更新日： 集計期間:2025年11月19日～2025年12月16日
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精密写真技術を用いた微細加工を少量の試作より承ります。
MEMSや表示デバイス等における要素技術であるフォトエッチング・精密写真技術を用いた微細加工を少量の試作より承ります。ガラス基板、Siウエハ、フィルム、セラミックス等の基板上に薄膜を形成し、フォトリソグラフィー方式により微細なパターンを一貫加工にて形成致します。一枚からの試作に対応可能です。ダイシング、バンプ形成等の試作も対応いたします。また、リフトオフ加工にて、誘電体膜や多層膜のパターン化も可能です。基板サイズは任意にて対応可能。Siウエハやガラス基板のエッチングも可能です。短納期にて対応（要御相談）、リジッド、FPC基板にも対応いたします。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
回折格子や位相板などの特殊な光学効果を発生させることが可能！
「エッチング」は、光学素子の表面に微細なパターンを 形成するために用いられる技術です。 ドライエッチングとウェットエッチングの二種類があり、 どちらの方法も、マスクと呼ばれるパターンを持った薄膜を光学素子に 貼り付けて、除去したい部分と残したい部分を区別します。 また、エッチングによって、光学素子のサイズや形状を微調整したり、 表面の粗さや平坦度を改善したりすることもできます。 【特長】 ■レンズやミラーなどの反射率や透過率を調整できる ■回折格子や位相板などの特殊な光学効果を発生させることができる ■光学素子のサイズや形状を微調整できる ■表面の粗さや平坦度を改善できる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
フォトエッチングとNDコートで、半導体や医療機器の精度を向上
セントラル光学株式会社のフォトエッチング技術は、半導体検査装置や医療機器、照明関連の部品に最適です。 微細なパターン加工により、設計の自由度を広げ、製品の精度を向上させます。 また、NDコートを用いて、光量調整や汚れ防止機能を加えることで、製品の耐久性と性能を強化。 異業種からの引き合いにも柔軟に対応し、技術力を活かした最適なソリューションを提供します。 お客様の要望に合わせて、さまざまな課題に対応した高品質な製品作りをサポートします。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
