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バイオ解析に最適な高精度ナノポジショニングステージ
P-752は、最大35 µmのストロークと最大0.1 nm分解能を備えた高精度ピエゾナノポジショニングステージです。フレクシャガイド構造と高分解能キャパシティブセンサ（クローズドループ仕様）により、ヒステリシスの影響を抑えた高い再現性と安定性を実現します。 細胞レベルの観察や微細サンプルの操作など、ナノメートル精度が求められるバイオテクノロジー分野において、信頼性の高い位置決め性能を提供します。 【活用シーン】 ・蛍光顕微鏡・共焦点顕微鏡での精密フォーカシング ・細胞・オルガノイドのナノスケール位置制御 ・マイクロマニピュレーション ・バイオセンサー評価・ナノレベルアライメント 【導入の効果】 ・最大0.1 nm分解能による高精度位置決め ・クローズドループ制御による高い再現性と安定性 ・コンパクト設計による顕微鏡・分析装置への組込み適合性 ・高速応答による測定効率の向上
半導体製造における高精度位置決めを実現。素早く正確な整定動作
半導体業界では、製造プロセスの微細化に伴い、高精度な位置決めが不可欠です。特に、ウェーハの検査や露光工程においては、わずかな位置ずれが製品の品質を大きく左右します。P-620.1/629.1は、これらの課題に対応し、高精度な位置決めを実現します。内臓の静電容量型センサーにより、リニアリティエラー0.02%を達成し、半導体製造における歩留まり向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査 ・露光工程 ・光学アライメント ・干渉計測 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・歩留まりの向上 ・製造プロセスの効率化 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。
0.1nm分解能と高リニアリティで、ナノレベル計測を安定化。
ナノテクノロジー分野の計測において、正確な位置決めは極めて重要です。微細構造の観察、精密な加工、高度な実験には、ナノメートルレベルの精度が求められます。位置決めの誤差は、計測結果の信頼性を損ない、研究の進捗を妨げる可能性があります。PI社の0.1nm分解能ナノポジショナは、内蔵静電容量型センサーとフレクシャガイドにより、高精度な位置決めを実現し、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・顕微鏡試料走査 ・光学アライメント ・干渉計測 【導入の効果】 ・高精度な計測データの取得 ・実験の再現性の向上 ・研究開発の効率化
0.1nm分解能と高安定制御でやさしいナノ位置決め。
バイオテクノロジー分野、特に細胞操作においては、細胞へのダメージを最小限に抑えつつ、正確な位置決めが求められます。細胞培養、顕微鏡観察、マイクロインジェクションなど、ナノレベルの精度が生命現象の解明に不可欠です。不正確な位置決めは、実験の失敗やデータの信頼性低下につながる可能性があります。PI社の0.1nm分解能ナノポジショナは、細胞操作における精密な位置決めを可能にし、研究の効率化と精度の向上に貢献します。 【活用シーン】 ・細胞培養 ・顕微鏡観察 ・マイクロインジェクション ・細胞の選別 【導入の効果】 ・細胞へのダメージを最小限に抑え、実験の成功率を向上 ・正確な位置決めにより、実験データの信頼性を向上 ・研究の効率化と、より詳細な観察を実現
100 µmストローク、サブナノ分解能、210 g負荷時560 Hzの高応答フォーカススキャナ
バイオテクノロジー分野における細胞観察では、微小なフォーカス変動が画像品質に影響を与えます。P-726 PIFOCは、100 µmのZストロークとサブナノメートル分解能を備えた高荷重対応フォーカススキャナです。静電容量センサーによる直接位置フィードバックとフレクシャガイド構造により、高い位置決め精度と再現性を実現します。 さらに、210 g負荷時で560 Hzの共振周波数を持ち、高NA対物レンズ搭載時でも高い動的性能を維持。高速セットリング（約6ms）により、Zスタック取得やフォーカススキャンを効率化します。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡 ・超解像顕微鏡 ・ライブセルイメージング ・Zスタック取得を伴う3Dイメージング 【導入の効果】 ・高精度フォーカス制御による画像安定性向上 ・高速Z応答による測定効率改善 ・高荷重対応による光学系設計自由度向上 ・再現性の高いフォーカス位置決め
最大1800µmの長ストロークとナノ精度。独自の静電容量センサーで、物理的接触をせずに位置測定
半導体製造のウェーハやマスクの位置決めにおいて、高い精度と安定性が求められます。ナノメートルレベルの位置決め精度が製品の品質を左右します。位置決めの誤差は、歩留まりの低下や製品不良につながる可能性があります。P-620.2〜P-629.2 PIHera(R)シリーズは、長寿命のPICMA(R)アクチュエータを採用したXY軸ピエゾナノポジショニングステージです。静電容量式センサーを用いたクローズドループ制御により、優れた直線性と安定性を両立し、1nm以下の高分解能、±0.2nmの双方向再現性を提供します。 【活用シーン】 ・半導体製造装置 ・ウェーハ検査 ・マスクアライメント ・プロービング 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる歩留まり向上 ・安定した動作による生産性の向上 ・小型筐体による装置への組み込みやすさ ・長寿命アクチュエータによるメンテナンス性の向上
最大1800µmの長ストロークと、静電容量センサーによる優れた精度で顕微鏡のサンプル位置決めに最適
顕微鏡分野では、観察対象を高精度に走査し、鮮明な画像を得ることが求められます。特に、微細構造の観察や、細胞などの生体試料の観察においては、位置決めの精度が観察結果を大きく左右します。位置決め精度が低いと、ピントが合わず、正確な観察が困難になる可能性があります。小型XY軸ピエゾステージは、1nm以下の高分解能と±0.2nmの双方向再現性により、高精度な走査を実現します。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察における試料の走査 ・高倍率観察時の微調整 ・細胞イメージング 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる鮮明な画像取得 ・観察時間の短縮 ・実験の再現性向上
細胞操作・ライブセル観察に最適。サブナノ精度で安定したXY位置決めを実現。
バイオテクノロジー分野、とくに細胞操作やライブセル観察では、試料の微小な位置ずれが観察結果に大きな影響を与えます。細胞へのダメージを最小限に抑えながら、滑らかで高精度な位置決めを行うためには、サブナノメートル分解能と高い再現性が不可欠です。本製品は、1nm以下の高分解能と±0.2nmの双方向再現性を提供し、細胞操作における高い信頼性と効率性を実現します。 【活用シーン】 ・バイオセンサ評価 ・マイクロ流体デバイスへの組み込み 【導入の効果】 ・実験の再現性向上 ・研究効率の向上 ・詳細な製品仕様については、カタログよりご確認ください。
高倍率観察を支えるナノレベル走査。66mm開口のZ・チップチルトピエゾステージ
顕微鏡走査では、試料や対物レンズのわずかな位置ずれや傾きが、画像の解像度やコントラストに大きく影響します。特に高倍率観察や微細構造解析では、ナノメートルレベルのZ制御と角度補正、そして高い安定性が不可欠です。 P-518／P-528シリーズは、Z軸100µm／200µmストロークとチップチルト制御を組み合わせた高精度ピエゾステージです。66mmの大開口設計により透過観察にも対応。高いリニアリティと再現性により、ブレや歪みを抑えた高品質な画像取得を実現し、顕微鏡システムの性能向上に貢献します。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡 ・蛍光顕微鏡 ・走査型プローブ顕微鏡（SPM） ・細胞・ライブセル観察 ・材料／微細構造解析 【導入の効果】 ・ナノレベルの高精度Z走査 ・チップチルト補正による像の安定化 ・透過観察に対応する66mm開口 ・高分解能画像取得と再現性向上 ・研究開発効率の向上
ナノレベルのZ・チップチルト制御を実現。66mm開口の高精度ピエゾステージ
精密測定分野では、わずかな位置ずれや角度誤差が測定結果に大きく影響します。特に微細構造の評価や透過光を用いた計測では、ナノレベルの分解能と高い安定性、さらに十分な開口径が求められます。 P-518／P-528シリーズは、Z軸ストローク100µm／200µmとチップチルト制御を組み合わせた高精度ピエゾステージです。66mmの大開口設計により透過光計測にも対応し、高いリニアリティと再現性を実現。精密測定やアライメント工程における信頼性向上に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体検査・評価装置 ・フォトニクス／光学計測 ・顕微鏡・干渉計システム ・高精度アライメント用途 【導入の効果】 ・ナノレベルでの高精度Z・角度調整 ・66mm開口による透過光計測対応 ・高い直線性と安定性による測定信頼性向上
ナノレベル動作と大開口で、フォトニクス分野のアライメントを最適化
フォトニクス分野のアライメント作業では、光ファイバーやレンズなどの精密な位置調整が求められます。特に、光軸のずれは、測定精度や効率を大きく左右するため、ナノレベルでの精密な位置決めが重要です。Z・チップ・チルト開口部付ピエゾステージ P-5x8は、これらの課題に対し、高精度な位置決めと広い開口部による透過光測定の実現で貢献します。 【活用シーン】 ・光ファイバーアライメント ・レンズアライメント ・干渉計測 ・透過光アプリケーション 【導入の効果】 ・ナノレベルでの精密な位置決めによるアライメント精度の向上 ・66mm×66mmの開口部による透過光測定の効率化 ・高信頼性PICMAピエゾセラミックスによる長寿命化 ・静電容量センサーによる高いリニアリティ
100 µm × 3軸。光学アライメントをナノ精度で実現するコンパクトXYZピエゾステージ
光学システムにおいて、ビーム位置や光軸のわずかなずれは、結合効率や測定精度に大きく影響します。特に干渉計測、レーザー集光、ファイバーアライメントなどの用途では、サブミクロン以下の位置制御が不可欠です。 P-616 NanoCubeは、各軸100 µmの動作範囲を備えたコンパクトなXYZピエゾナノポジショナーです。フレクシャガイド構造によりバックラッシュのない高直線性動作を実現。ナノメートル分解能での微細位置決めと高い機械的安定性により、光学系の精密アライメントを高い再現性でサポートします。 研究用途から装置組込みまで対応可能な設計で、フォトニクス分野の高度な位置制御ニーズに応えます。 【活用シーン】 ・光ファイバーアライメント（結合効率最適化） ・レーザー集光位置の微調整 ・干渉計・ホログラフィー装置 ・顕微鏡ステージ微動制御 ・フォトニクス研究装置への組込み 【導入の効果】 ・ナノ分解能による光軸調整精度向上 ・バックラッシュレス構造による高再現性 ・高剛性フレクシャ設計によるドリフト低減 ・コンパクト設計による装置内組込み容易化
微細レーザー加工の焦点・位置制御を支える、100 µm × 3軸ナノポジショナー
レーザー微細加工では、ビーム位置や焦点のわずかなずれが加工品質に直結します。特にマイクロ加工や高アスペクト比加工では、サブミクロンレベルでの精密な位置制御が不可欠です。P-616 NanoCubeは、各軸100 µmストロークを備えたコンパクトなXYZピエゾナノポジショナーです。高剛性フレクシャガイド構造によりバックラッシュのない高直線性動作を実現し、ナノメートル分解能での微細位置調整が可能です。 レーザー加工装置に組み込むことで、 ・ビーム位置の微調整 ・焦点位置の高精度制御 ・加工位置の補正用途 に対応し、微細加工の安定性向上をサポートします。 【活用シーン】 ・レーザー微細加工装置への組込み ・フォーカス位置の精密制御 ・マイクロ穴あけ加工の位置補正 ・薄膜加工・精密パターニング 【導入の効果】 ・ナノメートル分解能による焦点位置の高精度制御 ・バックラッシュレス構造による高再現性 ・コンパクト設計で装置内組込みが容易 ・微細加工品質の安定化
高倍率観察をナノメートル分解能で支える、100 µm × 3軸コンパクトXYZピエゾステージ
高倍率顕微鏡観察では、わずかな位置ずれが像の鮮明さや再現性に大きく影響します。特に共焦点顕微鏡や蛍光顕微鏡、ライブセル観察では、サブミクロン以下の精密なXYZ制御が不可欠です。P-616 NanoCubeは、各軸100 µmの動作範囲を持つコンパクトなXYZピエゾナノポジショナーです。高剛性フレクシャガイド構造によりバックラッシュのない滑らかな動作を実現し、ナノメートル分解能での微細位置決めが可能です。 Z軸フォーカス制御やXYスキャン用途にも対応し、研究用途から装置組込みまで幅広く活用できます。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡のZ軸フォーカス制御 ・蛍光顕微鏡での多点観察 ・ライブセルイメージング ・高倍率対物レンズ下での微動位置決め ・ナノスケール材料観察 【導入の効果】 ・ナノメートル分解能による高精度フォーカス制御 ・バックラッシュレス構造による高再現性 ・高剛性設計による安定したスキャン動作 ・コンパクト設計で既存顕微鏡への組込みが容易
プローブ位置決めをサブナノ精度で実現するPIMars精密ナノステージ
高精度計測において、プローブの位置決め精度は測定結果の信頼性を左右します。わずかな振動やクロストークが誤差要因となるため、高剛性かつクローズドループ制御による安定したナノポジショニングが求められます。 P-561・P-562・P-563 PIMars Nanopositioning Stages は、パラレルキネマティクス構造と静電容量式センサを採用したXYZ多軸ピエゾフレクシャステージです。再現性±2 nm、リニアリティ0.03％を実現し、低クロストークで高精度なプローブ位置決めを可能にします。 高共振周波数と優れた動的特性により、高速スキャン計測や微小変位測定にも対応。半導体検査やナノ材料解析など、精密計測用途に最適です。 【活用シーン】 ・半導体検査 ・超解像顕微鏡 ・フォトニクス調整 【導入の効果】 ・高精度な測定結果の実現 ・測定時間の短縮 ・製品品質の向上
10 kHzの高速応答でビームを精密制御。レーザー加工向けTip/Tiltステージ
レーザー加工では、ビームの角度や位置のわずかな変動が、加工精度や仕上がり品質に直結します。特に微細加工や高速スキャニング工程では、高速応答性と高分解能を兼ね備えたビーム制御機構が不可欠です。 S-331は、最大10 kHzの高い共振周波数と±5 mradの動作角を備えた高速Tip/Tiltピエゾステージです。優れたダイナミクス性能によりリアルタイムでのビーム補正を実現し、焦点ずれや加工ムラを低減。高精度かつ安定したレーザー加工プロセスの構築に貢献します。 【活用シーン】 ・レーザービームの高速ステアリング ・微細穴あけ／溝加工などの精密加工 ・加工中のリアルタイムビーム補正 ・高精度アライメント制御 【導入の効果】 ・加工精度と再現性の向上 ・高速応答による加工効率の改善 ・加工ムラ低減と歩留まり向上 ・装置性能の高度化
顕微鏡の高速フォーカシングを実現する高精度PIFOC Zステージ
顕微鏡を用いた研究分野では、高速かつ高精度なフォーカシングが観察結果の品質や取得データの再現性に大きく影響します。特に、共焦点顕微鏡や蛍光顕微鏡による3DイメージングやZスタック取得では、ナノメートル分解能での高速Z位置決めが求められます。P-737 PIFOC Zステージは、対物レンズを直接駆動するピエゾフレクシャー構造を採用し、高速応答かつ高精度なZ軸制御を実現します。コンパクト設計のため既存の顕微鏡システムにも統合しやすく、研究用途における高度なフォーカシング要求に対応します。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡による3Dイメージング ・蛍光顕微鏡のZスタック取得 ・ライブセルイメージング ・ナノスケール構造の観察 【導入の効果】 ・高速Zスキャンによる測定時間短縮 ・ナノメートル分解能の高精度フォーカシング ・再現性の高いイメージング ・顕微鏡システムへの容易な統合
ピエゾWalk駆動、ナノメートル精度、半導体製造の位置決めに
半導体製造業界では、ウェーハやマスクの位置決めにおいて、高い精度と安定性が求められます。特に、微細加工や検査工程においては、ナノメートルレベルの位置決め能力が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素となります。位置決めの精度が低いと、製造不良や検査エラーが発生し、コスト増につながる可能性があります。当社の高発生力＆高精度ピエゾリニアステージ N-332は、ピエゾWalkドライブにより、ナノメートル精度での位置決めを実現し、半導体製造における課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハプロービング ・マスクアライメント ・半導体製造装置 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる歩留まり向上 ・製造プロセスの効率化 ・製品品質の安定化
最大33mmストローク、半導体装置向け超小型ピエゾ駆動リニアステージ
半導体製造工程では、ウェーハやマスクの位置決めにおいて高い精度と再現性が求められます。特に微細加工や検査工程では、位置決め精度が製品品質や歩留まりに直結します。B-421 BIX ミニチュアリニアステージは、超小型設計でありながら、ピエゾ駆動による高分解能な位置決めを実現。限られた装置スペース内でも組み込みやすく、精密な位置制御が求められる半導体装置に適しています。 最大33mmのストロークに対応し、コンパクトかつ高性能な位置決めソリューションを提供します。 【活用シーン】 ・ウェーハプロービング装置 ・マスクアライメント装置 ・半導体検査装置 ・精密アセンブリ装置 【導入の効果】 ・高分解能位置決めによる安定したプロセス制御 ・装置の省スペース化に貢献 ・高精度制御による工程安定性向上
光学系の精密アライメントに対応する超小型ピエゾ駆動リニアステージ
光学システムでは、レンズやミラー、光学素子の位置調整が性能を大きく左右します。わずかな位置ずれが、像の歪みや測定精度の低下につながる場合があります。B-421 BIX ミニチュアリニアステージは、超小型設計でありながら、ピエゾ駆動による高分解能な位置制御を実現。限られたスペースにも組み込みやすく、精密な光学アライメント用途に適しています。最大33mmのストロークに対応し、研究開発用途から装置組み込みまで幅広い光学調整ニーズに対応します。 【活用シーン】 ・顕微鏡の対物レンズ調整 ・レーザー加工機の焦点調整 ・光ファイバーアライメント ・干渉計・計測装置の精密位置決め 【導入の効果】 ・高分解能な位置制御による安定したアライメント ・装置の省スペース設計に貢献 ・再現性の高い光学調整を実現
研究開発用途に対応｜最大33mmストロークの超小型ピエゾステージ
研究開発分野では、試料や光学素子、センサなどの精密な位置決めが実験結果に大きく影響します。微細構造の観察や高分解能計測など、わずかな位置変動がデータ精度に影響を与えるケースも少なくありません。B-421 BIX ミニチュアリニアステージは、超小型設計ながらピエゾ駆動による高分解能な位置制御を実現。限られた実験スペースにも組み込みやすく、研究用途における精密位置決めに適したソリューションです。最大33mmのストロークに対応し、柔軟な実験構成や多軸システムへの拡張にも対応可能です。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察 ・微細加工実験 ・材料特性評価 ・光学実験／レーザー実験 ・センサ評価試験 【導入の効果】 ・高分解能な位置制御による安定したデータ取得 ・実験装置の省スペース化に貢献 ・再現性の高い位置決め ・多軸構成による柔軟な実験設計
光学機器の調整作業を精密かつスムーズに。高精度リニアステージ
レーザー微細加工では、ワークのわずかな位置ずれが加工品質に大きく影響するため、高精度かつ安定した位置決めが求められます。特に、半導体材料、ガラス、フィルムなどの微細加工では、ナノメートルレベルでの精密な位置制御が重要です。 V-D07 高負荷リニアモーターステージは、高精度リニアエンコーダとリニアモータダイレクトドライブにより、ナノメートルレベルの高精度位置決めと高速動作を実現。レーザー微細加工装置の高精度ステージとして、安定した加工プロセスをサポートします。 【活用シーン】 ・レーザー微細加工装置の精密位置決め ・半導体・電子部品のレーザー加工 ・ガラス・フィルムのレーザー加工 ・光学部品のアライメント調整 【導入の効果】 ・ナノメートル単位での精密な位置決めが可能 ・摩擦レス駆動によるスムーズな動作 ・高負荷環境下での安定した動作
高速・高精度なZ軸制御で、半導体検査の品質と効率を向上
半導体分野では、ウェーハやマスクの位置決めにおいて、高い精度と安定性が求められます。特に検査工程や微細加工では、わずかな位置ずれが測定誤差や歩留まり低下につながり、製品品質に大きく影響します。 V-Z03は、ボイスコイルモータによるダイレクトドライブ方式を採用し、高速応答かつ高精度なZ軸制御を実現。さらに、高剛性クロスローラーガイドと非接触リニアエンコーダにより、バックラッシュのない安定した位置決めと高い再現性を確保します。最大150 Nの高荷重対応および空圧式カウンターバランスにより、重量物の精密位置決めにも最適です。 【活用シーン】 ・半導体検査装置 ・ウェーハ検査・計測装置 ・精密測定機器 【導入の効果】 ・高精度位置決めによる測定精度の向上 ・高速応答によるタクトタイム短縮 ・高剛性ガイドによる安定した動作 ・高荷重対応による用途拡張 ・セルフロック機能による安全性向上
高速応答＆高剛性で、サブミクロン単位の精密Z軸制御を実現
研究開発分野における実験では、精密な位置決めと安定した動作が不可欠です。特に、微細構造の観察や精密加工においては、Z軸方向の正確な制御が実験の成否を左右します。従来のステージでは、位置決めの精度や応答速度に課題があり、実験の効率を低下させる要因となっていました。V-Z03は、ボイスコイルモータによるダイレクトドライブ方式を採用し、高速かつ高精度なZ軸制御を実現します。 【活用シーン】 ・産業・研究分野での精密位置決め ・半導体検査 【導入の効果】 ・サブミクロン単位の精密な位置決め ・実験時間の短縮 ・実験精度の向上 ・多様な実験への対応
高速・高精度なウェーハ検査をV-P01が実現
半導体業界のウェーハ検査では、微細な欠陥を高精度に検出することが求められます。検査の精度は、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、ウェーハの大型化と高密度化が進む中、より高速かつ正確な位置決めが不可欠です。V-P01は、リニアモータ駆動により、高精度な位置決めと高速スキャンを実現し、ウェーハ検査の効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハの自動光学検査（AOI） ・ウェーハ表面の精密スキャニング ・微細パターンの位置決め 【導入の効果】 ・検査時間の短縮 ・検査精度の向上 ・歩留まりの改善
レンズ調整の精度と効率を向上させるXYステージ
光学業界のレンズ調整においては、高精度な位置決めと安定性が求められます。レンズの性能を最大限に引き出すためには、ミクロン単位での微調整が不可欠です。位置ずれは、画像の歪みや解像度の低下を引き起こし、製品の品質に直接影響します。V-P01は、リニアモータ駆動により、これらの課題に対応します。 【活用シーン】 ・レンズ研磨・組立工程 ・光学測定器 ・検査装置 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・高速・高加速度による作業効率アップ ・安定した動作による歩留まり向上
高速・高精度な実験をサポートするXYステージ
研究開発分野における実験では、精密な位置決めと安定した動作が不可欠です。特に、微細な構造の観察や、精密な加工を行う際には、位置精度の高いステージが求められます。位置精度の低いステージでは、実験結果の再現性が損なわれたり、正確なデータが得られない可能性があります。V-P01は、リニアモータ駆動により、高精度な位置決めと安定した動作を実現し、研究開発における実験の質を向上させます。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察 ・精密加工 ・AOI検査 ・スキャニング 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる実験精度の向上 ・高速・高加速度による実験効率の向上 ・安定した動作による再現性の確保
リニアモータ×高精度エンコーダで高荷重600Nでも滑らか・高速応答
光学システムでは、高精度な位置決めと安定した動作が重要です。特にレンズやミラーなどの光学部品の配置調整では、わずかな位置ズレでも測定結果や画像品質に影響を与える可能性があります。 V-817は、リニアモータによるダイレクトドライブと高精度インクリメンタルエンコーダを組み合わせたリニアステージです。摩擦の少ない滑らかな動作と高速応答により、光学部品の精密な位置調整や光軸アライメントを高精度に行えます。 さらに最大600 Nの高荷重に対応し、剛性の高い構造により安定した位置決めを実現。光学装置や精密測定システムにおける高精度な調整作業をサポートします。 【活用シーン】 ・レンズやミラーの位置調整 ・光学系の組み立て ・精密測定 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる調整精度の向上 ・安定した動作による作業効率の向上 ・非接触駆動による発塵の抑制
高速4 m/s×高分解能で研究開発の位置決めを高精度化
研究開発分野の実験では、高精度な位置決めと安定した動作が求められます。特に微細構造の観察や精密加工、材料評価などの実験では、位置決め精度が測定結果や実験の再現性に大きく影響します。 V-855は、リニアモータによるダイレクトドライブと高精度リニアエンコーダを備えた高速リニアステージです。0.1 µmの最小インクリメンタルモーションと最大4,000 mm/s（4 m/s）の高速動作により、精密な位置決めと高速搬送を両立します。 さらに最大800 mmの長ストロークにより、大型試料の測定やスキャン測定など、研究開発装置における幅広い実験用途に対応します。 【活用シーン】 ・精密測定 ・微細加工 ・光学実験 ・材料試験 【導入の効果】 ・実験の再現性向上 ・測定精度の向上 ・作業効率の向上 ・実験時間の短縮
レーザービームの精密制御を実現する高速ミラーステージ
レーザー加工において、精密なビーム制御は加工精度と生産効率を左右する重要な要素です。特に、微細加工や高精度な切断・溶接では、レーザービームの正確な位置決めと安定した制御が不可欠です。わずかなビームのずれや揺らぎでも、加工品質の低下や歩留まり悪化につながる可能性があります。 本製品は、最大8°の大角度駆動が可能なボイスコイル駆動のTip/Tiltミラーステージです。レーザービームの角度を高精度かつ高速に制御し、安定したビーム操作を実現します。 【活用シーン】 ・レーザー加工におけるビームの角度調整 ・精密な位置決めが求められるレーザーアプリケーション ・レーザービーム安定化が求められるレーザーシステム 【導入の効果】 ・高精度なレーザー加工の実現 ・加工品質の向上 ・歩留まりの改善
