すべての製品一覧
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【重量物の取り扱いによる作業負担を軽減！】お客様の課題を解決した導入事例5選を収録！ワークに応じた無料相談、テストも受付中！
- その他搬送機械
リサイクルプラスチックの異物評価、粉砕～成形～物性測定、組成分析まで幅広く評価可能!
- 受託測定
- プラスチック
- エンジニアリングプラスチック
注文書・請求書等のPDFデータを自動抽出し業務効率化を実現！OCRとは違い誤認識なしでRPAとも連携可能。
- 会計・財務
- 文書・データ管理
生産性が30％以上向上も！軽量化・タワミ量の軽減・振動減衰性の向上が可能です ～SEMICON JAPAN2024出展～
- プラスチック
軽くて強いカーボン（CFRP）は半導体製造装置部品や搬送装置などで実績多数！製品の軽量化や生産性UPを叶えます！
- プラスチック
カーボン製品物販サイトリニューアルオープンのお知らせ
TIP composite株式会社では、CFRP（カーボン繊維強化プラスチック）製品の 物販サイト【ZERO CARBON】を2022年6月1日にリニューアルオープンいたしました。 CFRP製の平板やLアングル、Cチャンネルなど成形品をはじめ、 CFRPで製作したスケールやアタッシュケースを取り扱っております。 ぜひご利用ください。
排熱なしで空間を効率的にクールダウン！一般的な100Vコンセントに繋ぐだけで即稼働。外気温から最大 -6℃の冷風も。
- 冷却装置
製造業における情報共有の革新！情報漏えいリスク低減と利便性を両立するセキュリティシステムの最適解に迫る
- その他セキュリティ
- 文書・データ管理
機密文書の情報漏洩を防止しながら、技術資料や図面などの重要な製造ノウハウを安全に共有できます！
- その他セキュリティ
- 文書・データ管理
ロボット制御、機械設計、プログラミングまで一貫対応で、設備立上げの無駄を削減。
- 3次元CAD
- その他受託サービス
各種業界から注目されているカーボン（CFRP:炭素繊維強化プラスチック）。なにがすごいの？そんな疑問にお答えします。
- プラスチック
ロボット設備の構想設計からティーチング、制御までをワンストップ対応。事前検証により短納期・高品質・低コストを実現。
- 3次元CAD
- その他受託サービス
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
- 蒸着装置
- スパッタリング装置
- アニール炉
【MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉】Max 2000℃_ウエハー高温焼成専用（6inch〜8inch）
Max2000℃ Φ6〜8inchウエハー専用高温アニール装置 小規模生産も可能なマルチ雰囲気ウエハーアニール装置 ◾️ Max2000℃ ◾️ 有効加熱範囲：Φ6〜Φ8inch 枚葉式、又はバッチ式（多段5枚カセット） ◾️ ヒーター制御：1ゾーン、又は2ゾーン（カスケード制御） ◾️ ヒーター材質： ・C/Cコンポジット：Φ6〜Φ8inch ・PGコーティング 高純度グラファイト：Φ6〜Φ8inch ◾️ 使用雰囲気： ・真空（1x10-2Pa）、不活性ガス（Ar, N2） ◾️ PLCセミオート運転 ・真空/パージサイクル、ベントの自動シーケンス制御 ・フルオート自動運転（オプション） ・タッチパネル操作、操作が分散せず一元管理が可能です。 ◾️ プロセス圧力制御 ・APCコントロール（MFC流量、又は自動開度調整バルブ PIDループ制御） ・MFC最大3系統流量自動制御、又はフロートメーター/ニードルバルブの手動調整 ◾️ PLOT画面グラフ表示、CSVデータ出力
縦型装置として大流量の処理ができ、省スペースの設置し易い装置です。
- 紫外線照射装置
- 紫外線殺菌装置
- 紫外線・オゾン応用殺菌システム・装置
タンク内の貯留⽔の殺菌及び雑菌の繁殖を防ぎます。
- 紫外線照射装置
- 紫外線殺菌装置
- 紫外線・オゾン応用殺菌システム・装置
UV-A、UV-B、UV-Cランプをはじめ、さまざまな用途に対応した紫外線ランプや紫外線照射装置を提供しております。
- 紫外線殺菌装置
- 紫外線・オゾン応用殺菌システム・装置
- ランプ・発光素子
光化学作用と蛍光作用の強い紫外線315nm～400nmの波長域（UV-A）を放射するランプです。
- 紫外線照射装置
- ランプ・発光素子
コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの薄膜モジュールを組込み、様々な用途に対応するマルチ薄膜装置
- スパッタリング装置
- 蒸着装置
- CVD装置
ウエハーアニール装置【ANNEAL】Max1000℃ APC自動圧力制御 MFC x3系統 Φ4〜6inch基板対応
Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"〜最大6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar） [ANNEAL]は、ウエハー等の基板を安定したプロセス雰囲気にて高温熱処理が可能な研究開発用アニール装置です。 高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により３種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター：Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター：Max1000℃（真空中、不活性ガスのみ） ・SiCコーティングヒーター：Max1000℃（真空、不活性ガス、O2）
光化学作用と蛍光作用の強い紫外線315nm～400nmの波長域（UV-A）を放射するランプです。
- 紫外線照射装置
- ランプ・発光素子
高アスペクトTGV/ TSVに対応可能。ALD用として世界最大チャンバーサイズ（1000mm□）
- その他半導体製造装置
- プラズマ表面処理装置
- 表面処理受託サービス
