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ナノレベルのZ・チップチルト制御を実現。66mm開口の高精度ピエゾステージ
精密測定分野では、わずかな位置ずれや角度誤差が測定結果に大きく影響します。特に微細構造の評価や透過光を用いた計測では、ナノレベルの分解能と高い安定性、さらに十分な開口径が求められます。 P-518／P-528シリーズは、Z軸ストローク100µm／200µmとチップチルト制御を組み合わせた高精度ピエゾステージです。66mmの大開口設計により透過光計測にも対応し、高いリニアリティと再現性を実現。精密測定やアライメント工程における信頼性向上に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体検査・評価装置 ・フォトニクス／光学計測 ・顕微鏡・干渉計システム ・高精度アライメント用途 【導入の効果】 ・ナノレベルでの高精度Z・角度調整 ・66mm開口による透過光計測対応 ・高い直線性と安定性による測定信頼性向上
ナノレベル動作と大開口で、フォトニクス分野のアライメントを最適化
フォトニクス分野のアライメント作業では、光ファイバーやレンズなどの精密な位置調整が求められます。特に、光軸のずれは、測定精度や効率を大きく左右するため、ナノレベルでの精密な位置決めが重要です。Z・チップ・チルト開口部付ピエゾステージ P-5x8は、これらの課題に対し、高精度な位置決めと広い開口部による透過光測定の実現で貢献します。 【活用シーン】 ・光ファイバーアライメント ・レンズアライメント ・干渉計測 ・透過光アプリケーション 【導入の効果】 ・ナノレベルでの精密な位置決めによるアライメント精度の向上 ・66mm×66mmの開口部による透過光測定の効率化 ・高信頼性PICMAピエゾセラミックスによる長寿命化 ・静電容量センサーによる高いリニアリティ
100 µm × 3軸。光学アライメントをナノ精度で実現するコンパクトXYZピエゾステージ
光学システムにおいて、ビーム位置や光軸のわずかなずれは、結合効率や測定精度に大きく影響します。特に干渉計測、レーザー集光、ファイバーアライメントなどの用途では、サブミクロン以下の位置制御が不可欠です。 P-616 NanoCubeは、各軸100 µmの動作範囲を備えたコンパクトなXYZピエゾナノポジショナーです。フレクシャガイド構造によりバックラッシュのない高直線性動作を実現。ナノメートル分解能での微細位置決めと高い機械的安定性により、光学系の精密アライメントを高い再現性でサポートします。 研究用途から装置組込みまで対応可能な設計で、フォトニクス分野の高度な位置制御ニーズに応えます。 【活用シーン】 ・光ファイバーアライメント（結合効率最適化） ・レーザー集光位置の微調整 ・干渉計・ホログラフィー装置 ・顕微鏡ステージ微動制御 ・フォトニクス研究装置への組込み 【導入の効果】 ・ナノ分解能による光軸調整精度向上 ・バックラッシュレス構造による高再現性 ・高剛性フレクシャ設計によるドリフト低減 ・コンパクト設計による装置内組込み容易化
微細レーザー加工の焦点・位置制御を支える、100 µm × 3軸ナノポジショナー
レーザー微細加工では、ビーム位置や焦点のわずかなずれが加工品質に直結します。特にマイクロ加工や高アスペクト比加工では、サブミクロンレベルでの精密な位置制御が不可欠です。P-616 NanoCubeは、各軸100 µmストロークを備えたコンパクトなXYZピエゾナノポジショナーです。高剛性フレクシャガイド構造によりバックラッシュのない高直線性動作を実現し、ナノメートル分解能での微細位置調整が可能です。 レーザー加工装置に組み込むことで、 ・ビーム位置の微調整 ・焦点位置の高精度制御 ・加工位置の補正用途 に対応し、微細加工の安定性向上をサポートします。 【活用シーン】 ・レーザー微細加工装置への組込み ・フォーカス位置の精密制御 ・マイクロ穴あけ加工の位置補正 ・薄膜加工・精密パターニング 【導入の効果】 ・ナノメートル分解能による焦点位置の高精度制御 ・バックラッシュレス構造による高再現性 ・コンパクト設計で装置内組込みが容易 ・微細加工品質の安定化
高倍率観察をナノメートル分解能で支える、100 µm × 3軸コンパクトXYZピエゾステージ
高倍率顕微鏡観察では、わずかな位置ずれが像の鮮明さや再現性に大きく影響します。特に共焦点顕微鏡や蛍光顕微鏡、ライブセル観察では、サブミクロン以下の精密なXYZ制御が不可欠です。P-616 NanoCubeは、各軸100 µmの動作範囲を持つコンパクトなXYZピエゾナノポジショナーです。高剛性フレクシャガイド構造によりバックラッシュのない滑らかな動作を実現し、ナノメートル分解能での微細位置決めが可能です。 Z軸フォーカス制御やXYスキャン用途にも対応し、研究用途から装置組込みまで幅広く活用できます。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡のZ軸フォーカス制御 ・蛍光顕微鏡での多点観察 ・ライブセルイメージング ・高倍率対物レンズ下での微動位置決め ・ナノスケール材料観察 【導入の効果】 ・ナノメートル分解能による高精度フォーカス制御 ・バックラッシュレス構造による高再現性 ・高剛性設計による安定したスキャン動作 ・コンパクト設計で既存顕微鏡への組込みが容易
プローブ位置決めをサブナノ精度で実現するPIMars精密ナノステージ
高精度計測において、プローブの位置決め精度は測定結果の信頼性を左右します。わずかな振動やクロストークが誤差要因となるため、高剛性かつクローズドループ制御による安定したナノポジショニングが求められます。 P-561・P-562・P-563 PIMars Nanopositioning Stages は、パラレルキネマティクス構造と静電容量式センサを採用したXYZ多軸ピエゾフレクシャステージです。再現性±2 nm、リニアリティ0.03％を実現し、低クロストークで高精度なプローブ位置決めを可能にします。 高共振周波数と優れた動的特性により、高速スキャン計測や微小変位測定にも対応。半導体検査やナノ材料解析など、精密計測用途に最適です。 【活用シーン】 ・半導体検査 ・超解像顕微鏡 ・フォトニクス調整 【導入の効果】 ・高精度な測定結果の実現 ・測定時間の短縮 ・製品品質の向上
10 kHzの高速応答でビームを精密制御。レーザー加工向けTip/Tiltステージ
レーザー加工では、ビームの角度や位置のわずかな変動が、加工精度や仕上がり品質に直結します。特に微細加工や高速スキャニング工程では、高速応答性と高分解能を兼ね備えたビーム制御機構が不可欠です。 S-331は、最大10 kHzの高い共振周波数と±5 mradの動作角を備えた高速Tip/Tiltピエゾステージです。優れたダイナミクス性能によりリアルタイムでのビーム補正を実現し、焦点ずれや加工ムラを低減。高精度かつ安定したレーザー加工プロセスの構築に貢献します。 【活用シーン】 ・レーザービームの高速ステアリング ・微細穴あけ／溝加工などの精密加工 ・加工中のリアルタイムビーム補正 ・高精度アライメント制御 【導入の効果】 ・加工精度と再現性の向上 ・高速応答による加工効率の改善 ・加工ムラ低減と歩留まり向上 ・装置性能の高度化
顕微鏡の高速フォーカシングを実現する高精度PIFOC Zステージ
顕微鏡を用いた研究分野では、高速かつ高精度なフォーカシングが観察結果の品質や取得データの再現性に大きく影響します。特に、共焦点顕微鏡や蛍光顕微鏡による3DイメージングやZスタック取得では、ナノメートル分解能での高速Z位置決めが求められます。P-737 PIFOC Zステージは、対物レンズを直接駆動するピエゾフレクシャー構造を採用し、高速応答かつ高精度なZ軸制御を実現します。コンパクト設計のため既存の顕微鏡システムにも統合しやすく、研究用途における高度なフォーカシング要求に対応します。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡による3Dイメージング ・蛍光顕微鏡のZスタック取得 ・ライブセルイメージング ・ナノスケール構造の観察 【導入の効果】 ・高速Zスキャンによる測定時間短縮 ・ナノメートル分解能の高精度フォーカシング ・再現性の高いイメージング ・顕微鏡システムへの容易な統合
ピエゾWalk駆動、ナノメートル精度、半導体製造の位置決めに
半導体製造業界では、ウェーハやマスクの位置決めにおいて、高い精度と安定性が求められます。特に、微細加工や検査工程においては、ナノメートルレベルの位置決め能力が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素となります。位置決めの精度が低いと、製造不良や検査エラーが発生し、コスト増につながる可能性があります。当社の高発生力＆高精度ピエゾリニアステージ N-332は、ピエゾWalkドライブにより、ナノメートル精度での位置決めを実現し、半導体製造における課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハプロービング ・マスクアライメント ・半導体製造装置 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる歩留まり向上 ・製造プロセスの効率化 ・製品品質の安定化
最大33mmストローク、半導体装置向け超小型ピエゾ駆動リニアステージ
半導体製造工程では、ウェーハやマスクの位置決めにおいて高い精度と再現性が求められます。特に微細加工や検査工程では、位置決め精度が製品品質や歩留まりに直結します。B-421 BIX ミニチュアリニアステージは、超小型設計でありながら、ピエゾ駆動による高分解能な位置決めを実現。限られた装置スペース内でも組み込みやすく、精密な位置制御が求められる半導体装置に適しています。 最大33mmのストロークに対応し、コンパクトかつ高性能な位置決めソリューションを提供します。 【活用シーン】 ・ウェーハプロービング装置 ・マスクアライメント装置 ・半導体検査装置 ・精密アセンブリ装置 【導入の効果】 ・高分解能位置決めによる安定したプロセス制御 ・装置の省スペース化に貢献 ・高精度制御による工程安定性向上
光学系の精密アライメントに対応する超小型ピエゾ駆動リニアステージ
光学システムでは、レンズやミラー、光学素子の位置調整が性能を大きく左右します。わずかな位置ずれが、像の歪みや測定精度の低下につながる場合があります。B-421 BIX ミニチュアリニアステージは、超小型設計でありながら、ピエゾ駆動による高分解能な位置制御を実現。限られたスペースにも組み込みやすく、精密な光学アライメント用途に適しています。最大33mmのストロークに対応し、研究開発用途から装置組み込みまで幅広い光学調整ニーズに対応します。 【活用シーン】 ・顕微鏡の対物レンズ調整 ・レーザー加工機の焦点調整 ・光ファイバーアライメント ・干渉計・計測装置の精密位置決め 【導入の効果】 ・高分解能な位置制御による安定したアライメント ・装置の省スペース設計に貢献 ・再現性の高い光学調整を実現
研究開発用途に対応｜最大33mmストロークの超小型ピエゾステージ
研究開発分野では、試料や光学素子、センサなどの精密な位置決めが実験結果に大きく影響します。微細構造の観察や高分解能計測など、わずかな位置変動がデータ精度に影響を与えるケースも少なくありません。B-421 BIX ミニチュアリニアステージは、超小型設計ながらピエゾ駆動による高分解能な位置制御を実現。限られた実験スペースにも組み込みやすく、研究用途における精密位置決めに適したソリューションです。最大33mmのストロークに対応し、柔軟な実験構成や多軸システムへの拡張にも対応可能です。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察 ・微細加工実験 ・材料特性評価 ・光学実験／レーザー実験 ・センサ評価試験 【導入の効果】 ・高分解能な位置制御による安定したデータ取得 ・実験装置の省スペース化に貢献 ・再現性の高い位置決め ・多軸構成による柔軟な実験設計
光学機器の調整作業を精密かつスムーズに。高精度リニアステージ
レーザー微細加工では、ワークのわずかな位置ずれが加工品質に大きく影響するため、高精度かつ安定した位置決めが求められます。特に、半導体材料、ガラス、フィルムなどの微細加工では、ナノメートルレベルでの精密な位置制御が重要です。 V-D07 高負荷リニアモーターステージは、高精度リニアエンコーダとリニアモータダイレクトドライブにより、ナノメートルレベルの高精度位置決めと高速動作を実現。レーザー微細加工装置の高精度ステージとして、安定した加工プロセスをサポートします。 【活用シーン】 ・レーザー微細加工装置の精密位置決め ・半導体・電子部品のレーザー加工 ・ガラス・フィルムのレーザー加工 ・光学部品のアライメント調整 【導入の効果】 ・ナノメートル単位での精密な位置決めが可能 ・摩擦レス駆動によるスムーズな動作 ・高負荷環境下での安定した動作
高速・高精度なZ軸制御で、半導体検査の品質と効率を向上
半導体分野では、ウェーハやマスクの位置決めにおいて、高い精度と安定性が求められます。特に検査工程や微細加工では、わずかな位置ずれが測定誤差や歩留まり低下につながり、製品品質に大きく影響します。 V-Z03は、ボイスコイルモータによるダイレクトドライブ方式を採用し、高速応答かつ高精度なZ軸制御を実現。さらに、高剛性クロスローラーガイドと非接触リニアエンコーダにより、バックラッシュのない安定した位置決めと高い再現性を確保します。最大150 Nの高荷重対応および空圧式カウンターバランスにより、重量物の精密位置決めにも最適です。 【活用シーン】 ・半導体検査装置 ・ウェーハ検査・計測装置 ・精密測定機器 【導入の効果】 ・高精度位置決めによる測定精度の向上 ・高速応答によるタクトタイム短縮 ・高剛性ガイドによる安定した動作 ・高荷重対応による用途拡張 ・セルフロック機能による安全性向上
高速応答＆高剛性で、サブミクロン単位の精密Z軸制御を実現
研究開発分野における実験では、精密な位置決めと安定した動作が不可欠です。特に、微細構造の観察や精密加工においては、Z軸方向の正確な制御が実験の成否を左右します。従来のステージでは、位置決めの精度や応答速度に課題があり、実験の効率を低下させる要因となっていました。V-Z03は、ボイスコイルモータによるダイレクトドライブ方式を採用し、高速かつ高精度なZ軸制御を実現します。 【活用シーン】 ・産業・研究分野での精密位置決め ・半導体検査 【導入の効果】 ・サブミクロン単位の精密な位置決め ・実験時間の短縮 ・実験精度の向上 ・多様な実験への対応
高速・高精度なウェーハ検査をV-P01が実現
半導体業界のウェーハ検査では、微細な欠陥を高精度に検出することが求められます。検査の精度は、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、ウェーハの大型化と高密度化が進む中、より高速かつ正確な位置決めが不可欠です。V-P01は、リニアモータ駆動により、高精度な位置決めと高速スキャンを実現し、ウェーハ検査の効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハの自動光学検査（AOI） ・ウェーハ表面の精密スキャニング ・微細パターンの位置決め 【導入の効果】 ・検査時間の短縮 ・検査精度の向上 ・歩留まりの改善
レンズ調整の精度と効率を向上させるXYステージ
光学業界のレンズ調整においては、高精度な位置決めと安定性が求められます。レンズの性能を最大限に引き出すためには、ミクロン単位での微調整が不可欠です。位置ずれは、画像の歪みや解像度の低下を引き起こし、製品の品質に直接影響します。V-P01は、リニアモータ駆動により、これらの課題に対応します。 【活用シーン】 ・レンズ研磨・組立工程 ・光学測定器 ・検査装置 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・高速・高加速度による作業効率アップ ・安定した動作による歩留まり向上
高速・高精度な実験をサポートするXYステージ
研究開発分野における実験では、精密な位置決めと安定した動作が不可欠です。特に、微細な構造の観察や、精密な加工を行う際には、位置精度の高いステージが求められます。位置精度の低いステージでは、実験結果の再現性が損なわれたり、正確なデータが得られない可能性があります。V-P01は、リニアモータ駆動により、高精度な位置決めと安定した動作を実現し、研究開発における実験の質を向上させます。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察 ・精密加工 ・AOI検査 ・スキャニング 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる実験精度の向上 ・高速・高加速度による実験効率の向上 ・安定した動作による再現性の確保
リニアモータ×高精度エンコーダで高荷重600Nでも滑らか・高速応答
光学システムでは、高精度な位置決めと安定した動作が重要です。特にレンズやミラーなどの光学部品の配置調整では、わずかな位置ズレでも測定結果や画像品質に影響を与える可能性があります。 V-817は、リニアモータによるダイレクトドライブと高精度インクリメンタルエンコーダを組み合わせたリニアステージです。摩擦の少ない滑らかな動作と高速応答により、光学部品の精密な位置調整や光軸アライメントを高精度に行えます。 さらに最大600 Nの高荷重に対応し、剛性の高い構造により安定した位置決めを実現。光学装置や精密測定システムにおける高精度な調整作業をサポートします。 【活用シーン】 ・レンズやミラーの位置調整 ・光学系の組み立て ・精密測定 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる調整精度の向上 ・安定した動作による作業効率の向上 ・非接触駆動による発塵の抑制
高速4 m/s×高分解能で研究開発の位置決めを高精度化
研究開発分野の実験では、高精度な位置決めと安定した動作が求められます。特に微細構造の観察や精密加工、材料評価などの実験では、位置決め精度が測定結果や実験の再現性に大きく影響します。 V-855は、リニアモータによるダイレクトドライブと高精度リニアエンコーダを備えた高速リニアステージです。0.1 µmの最小インクリメンタルモーションと最大4,000 mm/s（4 m/s）の高速動作により、精密な位置決めと高速搬送を両立します。 さらに最大800 mmの長ストロークにより、大型試料の測定やスキャン測定など、研究開発装置における幅広い実験用途に対応します。 【活用シーン】 ・精密測定 ・微細加工 ・光学実験 ・材料試験 【導入の効果】 ・実験の再現性向上 ・測定精度の向上 ・作業効率の向上 ・実験時間の短縮
レーザービームの精密制御を実現する高速ミラーステージ
レーザー加工において、精密なビーム制御は加工精度と生産効率を左右する重要な要素です。特に、微細加工や高精度な切断・溶接では、レーザービームの正確な位置決めと安定した制御が不可欠です。わずかなビームのずれや揺らぎでも、加工品質の低下や歩留まり悪化につながる可能性があります。 本製品は、最大8°の大角度駆動が可能なボイスコイル駆動のTip/Tiltミラーステージです。レーザービームの角度を高精度かつ高速に制御し、安定したビーム操作を実現します。 【活用シーン】 ・レーザー加工におけるビームの角度調整 ・精密な位置決めが求められるレーザーアプリケーション ・レーザービーム安定化が求められるレーザーシステム 【導入の効果】 ・高精度なレーザー加工の実現 ・加工品質の向上 ・歩留まりの改善
光通信・光学システムのビーム制御に最適な大角度駆動ステージ
光通信や光学システムでは、光ビームの正確な制御と安定性が、システム性能を左右する重要な要素です。特に、光ファイバー通信や光学アライメントでは、ビームのわずかなずれや揺らぎが信号の減衰やノイズ増加を引き起こし、通信品質や測定精度に影響を与える可能性があります。 V-931は、最大8°の大角度駆動が可能なボイスコイル駆動Tip/Tiltミラーステージです。光ビームの角度を高精度かつ高速に制御し、光学システムにおけるビーム偏向や安定化を実現します。 【活用シーン】 ・光通信システムにおけるビーム調整 ・光ファイバーアライメント ・光ファイバーセンサシステム 【導入の効果】 ・ビーム安定化による通信品質の向上 ・高精度位置決めによるアライメント効率の向上 ・システム信頼性の向上
サイズ60mm四方、XYZ軸対応のコンパクトリニアステージ
研究開発分野における実験では、精密な位置決めが不可欠です。特に、微細な調整が求められる実験や、限られたスペースでのセットアップが必要な場合に、小型で高精度なリニアステージが求められます。M-11x型リニアステージは、コンパクトながらも高い精度と多様な軸構成を実現し、研究開発の効率化と精度の向上に貢献します。真空（10-6hPa）に適したタイプもあります。 【活用シーン】 ・光学実験 ・顕微鏡観察 ・精密測定 ・微細加工 【導入の効果】 ・実験のセットアップ時間の短縮 ・実験精度の向上 ・省スペース化 ・多様な実験への対応
光学用途の高精度位置決めに。小型・分解能 10 nm、電源OFF時セルフロック。
光学業界では、レンズやミラーなどの精密な位置調整が、システムの性能を左右します。特に、微小な調整が求められる場面では、高精度な位置決め能力が不可欠です。調整の精度が低いと、光軸のずれや焦点のズレが生じ、システムの性能低下につながります。U-723は、小型ながら22mmの動作量と10nmの分解能を実現し、光学系の精密な位置調整を可能にします。 【活用シーン】 ・顕微鏡の対物レンズ調整 ・レーザー加工機の光軸調整 ・光学測定器のサンプル位置決め 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる光学性能の向上 ・省スペース化による装置全体の小型化 ・電源OFF時の位置保持による安全性の向上
サイズ50x50x19mm、無限回転、最大720°/s、電源OFF時セルフロック
光学業界における調整作業では、精密な角度調整が求められます。特に、光軸調整やレンズの微調整においては、高精度な位置決めと安定した動作が不可欠です。精度の低い調整は、光学系の性能低下や測定誤差につながる可能性があります。U-628は、高精度なインクリメンタル角度センサーとセルフロック機構により、光学調整作業の効率化と精度の向上に貢献します。 【活用シーン】 ・フィルタ角度最適化 ・偏光素子調整 ・光学計測系のキャリブレーション 【導入の効果】 ・波長依存性が高いフィルタの角度調整 ・偏光子・波長板角度の精密制御 ・干渉計、顕微鏡光路の角度最適化
高さ14 mm、φ36 mm開口、光学系の微調整に最適
光学業界では、レーザー光路やレンズなどの精密な調整が求められます。特に、限られたスペースでの角度調整や、高精度な位置決めが重要です。調整の精度が低いと、光学系の性能が低下し、実験結果や製品の品質に悪影響を及ぼす可能性があります。U-651は、薄型設計と高精度な位置決め性能により、光学系の微調整を容易にします。 【活用シーン】 ・レーザー光路調整 ・レンズアライメント ・光学フィルターの角度調整 ・光ファイバーの接続 【導入の効果】 ・高精度な調整による光学性能の向上 ・省スペース化 ・作業効率の向上 ・実験の再現性向上 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。
高さ14 mmの薄型、φ36 mmの開口、顕微鏡走査に最適
顕微鏡分野では、観察対象を高精度に走査し、鮮明な画像を得ることが求められます。特に、微細構造や生体組織の観察においては、正確な位置決めと高速な動作が重要です。従来のステージでは、サイズや動作速度が課題となる場合があります。U-651は、薄型設計と高速回転性能により、顕微鏡走査におけるこれらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察における試料の走査 ・レーザー走査顕微鏡 ・共焦点顕微鏡 【導入の効果】 ・高精度な位置決めと高速動作による鮮明な画像取得 ・薄型設計による顕微鏡への組み込みやすさ ・φ36mmの開口部により、レーザー光路や配線を通すことが可能 ※詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。
44mm角の筐体で、光学系の焦点調整をナノレベルで実現
光学業界では、高精度な焦点調整が求められます。特に、顕微鏡やレーザー加工機など、微細な操作が要求される場面では、正確な位置決めが不可欠です。わずかなズレが、測定結果の誤差や加工精度の低下につながる可能性があります。当社の小型Z軸ピエゾステージ P-611.Zは、2nm分解能での精密な焦点調整を実現し、光学系の性能を最大限に引き出します。 【活用シーン】 ・顕微鏡の対物レンズの焦点調整 ・レーザー加工機の焦点調整 ・光学測定器の精密位置決め 【導入の効果】 ・高精度な焦点調整による測定精度向上 ・微細加工における歩留まり向上 ・装置の性能向上と安定化
光学系の精密調整に。高精度な位置決めを実現するエアベアリングステージ
光学分野では、レンズやミラーなどの光学素子の精密な位置調整が、システム性能を大きく左右します。特に、高精度位置決めやスキャン用途においては、わずかな振動や摩擦が測定結果や画像品質に影響を与える可能性があります。 PIglide直動エアベアリングステージ「A-110」は、非接触エアベアリングと磁気リニアモータ、光学式リニアエンコーダを搭載。摩擦のない滑らかな動作により、高い位置決め精度と優れた再現性を実現します。また、パーティクルを発生しないため、クリーンルーム環境での光学用途にも最適です。さらに、最大400 mmの長ストロークに対応し、広範囲の高精度スキャンにも対応します。 【活用シーン】 ・顕微鏡 ・分光器 ・レーザー加工機 ・光学測定器 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる測定精度の向上 ・調整時間の短縮 ・製品品質の向上
光学アライメント・フォーカス調整に。高剛性クロスローラーガイド採用の精密Zステージ
光学装置では、レンズやセンサーの位置ずれが光学性能に大きく影響します。特に光軸調整やフォーカス制御では、サブミクロンレベルでの安定した位置決めが求められます。L-310は、ボールねじ駆動とクロスローラーガイドを採用した高精度Zステージです。高いガイド精度と剛性に加え、インクリメンタルエンコーダによる高精度位置測定により、光学機器における精密なZ軸位置制御を実現します。 【活用シーン】 ・光学レンズの位置調整 ・光学アライメント装置 ・センサー位置調整 ・顕微鏡フォーカス制御 ・レーザー光学系の位置調整 【導入の効果】 ・高精度なZ軸位置決めによる光学性能向上 ・安定した動作による測定精度の向上 ・スムーズな位置調整による作業効率向上 ・装置の安定性向上による歩留まり改善
