半導体製造装置の製品一覧
- 分類：半導体製造装置
946～990 件を表示 ／ 全 4990 件
【重量物の取り扱いによる作業負担を軽減！】お客様の課題を解決した導入事例5選を収録！ワークに応じた無料相談、テストも受付中！
- その他搬送機械
【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能CVD装置
- CVD装置
- アニール炉
- 加熱装置
nanoPVD-S10Aスパッタ装置 標準規格品登場！従来よりお求めやすい価格・短納期でご提供可能になりました。
標準 在庫規格品、従来よりお求めやすい低価格・短納期でのご提供が可能になりました。 *下記構成に限ります。又、在庫状況も変わりますので詳細は当社までお問い合わせください。 【nanoPVD-S10A標準構成仕様】 ● 基板ステージ：Φ4inch、基板シャッター付 ● 最高到達圧力：5 x 10-5 Pa（10-3paまで10分、10-4paまで20分以内） ● 2"マグネトロンカソード x 2：自動連続多層膜, 2源同時成膜（RF/DCのみ） ● RF150W、DC780W 電源搭載 ● プロセスガス3系統（Ar, O2, N2） ● 主排気TMP、粗挽RP（*ドライポンプ オプション） ● Windows PCリモートソフトウエア"IntelliLink"付属：システムライブモニター、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング ● 水晶振動子膜厚センサ付属 【主な用途】 ・酸化膜、絶縁膜 ・金属・合金、導電性膜 ・化合物、反応性膜、他 【オプション】 ◉ 基板加熱ヒーター500℃、磁性材用カソード、ドライスクロールポンプ、など
スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに金属蒸着・有機蒸着・スパッタカソードを設置
- スパッタリング装置
- 蒸着装置
- アニール炉
ウエハーアニール装置【ANNEAL】Max1000℃ APC自動圧力制御 MFC x3系統 Φ4〜6inch基板対応
Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"〜最大6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar） [ANNEAL]は、ウエハー等の基板を安定したプロセス雰囲気にて高温熱処理が可能な研究開発用アニール装置です。 高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により３種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター：Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター：Max1000℃（真空中、不活性ガスのみ） ・SiCコーティングヒーター：Max1000℃（真空、不活性ガス、O2）
安心のCEマーキング適合品！超低速ディップコーターで品質と信頼を
- その他半導体製造装置
- 表面処理受託サービス
- その他表面処理装置
DCパルススパッタリングが可能(導電性ターゲット使用した絶縁膜のリアクティブスパッタ)！
- スパッタリング装置
量産および試作開発で優れた高精度搭載精度を発揮。 ※ボンディングに関する技術資料を配布中
- その他半導体製造装置
シングルチャンバーで各種洗浄からスピン乾燥まで完結。省スペース設計で研究開発や小ロット生産に対応
- その他半導体製造装置
ステンレス材質のスタンドやベースを使用することで機械腐食を軽減し長期安定稼働を実現します。
- ウエハ加工/研磨装置
研磨PADの修正に当たり前のように使っているDP付修正キャリアですが、実はおおきなデメリットもあります。それが何かわかりますか？
- ウエハ加工/研磨装置
研磨の基本は研磨パッドの精度の維持管理です。次のような症状が見られたら危険です。
- ウエハ加工/研磨装置
研磨ではパッドの精度管理が重要ですが、PADの種類を考慮した修正キャリアを使ってますか？カスタムすると精度管理も楽になります。
- ウエハ加工/研磨装置
- ミラー
- フォトマスク
開発期間の短縮・コストメリットに！複雑形状組付品の一体化や中空化、肉抜き造形による部品の軽量化・材料ロスにも繋がるメリットを紹介
- その他半導体製造装置
不良検出の時間が早く、より視認性の高く、チップへの傷への配慮が成された半導体用コレット
- その他半導体製造装置
回転機構標準装備のUV照射装置『TTUV011』3Dプリンタ追露光、塗装やコーティング硬化、ダイシングテープ剥離など
- その他半導体製造装置
超々微粒合金による超硬丸ナイフなど、さまざまな業界で当社提案の産業用刃物を導入して頂いています。
- その他半導体製造装置
最大サイズ1,200mm×3,600mmまで製作可能 ガラス／樹脂どちらでも製作可能
- 半導体検査/試験装置
- その他理化学機器
- その他
各工程の手作業から半自動・自動化への問題解決なら当社にお任せ！
- その他半導体製造装置
- その他検査機器・装置
- ディスペンサー
フランスで設計・製造された業界最小、ウエハトレイのみ交換で2～12インチウエハ対応、Corial 300・500シリーズ
- エッチング装置
【ラインアップを3→6種に拡充】ISOクラス1対応、クリーン環境向けの薄型ケーブル保護管。高い耐摩耗性、効率的なケーブル交換
- その他半導体製造装置
- その他ケーブル関連製品
- 配線部材
【プレスリリース】6,000万回往復後も最高クラスのクリーンルーム清浄度を実証
イグス（本社ドイツ）は、独自の試験でクリーンルーム用エネルギー供給システム e-skin flatシリーズの非常に高い耐摩耗性と信頼性を実証しました。 ディスプレイや半導体などの製造では、肉眼で見えない小さな粒子であっても 電子部品に深刻な影響を及ぼします。そのため最高水準のクリーンルームの環境を 整えることが重要であり、全てのシステムコンポーネントに厳しい要件が求められます。 当社では、ISO 14644-1に準拠したクリーンルーム等級で厳しいクラス1（1m3の空気中に 0.1μmの粒子が10個以下）に適合するよう、耐摩耗性に優れた高性能プラスチック製 ケーブルガイドシステム e-skin flatを開発。 約1年半の連続使用で6,000万回往復させた後、クリーンルーム試験室で100分以上 稼働させたところ、最高クラスのクリーンルーム清浄度であるISOクラス1を維持していることが 確認されました。