」出展のお知らせ

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粒子径・粒子径分布測定装置　リポソームの粒子径評価　

粒子径測定装置を用いた種類の異なるリポソームの粒子径評価

分析機器・装置
その他検査機器・装置

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ELSZneoを用いた固体表面ゼータ電位測定　

研磨パッドの表面ゼータ電位測定

その他理化学機器
その他検査機器・装置

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砥粒の異なるCMPスラリーの分散性評価　

CMPスラリーの等電点測定から分散性を評価

その他理化学機器
分析機器・装置

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CMPスラリーの塩濃度によるゼータ電位の制御　

ゼータ電位測定でCMPスラリーの分散・安定性を評価

その他理化学機器
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固体表面のゼータ電位測定　

ゼータ電位からCMPスラリーとウェーハの静電相互作用を評価

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ゼータ電位・粒子径測定によるＣＭＰスラリーの評価　