科学・理化学機器の製品一覧
- 分類：科学・理化学機器
3736～3780 件を表示 ／ 全 34022 件
サンプル管理業務のデジタル化！業務効率化とトレーサビリティ構築に便利なサンプル保存用チューブ
- 樹脂器具・容器
卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 加熱装置
- 電気炉
- アニール炉
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 加熱装置
- アニール炉
- 電気炉
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 加熱装置
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 加熱装置
- 電気炉
- その他ヒータ
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
Altera(Intel) Agilex FPGA AGFB014R24B2E2V PCIeボード Terasic 立野電脳から
- その他理化学機器
- サーバ監視・ネットワーク管理ツール
- その他電子部品
RFID無線技術の活用により、可視情報が霜や汚れ、滲みで見えない場合でも認識可能なため、取り違いを防止し、安全確実に管理します。
- ガラス器具・容器
様々な母材に対して施工可能！離型剤の種類も多種多様なので、幅広い要求にお応えします
- コーティング剤
- 加工受託
- 表面処理受託サービス
トラフに対する離形性付与！オーダーメイドのコーティング仕様を提供
- コーティング剤
- 加工受託
- 表面処理受託サービス
様々な母材に対して施工可能！アメリカ生まれの特殊離形性コーティング
- コーティング剤
- 加工受託
- 表面処理受託サービス
鉄やSUS ・アルミなどの金属はもちろん、CFRPやエンジニアリングプラスチックにも施工可能
- コーティング剤
- 加工受託
- 表面処理受託サービス
離型性・グリップ力・滑りやすさ・耐摩耗などの特性を付与！幅広い産業分野で使用されています
- コーティング剤
- 加工受託
- 表面処理受託サービス
nano tech 2026に出展いたします！（1/28～30）
nano techは、研究開発の重要な共通基盤技術であるナノテクノロジーを軸に 未来技術の社会実装を探求する場として、革新的な材料や次世代デバイスが集結、 研究開発の事業化とイノベーション共創を実現する展示会です。 ナノテクノロジーにかかわる多くの企業が出展いたしますので、 情報収集としてぜひご来場ください！ 弊社のブースでは、金属ナノ粒子やPVB樹脂などの処理事例や、 1台で乳化・分散・解繊・破砕が可能な「ナノヴェイタ」、分液混合配管「ダマトリ」、 高粘度・高濃度材料の混合にも対応した「マルチダマトリ」を展示します！ ぜひお気軽にお立ち寄りくださいませ！
分析・評価装置の温度制御を高精度で支援。安定した熱源を提供するフィルムヒーター。
- その他ヒータ
- 表面処理受託サービス
均一な熱で焼き上げ・乾燥・保温を実現。食品設備の品質を支えるシート状のポリイミドヒーター。
- その他ヒータ
- 表面処理受託サービス
薄く、軽く、確実に発熱。電子機器の性能を支える温度制御技術で、限られたスペースでも効果を発揮する薄型ヒーターです。
- その他ヒータ
- 表面処理受託サービス
体温管理から美容デバイスまで。精密な熱制御で、安心・安全な製品を実現する薄型ヒーターです。
- その他ヒータ
- 表面処理受託サービス
クリーンルーム環境でも安定稼働。精密工程を支える高精度な温度制御技術で、有したフィルムヒーターです。
- その他ヒータ
- 表面処理受託サービス
量産の背景があればデモサンプル基板を製作可能です！電子基板の吸湿を防ぎ腐食防止に貢献します。
- その他受託サービス
- 表面処理受託サービス
建材、車載、空調機器用に！900℃の電気式空気加熱装置による 『ろう付け工法』！火炎レス装置で脱CO2ろう付けを達成！
- 加熱装置
ZERO-I（ゼロワン）コーティングに新ラインナップ登場！！ 金型の寿命向上に貢献
SEAVAC株式会社（本社：兵庫県尼崎市、取締役社長：立田愛）は、金型の寿命を向上させる新しいPVDコーティング製品「ZERO-IWコーティング」と「ZERO-IPLUSコーティング」を2025年10月1日より日本国内においてサービスを開始いたします。 「ZERO-IWコーティング」（ゼロワン・ダブル）は、従来品で定評のあるZERO-Iコーティングの特性をベースに膜厚が従来比の約2倍となり、耐摩耗性が向上することで金型の寿命をより向上させます。本製品は、超ハイテン材加工向けのプレス金型や温・熱間鍛造金型、ダイキャスト金型など厳しい使用条件下における生産現場にも対応いたします。 「ZERO-IPLUSコーティング」（ゼロワン・プラス）は、従来のZERO-Iと同等の膜厚ながら、相手攻撃性を抑え、離型性、滑り性を重視しております。この特徴を活かし、鉄の凝着摩耗を抑え、金型寿命を向上させます。従来の冷間鍛造に加え、ステンレス材のような難加工材にも対応できると想定しております。 詳細につきましては、お問い合わせください。
直観的に操作可能！フィルタータイプのマイクロプレートリーダーのご紹介
- その他理化学機器