更新日： 集計期間:2026年06月10日～2026年07月07日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
更新日： 集計期間:2026年06月10日～2026年07月07日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
更新日： 集計期間:2026年06月10日～2026年07月07日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
571～600 件を表示 ／ 全 731 件
自動車部品の検査工程を加速する、高精度2軸リニアモーターステージ
自動車業界の検査工程では、製品の品質と安全性を確保するために、高精度な位置決めと迅速な検査が求められます。特に、部品の寸法測定や外観検査においては、正確な位置決めが不可欠です。位置決めの精度が低いと、検査結果の信頼性が損なわれ、不良品の発見が遅れる可能性があります。当社のリニアモーターステージは、高精度な位置決めと高速移動を実現し、検査工程の効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・自動車部品の寸法測定 ・外観検査などの検査工程 ・組み立て工程における位置決め 【導入の効果】 ・検査時間の短縮 ・検査精度の向上 ・不良品の早期発見 ・コスト削減
高速フォーカス・高精度検出で微細加工の課題を解決！
半導体製造業界の微細加工においては、高精度な位置決めが不可欠です。特に、ウエハの反りや表面の微細な凹凸による焦点誤差は、加工精度を大きく左右し、歩留まりの低下や不良品の発生につながります。多軸位置決めステージ【MD-ZT】は、Z軸、Rx軸、Ry軸、Rz軸、およびLift-Zの5軸自由度により、これらの課題に対応します。高さ90mmのコンパクトな設計で、既存の装置への組み込みも容易です。 【活用シーン】 ・半導体製造における微細加工 ・ウエハの反り補正 ・高精度な位置決めが必要な工程 【導入の効果】 ・焦点誤差の解消による加工精度の向上 ・歩留まりの向上 ・装置全体の小型化 ・高速かつ高精度な位置決めによる生産性の向上
高速フォーカス・高精度検出で、実装工程の課題を解決！
電子部品実装業界では、部品の正確な配置と高品質な接合が求められます。特に、高密度実装が進む中で、位置決め精度の向上と、ウエハ反りなどによる焦点誤差の解消が重要です。不正確な位置決めは、製品の不良や歩留まりの低下につながる可能性があります。多軸位置決めステージ【MD-ZT】は、Z軸、Rx軸、Ry軸、Rz軸、およびLift-Zの5軸自由度を持ち、高さ90mmのコンパクトな構造で、これらの課題に対応します。 【活用シーン】 ・電子部品の実装工程 ・半導体製造工程 ・検査工程 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・ウエハ反りなどによる焦点誤差の解消 ・実装工程の効率化
高速フォーカス・高精度検出で、組立工程の品質と効率を向上！
精密機械組立の分野では、部品の正確な位置決めと組み立てが、製品の品質と性能を左右する重要な要素です。特に、微細な部品の組み立てや、高精度な位置決めが求められる工程においては、わずかな誤差が製品の不良や性能低下につながる可能性があります。多軸位置決めステージ【MD-ZT】は、Z軸、Rx軸、Ry軸、Rz軸、およびLift-Zの5軸自由度を備え、精密な位置決めを可能にします。ウエハ反りなどによる焦点誤差を解消し、組立工程の効率化と品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・精密部品の組み立て ・光学部品の位置決め ・半導体製造装置 ・検査装置 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・組立時間の短縮 ・不良品の削減 ・作業効率の向上
ウエッジ角度によるエラーが皆無
FZくさび形ステージ（FZ080）は、くさび形機構による精密な垂直移動ステージです。80mmの正方形のステージは、直線移動するために精密なクロスローラーを利用しており、垂直方向に10mmの移動が可能です。くさび形機構は、高精度の光学位置センサーを使用して、垂直変位をエンコードしています。そのため、任意の方向からのアクセスを提供できます。
レーザー干渉計の高速レンズ位置決めや大口径ミラー位置決めに最適！
変位センサー内蔵タイプはクローズドピエゾコントローラーと組合せることで、 高精度な位置決めが可能です。 その他詳細はカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
床面積を約2倍にも有効活用することができます
パレットステージとは、倉庫内部の空間利用効率化を目的とした中二階式の棚のことです。組み立て解体も容易で、工期も短く済みます。 【倉庫や工場、店舗の上部空間に必要最適な面積のラックをつくり保管効率を高めます】 倉庫の増築や拡張が困難な場合や、在庫品が増大した時、限られた床面積を約2倍に有効活用することができる積層棚・形鋼棚、パレットステージです。また、ユニット化された部材の組合わせによる自立構造で、短期間に設置できます。
最小10nm動作、最大7mm移動、1kg対応。微細観察を支える高精度Z軸
光学顕微鏡の分野では、観察対象の微細構造を鮮明に捉えるために、正確なフォーカス調整が不可欠です。特に、高倍率での観察や、多光子・深部組織イメージングにおいては、ナノレベルでの焦点位置の最適化が、観察の質を大きく左右します。フォーカス調整の精度が低いと、観察像がぼやけ、正確なデータ取得が困難になる可能性があります。V-308は、最小インクリメント10 nm、調整可能な7 mmストロークにより、光学系の焦点位置をナノレベルで最適化し、鮮明な観察像を提供します。 【活用シーン】 ・光学顕微鏡での微細構造観察 ・多光子・深部組織イメージング ・大口径レンズ、長作動距離レンズの使用 【導入の効果】 ・ナノレベルでの正確なフォーカス調整による鮮明な観察像の実現 ・観察データの信頼性向上 ・実験効率の向上
最小10 nm分解能。レーザー加工ヘッドの高精度Z軸フォーカス制御
レーザー加工分野では、焦点位置の精密な制御が加工品質を大きく左右します。特に微細加工や高精度マーキングにおいては、Z軸方向のわずかな焦点変動が加工幅やエネルギー密度に影響を及ぼします。 V-308 Voice Coil PIFOCは、最小10 nm分解能と最大7 mmの移動範囲を備えたZ軸フォーカスドライブです。ダイレクトドライブ方式により滑らかで高速な応答を実現し、レーザー加工ヘッドや光学系の精密なフォーカス制御をサポートします。さらに、最大1 kgまでの重力補償機能により、重量のある光学モジュールにも対応可能です。 【活用シーン】 ・レーザーマーキング装置のフォーカス制御 ・レーザー微細加工装置のZ軸位置決め ・ガルバノスキャナ光学系の焦点補正 ・研究開発用レーザー加工システム 【導入の効果】 ・焦点制御精度の向上による加工品質安定化 ・高速応答による加工プロセスの最適化 ・重量補償機能による安定した光学系制御 ・微細加工における再現性向上
最小10 nm分解能、最大7 mmストローク。半導体装置の高精度Z軸フォーカス制御を実現
半導体製造分野では、微細化の進展に伴い、検査・計測・露光工程におけるZ軸方向の高精度位置制御がますます重要になっています。焦点位置のわずかな変動が、検査精度やプロセス安定性に影響を及ぼす可能性があります。V-308 Voice Coil PIFOCは、最小10 nm分解能と最大7 mmの移動範囲を備えたZ軸フォーカスドライブです。最大1 kgまでの重力補償機能により、重量のある光学系や対物レンズでも安定した位置決めを実現。ダイレクトドライブ方式により、滑らかで高速な応答性と高い再現性を提供し、半導体製造装置の精密フォーカス制御をサポートします。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査装置のオートフォーカス制御 ・光学計測装置のZ軸位置決め ・マスク検査装置のフォーカス補正 ・微細パターン検査工程 【導入の効果】 ・ナノレベルのフォーカス制御による検査精度向上 ・重量補償機能による光学系の安定保持 ・高速応答による検査スループット改善 ・プロセス安定性の向上
細胞観察・深部イメージングの精度を高める — ナノ精度Z軸フォーカスステージ
バイオテクノロジー分野、特に顕微鏡観察や深部組織イメージングでは、対象領域を高精度にZ軸方向へ位置決めし、焦点を最適化することが重要です。V-308 Voice Coil PIFOCは、対物レンズや試料位置を 最小10 nmステップで微調整 可能な高精度フォーカスステージです。最大7 mmの調整範囲と高剛性ガイドにより、長作動距離レンズを含む多様な観察条件下でも 安定したナノポジショニング を提供します。さらに、最大1 kgまでの重量補償機能を内蔵し、対物レンズやアダプタなど重い光学系にも対応できます。 【活用シーン】 ・高倍率顕微鏡による 焦点調整 ・多光子蛍光・深部組織イメージングの Z方向スキャン ・自動化顕微鏡システムでの 高速オートフォーカス 【導入の効果】 ・ナノレベルの焦点制御による高精細画像取得 ・高剛性構造による 安定した動作と再現性向上 ・重力補償で 対物レンズ重量の影響を軽減
開口付で高剛性、1µm未満の偏心と平坦度を実現する高速・高精度回転ステージ
レーザー加工業界では、高精度な位置決めと安定した動作が求められます。特に、微細加工や精密なパターン形成においては、位置ずれや振動が加工精度に大きく影響します。ダイレクトドライブ高精度回転ステージ V-62xシリーズは、1µm未満の偏心と平坦度により、レーザー加工の精度向上に貢献します。 【活用シーン】 ・角度依存の微細パターン加工 ・光学部品・精密部品の試作加工 ・レーザー加工プロセス開発・条件検証 【導入の効果】 ・加工精度・加工品質の向上 ・微細加工の再現性向上 ・加工プロセスの信頼性向上
開口付、高剛性、1µm未満の偏心と平坦度を実現
半導体製造業界では、ウェーハやマスクなどの精密な位置決めが、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細加工技術の進展に伴い、より高い精度と安定性が求められています。位置決めの精度が低いと、加工不良やデバイスの性能低下につながる可能性があります。ダイレクトドライブ高精度回転ステージ V-62xシリーズは、優れた回転精度と微小なティルトエラーを実現し、高度なアライメントや回転制御を可能にします。 【活用シーン】 ・ウェーハプロービング ・マスクアライメント ・レーザー加工 ・検査装置 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる歩留まり向上 ・高速・高精度動作による生産性向上 ・幅広い分野への対応
摩擦ゼロ、高精度位置決め。光学機器の調整作業を革新。
光学機器業界では、レンズやミラーなどの精密な調整が、製品の性能を左右する重要な要素です。特に、微細な位置調整が求められる場面では、精度の高いステージングシステムが不可欠です。調整の精度が低いと、光学系の性能が低下し、最終的な製品の品質に悪影響を及ぼす可能性があります。A-143 PIglideは、ナノメートルレベルの精度で位置決めを行い、光学機器の調整作業を効率化します。 【活用シーン】 ・光学レンズの位置調整 ・精密測定器のキャリブレーション ・光ファイバーアライメント 【導入の効果】 ・高精度な調整作業の実現 ・作業時間の短縮 ・製品品質の向上
レーザー切断の精度を向上。±0.2 µmの高精度位置決めを実現。
レーザー加工業界では、高品質な切断を実現するために、ワークの位置決め精度が重要です。特に、微細加工や高精度な切断が求められる場合、位置決め誤差は製品の品質に直接影響します。A-143 小型リニアエアベアリングステージは、±0.2 µmの位置精度により、レーザー加工における位置決め精度を格段に向上させ、高品質な切断を可能にします。 【活用シーン】 ・レーザーカッター ・レーザーマーキング 【導入の効果】 ・高精度な切断による製品品質の向上 ・歩留まりの向上 ・加工時間の短縮
摩擦ゼロ、±0.2 µmの高精度位置決めを実現する小型ステージ
半導体製造業界では、ウェーハやマスクなどの精密な位置決めが、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細加工や検査工程においては、ナノメートルレベルの精度が求められます。位置決めの精度が低いと、不良品の発生や生産効率の低下につながる可能性があります。A-143 高精度リニアエアベアリングステージは、非接触構造により摩耗や潤滑の必要がなく、長寿命かつクリーンルーム対応を実現し、半導体製造における高精度な位置決めニーズに応えます。 【活用シーン】 ・半導体製造装置 ・検査装置 ・計測機器 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・非接触構造による長寿命化 ・クリーンルーム対応による高い信頼性
摩擦ゼロ、高精度位置決めを実現する小型エアベアリングステージ
精密測定の分野では、高精度な位置決めが不可欠です。特に、微細な構造の計測や検査においては、わずかな振動や誤差が測定結果に大きな影響を与えます。A-143 PIglideは、非接触構造により摩耗や潤滑の必要がなく、長寿命かつクリーンルーム対応を実現し、ナノメートルレベルの精度が求められる計測用途に最適です。 【活用シーン】 ・精密測定機器 ・検査装置 ・光学機器 【導入の効果】 ・高精度な測定結果の実現 ・安定した計測環境の構築 ・長期的な運用コストの削減
ナノレベルの精度で、半導体製造プロセスを革新。
半導体製造業界では、高精度な位置決めが歩留まりと製品品質を左右する重要な要素です。特に、ウェーハの検査や露光工程においては、ナノメートル単位の正確な位置決めが求められます。従来の回転ステージでは、摩擦による微小なブレや偏心が発生し、これが品質低下の原因となる可能性があります。PIglide A-62xシリーズは、摩擦のないエアベアリング技術により、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査 ・露光装置 ・精密測定 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる歩留まり向上 ・製品品質の安定化 ・生産性の向上
最大35 µmストローク×0.1 nm分解能の高精度ナノポジショニング
計測・評価分野における校正および微小位置決めでは、ナノメートルレベルの分解能と高い位置再現性が求められます。 P-752は、最大35 µmのストロークと最小0.1 nmの分解能（適切なコントローラ使用時）を備えたリニア・ピエゾフレクシャステージです。フレクシャガイド構造により、摩擦やバックラッシュのない滑らかな動作と高い真直度を実現します。 これにより、精密測定機器の校正や評価工程において、安定した微小位置決めをサポートします。 【活用シーン】 ・精密測定機器の校正・性能評価 ・光学系のアライメントおよび位置補正 ・センサー評価・材料試験における微小変位制御 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルの位置決め分解能 ・バックラッシュのない高再現性動作 ・安定した微小変位制御による測定精度の安定化
バイオ解析に最適な高精度ナノポジショニングステージ
P-752は、最大35 µmのストロークと最大0.1 nm分解能を備えた高精度ピエゾナノポジショニングステージです。フレクシャガイド構造と高分解能キャパシティブセンサ（クローズドループ仕様）により、ヒステリシスの影響を抑えた高い再現性と安定性を実現します。 細胞レベルの観察や微細サンプルの操作など、ナノメートル精度が求められるバイオテクノロジー分野において、信頼性の高い位置決め性能を提供します。 【活用シーン】 ・蛍光顕微鏡・共焦点顕微鏡での精密フォーカシング ・細胞・オルガノイドのナノスケール位置制御 ・マイクロマニピュレーション ・バイオセンサー評価・ナノレベルアライメント 【導入の効果】 ・最大0.1 nm分解能による高精度位置決め ・クローズドループ制御による高い再現性と安定性 ・コンパクト設計による顕微鏡・分析装置への組込み適合性 ・高速応答による測定効率の向上
半導体製造における高精度位置決めを実現。素早く正確な整定動作
半導体業界では、製造プロセスの微細化に伴い、高精度な位置決めが不可欠です。特に、ウェーハの検査や露光工程においては、わずかな位置ずれが製品の品質を大きく左右します。P-620.1/629.1は、これらの課題に対応し、高精度な位置決めを実現します。内臓の静電容量型センサーにより、リニアリティエラー0.02%を達成し、半導体製造における歩留まり向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査 ・露光工程 ・光学アライメント ・干渉計測 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・歩留まりの向上 ・製造プロセスの効率化 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。
0.1nm分解能と高リニアリティで、ナノレベル計測を安定化。
ナノテクノロジー分野の計測において、正確な位置決めは極めて重要です。微細構造の観察、精密な加工、高度な実験には、ナノメートルレベルの精度が求められます。位置決めの誤差は、計測結果の信頼性を損ない、研究の進捗を妨げる可能性があります。PI社の0.1nm分解能ナノポジショナは、内蔵静電容量型センサーとフレクシャガイドにより、高精度な位置決めを実現し、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・顕微鏡試料走査 ・光学アライメント ・干渉計測 【導入の効果】 ・高精度な計測データの取得 ・実験の再現性の向上 ・研究開発の効率化
0.1nm分解能と高安定制御でやさしいナノ位置決め。
バイオテクノロジー分野、特に細胞操作においては、細胞へのダメージを最小限に抑えつつ、正確な位置決めが求められます。細胞培養、顕微鏡観察、マイクロインジェクションなど、ナノレベルの精度が生命現象の解明に不可欠です。不正確な位置決めは、実験の失敗やデータの信頼性低下につながる可能性があります。PI社の0.1nm分解能ナノポジショナは、細胞操作における精密な位置決めを可能にし、研究の効率化と精度の向上に貢献します。 【活用シーン】 ・細胞培養 ・顕微鏡観察 ・マイクロインジェクション ・細胞の選別 【導入の効果】 ・細胞へのダメージを最小限に抑え、実験の成功率を向上 ・正確な位置決めにより、実験データの信頼性を向上 ・研究の効率化と、より詳細な観察を実現
100 µmストローク、サブナノ分解能、210 g負荷時560 Hzの高応答フォーカススキャナ
バイオテクノロジー分野における細胞観察では、微小なフォーカス変動が画像品質に影響を与えます。P-726 PIFOCは、100 µmのZストロークとサブナノメートル分解能を備えた高荷重対応フォーカススキャナです。静電容量センサーによる直接位置フィードバックとフレクシャガイド構造により、高い位置決め精度と再現性を実現します。 さらに、210 g負荷時で560 Hzの共振周波数を持ち、高NA対物レンズ搭載時でも高い動的性能を維持。高速セットリング（約6ms）により、Zスタック取得やフォーカススキャンを効率化します。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡 ・超解像顕微鏡 ・ライブセルイメージング ・Zスタック取得を伴う3Dイメージング 【導入の効果】 ・高精度フォーカス制御による画像安定性向上 ・高速Z応答による測定効率改善 ・高荷重対応による光学系設計自由度向上 ・再現性の高いフォーカス位置決め
最大1800µmの長ストロークとナノ精度。独自の静電容量センサーで、物理的接触をせずに位置測定
半導体製造のウェーハやマスクの位置決めにおいて、高い精度と安定性が求められます。ナノメートルレベルの位置決め精度が製品の品質を左右します。位置決めの誤差は、歩留まりの低下や製品不良につながる可能性があります。P-620.2〜P-629.2 PIHera(R)シリーズは、長寿命のPICMA(R)アクチュエータを採用したXY軸ピエゾナノポジショニングステージです。静電容量式センサーを用いたクローズドループ制御により、優れた直線性と安定性を両立し、1nm以下の高分解能、±0.2nmの双方向再現性を提供します。 【活用シーン】 ・半導体製造装置 ・ウェーハ検査 ・マスクアライメント ・プロービング 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる歩留まり向上 ・安定した動作による生産性の向上 ・小型筐体による装置への組み込みやすさ ・長寿命アクチュエータによるメンテナンス性の向上
最大1800µmの長ストロークと、静電容量センサーによる優れた精度で顕微鏡のサンプル位置決めに最適
顕微鏡分野では、観察対象を高精度に走査し、鮮明な画像を得ることが求められます。特に、微細構造の観察や、細胞などの生体試料の観察においては、位置決めの精度が観察結果を大きく左右します。位置決め精度が低いと、ピントが合わず、正確な観察が困難になる可能性があります。小型XY軸ピエゾステージは、1nm以下の高分解能と±0.2nmの双方向再現性により、高精度な走査を実現します。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察における試料の走査 ・高倍率観察時の微調整 ・細胞イメージング 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる鮮明な画像取得 ・観察時間の短縮 ・実験の再現性向上
細胞操作・ライブセル観察に最適。サブナノ精度で安定したXY位置決めを実現。
バイオテクノロジー分野、とくに細胞操作やライブセル観察では、試料の微小な位置ずれが観察結果に大きな影響を与えます。細胞へのダメージを最小限に抑えながら、滑らかで高精度な位置決めを行うためには、サブナノメートル分解能と高い再現性が不可欠です。本製品は、1nm以下の高分解能と±0.2nmの双方向再現性を提供し、細胞操作における高い信頼性と効率性を実現します。 【活用シーン】 ・バイオセンサ評価 ・マイクロ流体デバイスへの組み込み 【導入の効果】 ・実験の再現性向上 ・研究効率の向上 ・詳細な製品仕様については、カタログよりご確認ください。
高倍率観察を支えるナノレベル走査。66mm開口のZ・チップチルトピエゾステージ
顕微鏡走査では、試料や対物レンズのわずかな位置ずれや傾きが、画像の解像度やコントラストに大きく影響します。特に高倍率観察や微細構造解析では、ナノメートルレベルのZ制御と角度補正、そして高い安定性が不可欠です。 P-518／P-528シリーズは、Z軸100µm／200µmストロークとチップチルト制御を組み合わせた高精度ピエゾステージです。66mmの大開口設計により透過観察にも対応。高いリニアリティと再現性により、ブレや歪みを抑えた高品質な画像取得を実現し、顕微鏡システムの性能向上に貢献します。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡 ・蛍光顕微鏡 ・走査型プローブ顕微鏡（SPM） ・細胞・ライブセル観察 ・材料／微細構造解析 【導入の効果】 ・ナノレベルの高精度Z走査 ・チップチルト補正による像の安定化 ・透過観察に対応する66mm開口 ・高分解能画像取得と再現性向上 ・研究開発効率の向上
ナノレベルのZ・チップチルト制御を実現。66mm開口の高精度ピエゾステージ
精密測定分野では、わずかな位置ずれや角度誤差が測定結果に大きく影響します。特に微細構造の評価や透過光を用いた計測では、ナノレベルの分解能と高い安定性、さらに十分な開口径が求められます。 P-518／P-528シリーズは、Z軸ストローク100µm／200µmとチップチルト制御を組み合わせた高精度ピエゾステージです。66mmの大開口設計により透過光計測にも対応し、高いリニアリティと再現性を実現。精密測定やアライメント工程における信頼性向上に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体検査・評価装置 ・フォトニクス／光学計測 ・顕微鏡・干渉計システム ・高精度アライメント用途 【導入の効果】 ・ナノレベルでの高精度Z・角度調整 ・66mm開口による透過光計測対応 ・高い直線性と安定性による測定信頼性向上
ナノレベル動作と大開口で、フォトニクス分野のアライメントを最適化
フォトニクス分野のアライメント作業では、光ファイバーやレンズなどの精密な位置調整が求められます。特に、光軸のずれは、測定精度や効率を大きく左右するため、ナノレベルでの精密な位置決めが重要です。Z・チップ・チルト開口部付ピエゾステージ P-5x8は、これらの課題に対し、高精度な位置決めと広い開口部による透過光測定の実現で貢献します。 【活用シーン】 ・光ファイバーアライメント ・レンズアライメント ・干渉計測 ・透過光アプリケーション 【導入の効果】 ・ナノレベルでの精密な位置決めによるアライメント精度の向上 ・66mm×66mmの開口部による透過光測定の効率化 ・高信頼性PICMAピエゾセラミックスによる長寿命化 ・静電容量センサーによる高いリニアリティ
