最大33mmストローク、半導体装置向け超小型ピエゾ駆動リニアステージ
半導体製造工程では、ウェーハやマスクの位置決めにおいて高い精度と再現性が求められます。特に微細加工や検査工程では、位置決め精度が製品品質や歩留まりに直結します。B-421 BIX ミニチュアリニアステージは、超小型設計でありながら、ピエゾ駆動による高分解能な位置決めを実現。限られた装置スペース内でも組み込みやすく、精密な位置制御が求められる半導体装置に適しています。 最大33mmのストロークに対応し、コンパクトかつ高性能な位置決めソリューションを提供します。 【活用シーン】 ・ウェーハプロービング装置 ・マスクアライメント装置 ・半導体検査装置 ・精密アセンブリ装置 【導入の効果】 ・高分解能位置決めによる安定したプロセス制御 ・装置の省スペース化に貢献 ・高精度制御による工程安定性向上
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基本情報
【特長】 ・ストローク：13mm、23mm、33mm ・最小インクリメンタルモーション：0.01μm ・最大積載荷重：0.5kg（水平） ・最大速度：14mm/s ・対応コントローラ：E-881 【当社の強み】 ドイツ本社で50年以上にわたり培ってきた精密制御技術をもとに、世界中の研究機関・装置メーカーに採用されるピエゾステージおよびアクチュエータを提供しています。豊富なラインアップと技術力で、お客様のニーズに最適なソリューションをご提案します。
価格情報
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納期
用途／実績例
・超解像顕微鏡（例：TIRF、STORM） ・ライトシート顕微鏡（例：グリッド光シート） ・マイクロアセンブリ ・フォトニクス ・光学アライメント ・ビームライン装置 ・半導体技術 ・モバイル測定技術装置（例：分光法、干渉計法）
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企業情報
ドイツ本社は50年以上、日本法人として30年の精密位置決め製品のPI社が新たなソリューションをご提案 世界シェアNo.1のピエゾステージ＆アクチュエータやヘキサポッドなどの位置決め製品をご提供。 さらに、リニアモータ駆動製品と高精度エアベアリングステージのラインアップを充実させています。 位置決めにおいて、土台にも注意が必要で、弊社ではグラナイト定盤もご提供し、複合システムもご提案可能です。 世界中の生産現場や先端機器、様々な分野の最先端研究に総合的なソリューションを提供しています。是非ご覧下さい。
