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高速フォーカス・高精度検出で、組立工程の品質と効率を向上！
精密機械組立の分野では、部品の正確な位置決めと組み立てが、製品の品質と性能を左右する重要な要素です。特に、微細な部品の組み立てや、高精度な位置決めが求められる工程においては、わずかな誤差が製品の不良や性能低下につながる可能性があります。多軸位置決めステージ【MD-ZT】は、Z軸、Rx軸、Ry軸、Rz軸、およびLift-Zの5軸自由度を備え、精密な位置決めを可能にします。ウエハ反りなどによる焦点誤差を解消し、組立工程の効率化と品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・精密部品の組み立て ・光学部品の位置決め ・半導体製造装置 ・検査装置 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・組立時間の短縮 ・不良品の削減 ・作業効率の向上
ウエッジ角度によるエラーが皆無
FZくさび形ステージ（FZ080）は、くさび形機構による精密な垂直移動ステージです。80mmの正方形のステージは、直線移動するために精密なクロスローラーを利用しており、垂直方向に10mmの移動が可能です。くさび形機構は、高精度の光学位置センサーを使用して、垂直変位をエンコードしています。そのため、任意の方向からのアクセスを提供できます。
床面積を約2倍にも有効活用することができます
パレットステージとは、倉庫内部の空間利用効率化を目的とした中二階式の棚のことです。組み立て解体も容易で、工期も短く済みます。 【倉庫や工場、店舗の上部空間に必要最適な面積のラックをつくり保管効率を高めます】 倉庫の増築や拡張が困難な場合や、在庫品が増大した時、限られた床面積を約2倍に有効活用することができる積層棚・形鋼棚、パレットステージです。また、ユニット化された部材の組合わせによる自立構造で、短期間に設置できます。
PI社：ヘキサポッド位置決めシステムのグローバルカンパニー・高精度ヘキサポッド位置決めステージ一覧
PI社のヘキサポッド6軸ステージは、40年以上前から、ピエゾステージ同様に独自開発・自主生産をしており、ピエゾ位置決め製品と同様にヘキサポッドでもマーケットリーダーです。 ＜ヘキサポッドの特徴＞ ・回転中心を任意位置に簡単設定 ・パラレル駆動で累積誤差がない ・コンパクトで高剛性で高安定性 ・設置向きが任意でも可能 など ※製品につきましてはカタログや弊社HPをご参考にしてください。 ヘキサポッドの動画もございます。
開口付で高剛性、1µm未満の偏心と平坦度を実現する高速・高精度回転ステージ
レーザー加工業界では、高精度な位置決めと安定した動作が求められます。特に、微細加工や精密なパターン形成においては、位置ずれや振動が加工精度に大きく影響します。ダイレクトドライブ高精度回転ステージ V-62xシリーズは、1µm未満の偏心と平坦度により、レーザー加工の精度向上に貢献します。 【活用シーン】 ・角度依存の微細パターン加工 ・光学部品・精密部品の試作加工 ・レーザー加工プロセス開発・条件検証 【導入の効果】 ・加工精度・加工品質の向上 ・微細加工の再現性向上 ・加工プロセスの信頼性向上
開口付、高剛性、1µm未満の偏心と平坦度を実現
半導体製造業界では、ウェーハやマスクなどの精密な位置決めが、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細加工技術の進展に伴い、より高い精度と安定性が求められています。位置決めの精度が低いと、加工不良やデバイスの性能低下につながる可能性があります。ダイレクトドライブ高精度回転ステージ V-62xシリーズは、優れた回転精度と微小なティルトエラーを実現し、高度なアライメントや回転制御を可能にします。 【活用シーン】 ・ウェーハプロービング ・マスクアライメント ・レーザー加工 ・検査装置 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる歩留まり向上 ・高速・高精度動作による生産性向上 ・幅広い分野への対応
非接触・無摩耗で長寿命、ナノメートル単位の滑らかな動作を実現
ロボティクス業界では、精密な位置決めと滑らかな動作が、ロボットアームや精密機器の性能を左右します。特に、高速かつ正確な位置決めが求められる場面では、摩擦やバックラッシュによる誤差は許容されません。PIglide A-121は、これらの課題を解決するために開発されました。 【活用シーン】 ・ロボットアームの位置決め ・精密組み立て工程 ・検査装置 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる作業効率の向上 ・非接触構造による長寿命化 ・メンテナンスコストの削減
摩擦ゼロ、高精度位置決め。光学機器の調整作業を革新。
光学機器業界では、レンズやミラーなどの精密な調整が、製品の性能を左右する重要な要素です。特に、微細な位置調整が求められる場面では、精度の高いステージングシステムが不可欠です。調整の精度が低いと、光学系の性能が低下し、最終的な製品の品質に悪影響を及ぼす可能性があります。A-143 PIglideは、ナノメートルレベルの精度で位置決めを行い、光学機器の調整作業を効率化します。 【活用シーン】 ・光学レンズの位置調整 ・精密測定器のキャリブレーション ・光ファイバーアライメント 【導入の効果】 ・高精度な調整作業の実現 ・作業時間の短縮 ・製品品質の向上
レーザー切断の精度を向上。±0.2 µmの高精度位置決めを実現。
レーザー加工業界では、高品質な切断を実現するために、ワークの位置決め精度が重要です。特に、微細加工や高精度な切断が求められる場合、位置決め誤差は製品の品質に直接影響します。A-143 小型リニアエアベアリングステージは、±0.2 µmの位置精度により、レーザー加工における位置決め精度を格段に向上させ、高品質な切断を可能にします。 【活用シーン】 ・レーザーカッター ・レーザーマーキング 【導入の効果】 ・高精度な切断による製品品質の向上 ・歩留まりの向上 ・加工時間の短縮
摩擦ゼロ、±0.2 µmの高精度位置決めを実現する小型ステージ
半導体製造業界では、ウェーハやマスクなどの精密な位置決めが、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細加工や検査工程においては、ナノメートルレベルの精度が求められます。位置決めの精度が低いと、不良品の発生や生産効率の低下につながる可能性があります。A-143 高精度リニアエアベアリングステージは、非接触構造により摩耗や潤滑の必要がなく、長寿命かつクリーンルーム対応を実現し、半導体製造における高精度な位置決めニーズに応えます。 【活用シーン】 ・半導体製造装置 ・検査装置 ・計測機器 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・非接触構造による長寿命化 ・クリーンルーム対応による高い信頼性
摩擦ゼロ、高精度位置決めを実現する小型エアベアリングステージ
精密測定の分野では、高精度な位置決めが不可欠です。特に、微細な構造の計測や検査においては、わずかな振動や誤差が測定結果に大きな影響を与えます。A-143 PIglideは、非接触構造により摩耗や潤滑の必要がなく、長寿命かつクリーンルーム対応を実現し、ナノメートルレベルの精度が求められる計測用途に最適です。 【活用シーン】 ・精密測定機器 ・検査装置 ・光学機器 【導入の効果】 ・高精度な測定結果の実現 ・安定した計測環境の構築 ・長期的な運用コストの削減
ナノレベルの精度で、半導体製造プロセスを革新。
半導体製造業界では、高精度な位置決めが歩留まりと製品品質を左右する重要な要素です。特に、ウェーハの検査や露光工程においては、ナノメートル単位の正確な位置決めが求められます。従来の回転ステージでは、摩擦による微小なブレや偏心が発生し、これが品質低下の原因となる可能性があります。PIglide A-62xシリーズは、摩擦のないエアベアリング技術により、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査 ・露光装置 ・精密測定 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる歩留まり向上 ・製品品質の安定化 ・生産性の向上
位置決め精度が格段に向上！ストッパー不要で微動なし！
光学機器の精密な位置決め調整に最適な、アリ溝式ステージ『セルフロックステージ SLXシリーズ』をご紹介します。従来のステージでは、ストッパーやクランプ操作による微動や位置ずれが発生し、高精度な調整が難しいという課題がありました。SLXシリーズは、特許取得のセルフロック機構を搭載することで、これらの課題を解決し、高い位置決め精度を実現します。 【活用シーン】 - 光学顕微鏡、画像認識システム、レーザー加工機などの精密機器の調整 - 高精度な位置決めが求められる検査工程 - 長時間安定した位置決めが必要な実験や測定 - 限られたスペースでの設置が必要な場合 【導入の効果】 セルフロック機構により、微動や位置ずれを防止することで、高精度な位置決めを実現します。これにより、製品の品質向上、検査時間の短縮、作業効率の向上に貢献します。また、ストッパー不要のため、操作が簡単になり、作業者の負担軽減にも繋がります。
位置ずれを防ぐ、高精度セルフロックステージ
電子部品製造においては、精密な位置決めが求められます。ミラック光学の「セルフロックステージ SLXシリーズ」は、特許取得のセルフロック機構を搭載することで高い位置決め精度を実現します。 【活用シーン】 - 精密部品の検査・測定 - 自動化ラインにおける位置決め - 高精度な加工工程 - 長時間固定が必要な用途 【導入の効果】 - 位置ずれによる製品不良の防止 - 作業効率の向上 - 精密な位置決めによる加工精度の向上 - 検査・測定の精度向上
高精度動作を実現！止めた位置から微動しない、ロングストロークのセルフロックステージ
ロボット工学における高精度動作を実現するために、位置決め精度と安定性が重要な課題となっています。ミラック光学の「セルフロックステージ SLXシリーズ」は、特許取得のセルフロック機構を搭載し、位置調整後の微動を防止することで、安定した高精度動作を実現します。 【活用シーン】 - 自動搬送システムにおける正確な位置制御 - 検査装置における高精度なステージ移動 - 研究開発における微細な部品の取扱 【導入の効果】 位置決め精度向上による作業効率の改善 - 微動による誤動作や不良品の発生防止 - 長時間安定した動作を実現し、信頼性を向上 - 設置スペースの有効活用
止めた位置から微動しない！ロングストロークで高精度測定を実現
高精度測定に欠かせないアリ溝式ステージに、ロングストロークでストッパー不要の『セルフロックステージ SLXシリーズ』が新登場。特許取得のセルフロック機構により、位置調整後の微動や位置ずれを防ぎ、安定した測定環境を実現します。 【活用シーン】 - 高精度な測定や検査が必要な場面 - 長時間安定した位置決めが必要な場面 - 微動や位置ずれが許されない場面 - 限られたスペースでの作業 - 複雑な形状の測定 【導入の効果】 セルフロック機構により、位置調整後の微動や位置ずれを防ぐことで、測定精度を向上させます。また、ストッパー不要のため、操作が簡単になり、作業効率が向上します。さらに、スリムな形状で設置場所を選ばないため、限られたスペースでも使用できます。
高精度部品加工を支える、ストッパー不要のロングストロークステージ。
自動車製造における検査工程では、精密な位置決めと安定した固定が求められます。従来のアリ溝式ステージでは、手動ストッパーやクランプ操作による微動や位置ずれが発生し、検査精度に影響を与える可能性がありました。ミラック光学の『セルフロックステージ SLXシリーズ』は、特許取得のセルフロック機構を搭載することで、これらの課題を解決し、高精度な検査を可能にするアリ溝式ステージです。 【活用シーン】 - 自動車部品の寸法検査 - エンジン部品の表面検査 - 検査工程における精密な位置決め - 長時間固定が必要な検査 【導入の効果】 - 検査精度の向上 - 検査時間の短縮 - 作業効率の改善 - 人為的なミス削減 - 検査結果の信頼性向上
電動式回転ステージの世界市場：真空型、固体型、半導体検出、自動化技術、その他
本調査レポート（Global Motorized Rotary Stages Market）は、電動式回転ステージのグローバル市場の現状と今後5年間の展望について調査・分析しました。世界の電動式回転ステージ市場概要、主要企業の動向（売上、販売価格、市場シェア）、セグメント別市場規模、主要地域別市場規模、流通チャネル分析などの情報を収録しています。 電動式回転ステージ市場の種類別（By Type）のセグメントは、真空型、固体型を対象にしており、用途別（By Application）のセグメントは、半導体検出、自動化技術、その他を対象にしています。地域別セグメントは、北米、アメリカ、ヨーロッパ、アジア太平洋、日本、中国、インド、韓国、東南アジア、南米、中東、アフリカなどに区分して、電動式回転ステージの市場規模を算出しました。 主要企業の電動式回転ステージ市場シェア、製品・事業概要、販売実績なども掲載しています。
相転移の研究に！温度と撹拌を同時に制御
材料科学分野、特に相転移の研究においては、温度と撹拌を精密に制御することが重要です。相転移現象は温度変化に敏感であり、均一な温度分布と適切な撹拌が、正確な実験結果を得るために不可欠です。不適切な温度制御や撹拌は、相転移の過程を歪め、誤ったデータにつながる可能性があります。スターラー付き温調ステージは、-10℃～80℃の温度範囲で、最大1200rpmの撹拌を可能にし、相転移の研究を強力にサポートします。 【活用シーン】 ・相転移の研究 ・結晶化の研究 ・材料の合成 【導入の効果】 ・温度と撹拌の同時制御による実験効率の向上 ・均一な温度分布と撹拌による正確なデータ取得 ・幅広い温度範囲での実験対応
乳化プロセスを最適化！温度と撹拌を同時に制御。
化粧品業界では、製品の品質を左右する乳化プロセスにおいて、温度管理と均一な撹拌が重要です。乳化が不十分な場合、製品の分離や品質劣化を引き起こし、顧客満足度の低下につながる可能性があります。スターラー付き温調ステージは、-10℃～80℃の温度範囲で精密な温度制御を行いながら、最大1200rpm（水の場合）の撹拌が可能です。これにより、乳化プロセスを最適化し、高品質な化粧品製造をサポートします。 【活用シーン】 ・クリーム、乳液、美容液などの製造 ・乳化状態の最適化実験 ・研究開発における少量サンプル製造 【導入の効果】 ・均一な乳化を実現し、製品の品質向上 ・温度と撹拌の同時制御による効率的な製造 ・再現性の高い乳化プロセスの確立
細胞培養の温度管理と撹拌を一台で！
バイオテクノロジー分野、特に細胞培養においては、培養液の温度管理と均一な撹拌が、細胞の成長と品質を左右する重要な要素です。温度のわずかな変動や撹拌のムラは、細胞の増殖速度の低下や、望ましくない細胞への分化を引き起こす可能性があります。スターラー付き温調ステージは、正確な温度制御と均一な撹拌を両立し、細胞培養の効率と再現性を向上させるために開発されました。 【活用シーン】 ・細胞培養 ・微生物培養 ・生化学反応 【導入の効果】 ・細胞培養の効率化 ・実験の再現性向上 ・培養結果の安定化
－10℃～80℃の温度範囲で、撹拌しながら重合反応を最適化！
石油化学業界における重合反応では、反応温度の精密な制御と均一な撹拌が、製品の品質と収率を左右します。特に、反応熱のコントロールや、モノマーの均一な混合は、重合反応の安定性を確保するために不可欠です。不適切な温度管理や撹拌不足は、反応の暴走や生成物の品質低下につながる可能性があります。当社のスターラー付き温調ステージは、温度と撹拌を同時に制御することで、重合反応の最適化を支援します。 【活用シーン】 ・重合反応プロセスの温度制御 ・反応物の均一な撹拌 ・研究開発における重合条件の検討 【導入の効果】 ・反応の安定化による高品質な製品の製造 ・実験の再現性の向上 ・効率的な研究開発の推進
－10℃～80℃の温度範囲で、撹拌しながら保温・保冷が可能
半導体業界における薄膜形成プロセスでは、均一な膜厚と高品質な薄膜を得るために、温度管理が非常に重要です。特に、反応液の温度制御は、薄膜の結晶性や組成に大きな影響を与え、製品の性能を左右します。温度が不均一であったり、制御が不安定な場合、薄膜の品質が低下し、歩留まりの悪化につながる可能性があります。スターラー付き温調ステージは、温度を精密に制御しながら、液体の撹拌を可能にし、薄膜形成プロセスの品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・薄膜形成における反応液の温度制御 ・前駆体溶液の撹拌と温度管理 ・成膜プロセスの最適化 【導入の効果】 ・薄膜の均一性向上 ・成膜プロセスの再現性向上 ・歩留まりの改善
ナノ粒子合成を温度制御と撹拌でサポート！
ナノテクノロジー分野、特にナノ粒子合成においては、反応温度の精密な制御と均一な混合が、粒子のサイズや形状、品質を決定する上で非常に重要です。温度管理が不十分な場合、粒子の凝集や成長のばらつきが生じ、目的の特性が得られない可能性があります。また、混合が不均一な場合、反応の偏りや不完全な反応を引き起こし、製品の品質を損なうことにも繋がります。スターラー付き温調ステージは、温度と撹拌を同時に制御することで、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・ナノ粒子合成における反応温度の精密制御 ・均一な混合による粒子径の制御 ・様々な材料の合成実験 【導入の効果】 ・高品質なナノ粒子の合成 ・実験の再現性の向上 ・研究開発の効率化
－10℃～80℃の温度範囲で、撹拌しながら保温・保冷が可能。断熱材セット付。
エネルギー分野における触媒反応の研究開発では、反応温度の精密な制御が、反応効率と生成物の品質を左右する重要な要素となります。特に、反応温度のわずかな変動が、反応速度や選択性に大きな影響を与えるため、正確な温度管理が不可欠です。本製品は、反応液の温度を一定に保ちながら撹拌を行うことで、反応の均一性を高め、再現性の高い実験を可能にします。 【活用シーン】 ・触媒反応の研究開発 ・反応温度の精密な制御が必要な実験 ・均一な温度分布が求められる反応 【導入の効果】 ・反応効率の向上 ・生成物の品質安定化 ・実験の再現性向上
真空チャンバー内での位置決め用途に リニアエンコーダ内蔵により5nm分解能で位置決め 可動範囲最大50mm
光学式リニアエンコーダに対して、5nm分解能と±10nmの再現性を実現した超高分解能位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは『 20mm 』『 40mm 』『 50mm 』までラインアップ。 位置決めでお悩みでしたら、是非お問い合わせください。 ■詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
真空チャンバー内での位置決め用途に サブミクロン分解能で位置決め 可動範囲最大100mm
ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダに対して、サブミクロン分解能（0.1μm or 0.05μm）の再現性を実現した精密位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは20mm～100mmまでラインアップ。 位置決めでお悩みでしたら、是非お問い合わせください。 ■詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
【精密位置決め装置】高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 150mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-511との組み合わせ
【精密位置決め装置】高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 200mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 スローダウンセンサを搭載しており、ストロークエンドでの停止時の衝撃を小さくできます。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-514との組み合わせ
真空中で使える 5nm分解能・高再現性・高保持性を持った高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、薄型で軽量な設計、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 50mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。
