ピーアイ・ジャパンの製品ラインアップ

V-731は、高精度な位置決めと優れた動作安定性を実現するXYリニアモーターステージです。アイアンレス3相リニアモーターを採用し、摩擦やバックラッシュの影響を受けないダイレクトドライブにより、滑らかで高応答な動作を可能にします。 低速域でも安定した走行性能を維持しつつ、高速時でも振動を抑制します。さらに、クロスローラーガイドにより高剛性と高い案内精度を確保。 非接触式のインクリメンタルリニアエンコーダを搭載し、非線形性、機械的バックラッシュ、弾性変形などの影響を受けません。精密な位置決めが求められる多様なアプリケーションに最適な高性能ステージです。

• リニアモータ
• その他機械要素

F-836 3Dアライメントシステムは、L-836シリーズのリニアステージを積層構造で構成しています。 高分解能ステッピングモーター、高精度ボール循環ガイド、および高精度リニアエンコーダーを備えており、コンパクトなサイズながら、高分解能・高再現性・高速動作が求められるアプリケーションに最適です。 F-836 XYZシステムは、3Dアライメントのために3または6自由度の直線軸を提供します。さらに、将来的にゴニオメーターを統合することで、自由度の拡張が可能です。

• その他光学部品

H-811.x2IHPは、高速・コンパクト・高精度を兼ね備えた小型ヘキサポッドです。パラレルキネマティクスにより、コンパクトな設計で6軸の高精度位置決めを実現。サブミクロンレベルの再現性と高いダイナミクスにより、精密なアライメントや高速動作が求められる用途に最適です。 ブラシレスDCモーターと高剛性設計により、外部干渉下でもアクティブアライメント用途に必要なダイナミクスを提供します。さらに、専用ソフトウェアによる動作シミュレーションや自動アライメント機能により、システム構築と運用を効率化します。

• ブラシレスDCモータ
• アクチュエーター

真空環境で、こんなお悩みはありませんか？ ・真空環境で位置決め精度が安定しない ・摩耗・ガス放出の影響が気になる ・限られた設置スペースで構成したい などの課題から、真空環境では、通常仕様の製品では性能を十分に発揮できません。 ピーアイの真空対応製品は、高精度・低アウトガス・UHV対応を実現し、半導体・分析装置・研究用途で多数の実績があります。 真空環境対応製品を一覧でWebサイトにてご紹介しています。詳細は、以下の掲載カタログをダウンロードのうえご確認ください。 また、公式サイトの製品ページでは、本カタログに掲載されていない製品もご覧いただけます。ぜひあわせてご確認ください。

• その他機械要素

P-611.3 NanoCubeは、XYZ 3軸制御を可能にする超小型ピエゾナノポジショニングステージです。44×44×44mmのコンパクトサイズながら、最大120µmの移動量と0.2nmの分解能を実現し、ナノレベルの位置決めが求められる研究・産業用途に最適です。 高精度フレクシャーガイド構造によりバックラッシュのない滑らかな動作を実現し、高速スキャンや高精度アライメントに対応します。 さらに、PI独自のPICMA（R）ピエゾアクチュエータを採用し、湿気や漏れ電流による故障を防止。従来のポリマー絶縁型アクチュエータと比べて最大10倍の長寿命を実現しています。

• アクチュエーター
• その他機械要素

A-60x PIglide RTは、非接触のエアベアリング技術を採用した高精度回転モジュールです。摩擦が発生しない構造のため、スティックスリップやブレークアウェイトルクがなく、極めて滑らかな回転運動を実現します。 偏心・平面度は200nm以下の高精度性能を持ち、高剛性設計により精密計測や光学アライメントなどの用途に最適です。さらに潤滑油を使用しないためメンテナンス不要で、パーティクル発生がなくクリーンルーム環境でも使用できます。 モーターやエンコーダと組み合わせることで、高精度回転ステージとして柔軟なシステム構築が可能です。

• 金属軸受・ベアリング
• その他機械要素

P-733.Zは、ナノメートルレベルの分解能と高速応答性能を兼ね備えた高剛性ピエゾZナノポジショニングステージです。100µmのトラベルレンジと50×50mmのクリアアパーチャを備え、顕微鏡やマスク／ウェハの位置決め用途などに適しています。 非接触の静電容量センサーにより、サブナノメートル分解能の計測が行えます。また、最大0.3nmの分解能と高い繰り返し精度を実現。フレクシャガイド構造により摩耗やバックラッシュがなく、長期にわたり安定した高精度位置決めが可能です。 PI独自のPICMA(R)アクチュエータを採用しており、従来のポリマー絶縁アクチュエータと比較して最大10倍の長寿命を実現します。

• アクチュエーター
• 圧電デバイス
• センサ

P-736は、顕微鏡用途に最適化された高精度ピエゾZステージです。100µmまたは200µmのトラベルレンジを備え、高速ステップ動作と優れたセットリング性能により、顕微鏡のフォーカス制御や高速Zスキャンに対応します。 薄型設計（高さ約20mm）により顕微鏡システムへの組み込みが容易です。非接触の静電容量センサーによる位置フィードバックを採用し、ナノメートルレベルの分解能と高い繰り返し精度を実現します。 駆動部にはPI独自のPICMA(R)ピエゾアクチュエータを採用。これにより、高い信頼性と長寿命を実現するとともに、高速応答によるダイナミックなZ軸制御が可能です。

• アクチュエーター
• 圧電デバイス
• センサ

L-306は、小型設計ながら高精度な位置決めを実現するZステージです。ベルトギアを用いた折り返し駆動構造によりコンパクトサイズを実現（設置面積が63×63mm）。XYステージと組むことが容易です。 駆動方式には2相ステッピングモータまたはクローズドループDCモータを採用し、用途や制御システムに応じた構成が可能です。また、クロスローラーガイドを採用しており、高い剛性、低い予圧による摩擦の低減、滑らかな動作を実現。さらに、高い案内精度と耐荷重性能を備えています。 強制保持式ローリングエレメントケージによりケージクリープを防止します。

• アクチュエーター
• エンコーダー
• その他機械要素

半導体製造では、ウェーハステージや精密位置決め機構のわずかな変位や振動が、加工精度や製品歩留まりに大きく影響します。微細化が進む半導体プロセスでは、ナノメートルレベルの変位を高精度に測定することが重要です。 D-510 PISecaは、静電容量方式による非接触変位測定を採用した高分解能センサーです。サブナノメートル分解能と最大10 kHzの高帯域測定により、ウェーハステージの微小変位や装置振動を高精度に検出し、半導体製造装置における位置制御の高精度化とプロセス安定化に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハステージの位置フィードバック ・半導体製造装置のナノ位置制御 ・ウェーハ表面の振動測定 ・精密アライメントシステム ・半導体検査装置 【導入の効果】 ・ナノレベルの高精度変位測定 ・非接触測定によるウェーハへの影響低減 ・装置振動の高精度モニタリング ・半導体プロセスの安定化と歩留まり向上

• センサ
• 変換機・トランスデューサ
• その他電子部品

精密加工分野では、加工精度や装置性能を向上させるために、ナノメートルレベルの高精度な変位測定が求められます。わずかな振動や位置ずれでも、加工精度や製品品質に大きな影響を与える可能性があります。 D-510は、静電容量方式による非接触変位測定を採用した高分解能センサーです。サブナノメートル分解能により、精密加工装置における位置フィードバックや振動測定を高精度に行うことができ、加工プロセスの安定化と精度向上に貢献します。 【活用シーン】 ・精密加工装置の位置フィードバック ・微細加工プロセスの位置制御 ・精密位置決めシステム ・半導体製造装置 ・精密振動測定 【導入の効果】 ・ナノレベルの高精度変位測定 ・非接触測定による対象物への影響低減 ・加工精度の向上 ・装置振動の高精度モニタリング

• センサ
• 変換機・トランスデューサ
• その他電子部品

研究開発分野では、ナノスケールの微小な変位や振動を正確に測定することが求められます。特にナノ計測や精密位置決めの研究では、高分解能かつ高応答なセンサーが実験精度や再現性を大きく左右します。 D-510は、静電容量方式による非接触変位測定を採用した高分解能センサーです。サブナノメートル分解能と最大10 kHzの高帯域により、ナノレベルの変位測定や高ダイナミクスな振動測定を実現します。研究開発用途における高精度測定やナノ位置決め制御に最適です。 【活用シーン】 ・ナノ位置決め研究 ・材料特性評価 ・精密振動測定 ・ナノメトロロジー ・研究用精密計測装置 【導入の効果】 ・ナノレベルの高精度変位測定 ・非接触測定による試料への影響低減 ・高帯域測定による動的挙動の解析 ・実験データの再現性と信頼性向上

• センサ
• 変換機・トランスデューサ
• その他電子部品

精密機械分野では、製品性能や加工精度を高めるため、ナノメートルレベルの高精度な変位測定が求められます。特に高精度位置決めや微細加工、精密計測では、わずかな変位の変化を正確に測定することが重要です。測定精度が不足すると、製品品質の低下や装置性能のばらつきにつながる可能性があります。 D-050 / D-100は、静電容量方式による非接触変位測定を採用した高分解能センサーです。最大0.01nmの分解能により、ナノスケールの精密変位測定を実現し、精密機械装置や精密計測システムにおける高精度位置制御に貢献します。 【活用シーン】 ・精密位置決め装置 ・精密計測機器 ・半導体製造装置 ・ナノ位置決めシステム ・クリーン環境での精密測定 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルの高精度変位測定 ・非接触測定による対象物への影響低減 ・高精度位置決め制御の実現 ・多軸システムにおける高精度フィードバック制御

• センサ
• 変換機・トランスデューサ
• その他電子部品

ナノテクノロジー分野では、材料や構造の微小な変位や変形をナノメートルレベルで正確に測定することが重要です。特に、ナノ材料評価やナノ計測、ナノポジショニングでは、わずかな変位の変化を高分解能で検出できるセンサーが求められます。 D-050 / D-100は、静電容量方式による非接触変位測定を採用した高分解能センサーです。最大0.01nmの分解能により、ナノスケールの変位測定や高精度位置制御を実現し、ナノテクノロジー研究やナノ計測システムにおける高精度測定を可能にします。 【活用シーン】 ・ナノ材料の特性評価 ・薄膜の厚さ測定 ・表面形状の精密測定 【導入の効果】 ・ナノメートルスケールでの高精度な測定が可能 ・非接触測定による材料への影響を最小化 ・多軸制御によるリアルタイム補正が可能

• センサ
• 変換機・トランスデューサ
• その他電子部品

X-365は、高性能コアレスリニアモーターを搭載したモジュラー型のXYガントリーシステムです。 熱影響を低減する設計により安定した動作を実現し、ナノメートル分解能のアブソリュートエンコーダにより高い再現性を確保します。 カスタマイズ性の高い構成により、レーザー加工や検査工程など幅広い用途にも対応可能です。

• 機械設計

研究開発分野における実験では、精密な位置決めが不可欠です。特に、微細な調整が求められる実験や、限られたスペースでのセットアップが必要な場合に、小型で高精度なリニアステージが求められます。M-11x型リニアステージは、コンパクトながらも高い精度と多様な軸構成を実現し、研究開発の効率化と精度の向上に貢献します。真空（10-6hPa）に適したタイプもあります。 【活用シーン】 ・光学実験 ・顕微鏡観察 ・精密測定 ・微細加工 【導入の効果】 ・実験のセットアップ時間の短縮 ・実験精度の向上 ・省スペース化 ・多様な実験への対応

• アクチュエーター
• 直交ロボット
• エンコーダー

光学業界における調整作業では、精密な位置決めが求められます。特に、レンズやミラーの位置調整は、光学系の性能を左右する重要な要素です。微小なズレが、画像品質の低下や測定精度の悪化につながる可能性があります。リニアステージ M-11x型は、小型ながらも高精度な位置決めを実現し、光学系の調整作業を効率化します。 【活用シーン】 ・レンズやミラーの位置調整 ・ファイバーアライメント ・光学部品の精密位置決め 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる光学性能の向上 ・作業時間の短縮 ・調整作業の効率化

• アクチュエーター
• 直交ロボット
• エンコーダー

顕微鏡観察では、観察対象への高精度なフォーカス維持が求められます。特に長時間観察や環境変動のある条件では、フォーカスのドリフトが観察品質に影響する場合があります。 N-472シリーズは、インクリメンタルエンコーダによる位置フィードバックを備えたピエゾマイクロポジショニングアクチュエータです。慣性駆動（スティックスリップ）方式により高分解能の位置決めを実現し、顕微鏡のフォーカス位置を長期間にわたり安定して維持します。 さらに、停止時にはセルフロック機構により位置を保持するため、電流を必要とせず発熱も抑えられます。長時間の観察環境においても安定したフォーカス制御を可能にします。 【活用シーン】 ・顕微鏡のフォーカス調整 ・細胞観察 ・半導体検査 【導入の効果】 ・高精度なフォーカス制御による観察精度の向上 ・長期安定性による観察効率の向上 ・動作時以外は電流を必要としない省エネ設計

• アクチュエーター
• 圧電デバイス
• ソレノイド・アクチュエータ

光学システムでは、高精度な光軸調整や位置決めが重要です。特にレンズやミラーなどの光学素子の位置は、システム性能や測定精度に大きく影響します。わずかな位置ズレでも、画像品質の低下や測定誤差の増大につながる可能性があります。 N-472シリーズは、インクリメンタルエンコーダによる位置フィードバックを備えたピエゾマイクロポジショニングアクチュエータです。慣性駆動（スティックスリップ）方式により、高分解能の位置決めと長期安定性を実現し、光学素子の精密なアライメント調整を可能にします。 さらに停止時にはセルフロック機構により位置を保持するため、電流を必要とせず発熱を抑制。長時間にわたる安定した光学調整を実現します。 【活用シーン】 ・光学顕微鏡の対物レンズ調整 ・レーザー加工機の光軸調整 ・半導体製造装置における位置決め 【導入の効果】 ・高精度な位置決めにより、システムの性能向上 ・長期安定性により、メンテナンス頻度の削減 ・インクリメンタルエンコーダ内蔵により、位置フィードバックが可能

• アクチュエーター
• 圧電デバイス
• ソレノイド・アクチュエータ

顕微鏡観察では、観察対象への高精度なフォーカス調整が、鮮明な画像取得に不可欠です。特に高倍率観察や長時間観察では、微小なフォーカス調整が求められます。 N-470は、最大13 mmの移動範囲と高い保持力を備えたピエゾマイクロポジショニングアクチュエータです。高分解能の位置調整により、顕微鏡のフォーカス位置を精密に制御できます。 さらに停止時にはセルフロック機構により位置を保持するため、電流を必要とせず発熱もありません。顕微鏡の安定したフォーカス調整を実現します。 【活用シーン】 ・顕微鏡の対物レンズのフォーカス調整 ・細胞観察、材料観察、半導体検査など 【導入の効果】 ・高精度なフォーカス調整による鮮明な画像取得 ・長期安定性による観察の効率化 ・手動調整からの解放による作業効率の向上

• アクチュエーター
• 圧電デバイス
• ソレノイド・アクチュエータ

光学システムでは、光学素子の精密な位置調整や光軸アライメントが、システム性能を左右する重要な要素です。特にレーザー装置や顕微鏡などの精密機器では、わずかな調整誤差でも測定精度や画像品質に影響を与える可能性があります。 N-470は、ピエゾ慣性駆動（スティックスリップ）方式を採用したコンパクトなリニアアクチュエータです。高分解能の微動調整と高い保持力（100 N）により、光学ミラーのチップ・チルト調整や光学素子の精密な位置決めを安定して行えます。 さらに停止時にはセルフロック機構により位置を保持するため、電流を必要とせず発熱もありません。長期間にわたる安定した光学アライメントを実現します。 【活用シーン】 ・光学ミラーの微調整 ・光学素子の位置決め ・ファイバーアライメント 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる測定精度の向上 ・長期安定性の確保による信頼性向上 ・手動調整からの解放による作業効率の向上

• アクチュエーター
• 圧電デバイス
• ソレノイド・アクチュエータ

半導体製造では、ウェハ検査やナノリソグラフィなどの工程において、ナノメートルレベルの高精度位置決めが求められます。わずかな位置決め誤差でも、製品品質の低下や歩留まり悪化につながる可能性があります。 N-216は、PI独自のNEXLINE(R) PiezoWalk(R)ウォーキングドライブ技術を採用した高推力リニアアクチュエータです。 0.03nm（オープンループ）／5nm（クローズドループ）の高分解能と最大800Nの保持力により、半導体製造装置における高精度かつ安定したナノ位置決めを実現します。 【活用シーン】 ・ウェハ検査装置 ・ナノリソグラフィ装置 ・半導体製造装置 ・ナノ計測装置 ・精密位置決め用途 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルの高精度位置決めによる歩留まり向上 ・高推力駆動による安定した位置決め性能 ・製造プロセスの効率化 ・高品質な半導体製品の安定生産に貢献

• アクチュエーター
• 圧電デバイス
• その他機械要素

光学システムでは、高精度な位置決めと安定した動作が重要です。特にレンズやミラーなどの光学部品の配置調整では、わずかな位置ズレでも測定結果や画像品質に影響を与える可能性があります。 V-817は、リニアモータによるダイレクトドライブと高精度インクリメンタルエンコーダを組み合わせたリニアステージです。摩擦の少ない滑らかな動作と高速応答により、光学部品の精密な位置調整や光軸アライメントを高精度に行えます。 さらに最大600 Nの高荷重に対応し、剛性の高い構造により安定した位置決めを実現。光学装置や精密測定システムにおける高精度な調整作業をサポートします。 【活用シーン】 ・レンズやミラーの位置調整 ・光学系の組み立て ・精密測定 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる調整精度の向上 ・安定した動作による作業効率の向上 ・非接触駆動による発塵の抑制

• リニアモータ
• アクチュエーター
• 直交ロボット

半導体製造業界では、ウェーハやマスクの位置決めにおいて、高い精度と安定性が求められます。特に、微細加工や検査工程においては、位置決めのわずかなズレが製品の品質に大きく影響します。V-817は、高精度な位置決めと長期安定性を提供し、歩留まり向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ加工 ・精密検査 ・レーザー加工 【導入の効果】 ・2 µmレベルの位置決め再現性 ・非接触駆動による発塵抑制 ・長期安定性の実現

• リニアモータ
• アクチュエーター
• 直交ロボット

研究開発分野における実験では、精密な位置決めと安定した動作が不可欠です。特に、微細な構造の観察や、精密な加工を行う際には、位置精度の高いステージが求められます。位置精度の低いステージでは、実験結果の再現性が損なわれたり、正確なデータが得られない可能性があります。V-P01は、リニアモータ駆動により、高精度な位置決めと安定した動作を実現し、研究開発における実験の質を向上させます。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察 ・精密加工 ・AOI検査 ・スキャニング 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる実験精度の向上 ・高速・高加速度による実験効率の向上 ・安定した動作による再現性の確保

• その他機械要素
• 直交ロボット
• エンコーダー

レーザー加工業界では、精密な切断が求められます。特に、材料の無駄を減らし、高品質な製品を効率的に製造するためには、レーザーヘッドの位置決め精度と移動速度が重要です。位置精度の低いステージでは、切断面の品質が低下し、歩留まりが悪化する可能性があります。また、移動速度が遅いと、生産性が低下し、コスト増につながります。V-P01は、リニアモータ駆動により、高精度な位置決めと高速移動を実現し、レーザー加工における切断工程の課題を解決します。 【活用シーン】 ・レーザーカッター ・レーザーマーキング ・レーザー彫刻 【導入の効果】 ・高精度な切断による製品品質の向上 ・高速移動による生産性の向上 ・材料の無駄を削減し、コスト削減に貢献

• その他機械要素
• 直交ロボット
• エンコーダー

計測機器業界における校正作業では、高精度な位置決めが不可欠です。測定器の正確な校正には、微小な動きを正確に制御できるステージが求められます。位置精度の低いステージでは、校正結果に誤差が生じ、製品の品質に影響を与える可能性があります。V-P01は、リニアモータ駆動により、±1µmの位置精度と0.1µmの最小インクリメンタルモーションを実現し、校正作業の精度向上に貢献します。 【活用シーン】 ・精密測定器の校正 ・センサのキャリブレーション ・検査装置の位置決め 【導入の効果】 ・校正作業の効率化 ・校正精度の向上 ・製品品質の安定化

• その他機械要素
• 直交ロボット
• エンコーダー

光学業界のレンズ調整においては、高精度な位置決めと安定性が求められます。レンズの性能を最大限に引き出すためには、ミクロン単位での微調整が不可欠です。位置ずれは、画像の歪みや解像度の低下を引き起こし、製品の品質に直接影響します。V-P01は、リニアモータ駆動により、これらの課題に対応します。 【活用シーン】 ・レンズ研磨・組立工程 ・光学測定器 ・検査装置 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・高速・高加速度による作業効率アップ ・安定した動作による歩留まり向上

• その他機械要素
• 直交ロボット
• エンコーダー

顕微鏡観察や医療・ライフサイエンスにおいては、観察対象を高精度に位置決めし、安定した状態で画像データを取得することが重要です。微細な構造を観察するためには、位置決めの安定性と再現性が求められます。位置精度が低い場合、観察対象の焦点がずれ、正確な診断や研究に支障をきたす可能性があります。V-P01 高精度XYステージは、リニアモータダイレクトドライブにより、高精度な位置決めとスムーズな動作を実現。顕微鏡観察における試料位置決めや自動スキャンに対応し、高精度イメージングや自動解析の効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察における試料の精密位置決め ・細胞・組織サンプルの自動スキャン ・デジタル顕微鏡・自動イメージング装置 ・自動光学検査装置（AOI） 【導入の効果】 ・高精度位置決めにより観察精度を向上 ・高速スキャンにより観察・検査時間を短縮 ・安定した動作により再現性の高いデータ取得が可能 ※詳細はカタログをご覧ください。

• その他機械要素
• 直交ロボット
• エンコーダー

半導体業界のウェーハ検査では、微細な欠陥を高精度に検出することが求められます。検査の精度は、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、ウェーハの大型化と高密度化が進む中、より高速かつ正確な位置決めが不可欠です。V-P01は、リニアモータ駆動により、高精度な位置決めと高速スキャンを実現し、ウェーハ検査の効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハの自動光学検査（AOI） ・ウェーハ表面の精密スキャニング ・微細パターンの位置決め 【導入の効果】 ・検査時間の短縮 ・検査精度の向上 ・歩留まりの改善

• その他機械要素
• 直交ロボット
• エンコーダー

研究開発分野における実験では、精密な位置決めと安定した動作が不可欠です。特に、微細構造の観察や精密加工においては、Z軸方向の正確な制御が実験の成否を左右します。従来のステージでは、位置決めの精度や応答速度に課題があり、実験の効率を低下させる要因となっていました。V-Z03は、ボイスコイルモータによるダイレクトドライブ方式を採用し、高速かつ高精度なZ軸制御を実現します。 【活用シーン】 ・産業・研究分野での精密位置決め ・半導体検査 【導入の効果】 ・サブミクロン単位の精密な位置決め ・実験時間の短縮 ・実験精度の向上 ・多様な実験への対応

• その他機械要素
• ソレノイド・アクチュエータ
• エンコーダー

半導体分野では、ウェーハやマスクの位置決めにおいて、高い精度と安定性が求められます。特に検査工程や微細加工では、わずかな位置ずれが測定誤差や歩留まり低下につながり、製品品質に大きく影響します。 V-Z03は、ボイスコイルモータによるダイレクトドライブ方式を採用し、高速応答かつ高精度なZ軸制御を実現。さらに、高剛性クロスローラーガイドと非接触リニアエンコーダにより、バックラッシュのない安定した位置決めと高い再現性を確保します。最大150 Nの高荷重対応および空圧式カウンターバランスにより、重量物の精密位置決めにも最適です。 【活用シーン】 ・半導体検査装置 ・ウェーハ検査・計測装置 ・精密測定機器 【導入の効果】 ・高精度位置決めによる測定精度の向上 ・高速応答によるタクトタイム短縮 ・高剛性ガイドによる安定した動作 ・高荷重対応による用途拡張 ・セルフロック機能による安全性向上

• その他機械要素
• ソレノイド・アクチュエータ
• エンコーダー

レーザー微細加工では、ワークのわずかな位置ずれが加工品質に大きく影響するため、高精度かつ安定した位置決めが求められます。特に、半導体材料、ガラス、フィルムなどの微細加工では、ナノメートルレベルでの精密な位置制御が重要です。 V-D07 高負荷リニアモーターステージは、高精度リニアエンコーダとリニアモータダイレクトドライブにより、ナノメートルレベルの高精度位置決めと高速動作を実現。レーザー微細加工装置の高精度ステージとして、安定した加工プロセスをサポートします。 【活用シーン】 ・レーザー微細加工装置の精密位置決め ・半導体・電子部品のレーザー加工 ・ガラス・フィルムのレーザー加工 ・光学部品のアライメント調整 【導入の効果】 ・ナノメートル単位での精密な位置決めが可能 ・摩擦レス駆動によるスムーズな動作 ・高負荷環境下での安定した動作

• その他機械要素
• その他産業用ロボット
• ソレノイド・アクチュエータ

光学分野における調整作業では、光軸の精密な位置決めが、システムの性能を左右する重要な要素となります。特に、ファイバーアライメントや光学素子の配置においては、サブミクロン単位の正確な調整が求められます。従来のステージでは、調整の自由度が限られ、高精度な位置決めが難しい場合がありました。NanoCube 6軸ピエゾシステムP-616.65Sは、6自由度のナノ制御により、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・ファイバーアライメント ・光学素子の位置調整 ・顕微鏡などの精密機器 【導入の効果】 ・ナノメートル単位の微細位置決めが可能 ・高剛性・低クロストークにより安定した調整を実現 ・長期安定運用によるメンテナンスコスト削減

• その他光学部品

研究開発分野、とりわけ干渉計や精密光学実験では、微小な光学位相シフトの制御が実験結果の精度を左右します。わずかな変位の違いが測定精度や解析結果に影響を与える場合があります。S-312 光学用位相シフターは、干渉計アプリケーションや光学位相制御用途向けに設計されたオープンループのピエゾZステージです。ピエゾフレクシャー構造により、滑らかで高分解能な微小変位制御を実現し、精密な位相調整をサポートします。コンパクト設計のため、研究装置への組み込みや光学系への統合にも適しています。 【活用シーン】 ・干渉計実験 ・光学位相シフト制御 ・ホログラフィー実験 ・精密光学測定 ・ナノポジショニングを伴う光学研究 【導入の効果】 ・微小変位制御による安定した位相調整 ・再現性の高い光学実験の実現 ・コンパクト設計による装置組み込み性向上 ・研究用途における柔軟な実験構成

• その他光学部品
• 光学測定器

精密光学システムや干渉計アプリケーションでは、微小な光学位相シフトの制御が測定精度や解析結果に大きく影響します。わずかな変位差が干渉縞の安定性や計測結果に影響を与えることもあります。S-312 光学用位相シフターは、干渉計や精密光学用途向けに設計されたオープンループのピエゾZステージです。フレクシャーガイド構造によりバックラッシュのない滑らかな動作を実現し、微小変位制御による安定した位相調整をサポートします。コンパクト設計のため、光学ベンチや装置内への組み込みにも適しています。 【活用シーン】 ・干渉計実験 ・光学位相シフト制御 ・ホログラフィー／波面制御実験 ・精密光学アライメント 【導入の効果】 ・微小変位制御による安定した位相調整 ・再現性の高い光学測定 ・装置組み込み性の向上

• その他光学部品
• 光学測定器

研究開発分野では、試料や光学素子、センサなどの精密な位置決めが実験結果に大きく影響します。微細構造の観察や高分解能計測など、わずかな位置変動がデータ精度に影響を与えるケースも少なくありません。B-421 BIX ミニチュアリニアステージは、超小型設計ながらピエゾ駆動による高分解能な位置制御を実現。限られた実験スペースにも組み込みやすく、研究用途における精密位置決めに適したソリューションです。最大33mmのストロークに対応し、柔軟な実験構成や多軸システムへの拡張にも対応可能です。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察 ・微細加工実験 ・材料特性評価 ・光学実験／レーザー実験 ・センサ評価試験 【導入の効果】 ・高分解能な位置制御による安定したデータ取得 ・実験装置の省スペース化に貢献 ・再現性の高い位置決め ・多軸構成による柔軟な実験設計

• その他機械要素

光学システムでは、レンズやミラー、光学素子の位置調整が性能を大きく左右します。わずかな位置ずれが、像の歪みや測定精度の低下につながる場合があります。B-421 BIX ミニチュアリニアステージは、超小型設計でありながら、ピエゾ駆動による高分解能な位置制御を実現。限られたスペースにも組み込みやすく、精密な光学アライメント用途に適しています。最大33mmのストロークに対応し、研究開発用途から装置組み込みまで幅広い光学調整ニーズに対応します。 【活用シーン】 ・顕微鏡の対物レンズ調整 ・レーザー加工機の焦点調整 ・光ファイバーアライメント ・干渉計・計測装置の精密位置決め 【導入の効果】 ・高分解能な位置制御による安定したアライメント ・装置の省スペース設計に貢献 ・再現性の高い光学調整を実現

• その他機械要素

半導体製造工程では、ウェーハやマスクの位置決めにおいて高い精度と再現性が求められます。特に微細加工や検査工程では、位置決め精度が製品品質や歩留まりに直結します。B-421 BIX ミニチュアリニアステージは、超小型設計でありながら、ピエゾ駆動による高分解能な位置決めを実現。限られた装置スペース内でも組み込みやすく、精密な位置制御が求められる半導体装置に適しています。 最大33mmのストロークに対応し、コンパクトかつ高性能な位置決めソリューションを提供します。 【活用シーン】 ・ウェーハプロービング装置 ・マスクアライメント装置 ・半導体検査装置 ・精密アセンブリ装置 【導入の効果】 ・高分解能位置決めによる安定したプロセス制御 ・装置の省スペース化に貢献 ・高精度制御による工程安定性向上

• その他機械要素

バイオテクノロジー分野、特に細胞観察においては、高精度な位置決めが不可欠です。細胞の微細な構造を観察するためには、ナノメートルレベルの正確な位置制御が求められます。従来のステージでは、振動やドリフトにより、正確な観察が妨げられることがありました。N-332ピエゾリニアステージは、PICMAWalkドライブにより、滑り摩擦の影響を受けない高精度な位置決めを実現し、細胞観察の質を向上させます。 【活用シーン】 ・細胞培養 ・顕微鏡観察 ・細胞操作 【導入の効果】 ・ナノメートル分解能による正確な位置決め ・セルフロッキング機構による安定性向上 ・多軸セットアップによる柔軟な対応

• その他機械要素
• アクチュエーター
• 圧電デバイス

ナノテクノロジー分野では、原子・分子レベルの操作や微細構造の加工において、サブナノメートルレベルの高精度位置決めが求められます。同時に、測定プローブやワークを安定して保持するための高い発生力と剛性も不可欠です。N-332 Linear Stage は、Piezowalk駆動方式により、高発生力・長ストローク・サブナノメートル分解能を高次元で両立したピエゾリニアステージです。従来のステージで課題となる熱影響や振動による誤差を最小限に抑え、安定した高精度位置決めを実現します。 ナノテクノロジー研究を始め、極限の精度が求められるアプリケーションに最適です。 【活用シーン】 ・走査型プローブ顕微鏡（SPM） ・ナノインプリント ・光学系の調整 【導入の効果】 ・ナノメーターレベルの高精度な位置決め ・安定した動作と高い信頼性 ・多様なアプリケーションへの対応 ・作業効率の向上

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光学顕微鏡における高倍率観察や広範囲走査では、ナノ～サブナノメートルレベルの位置決め精度と高い安定性が求められます。特に、長時間観察や高解像度イメージングでは、振動やドリフトの影響を最小限に抑える高剛性ステージが不可欠です。N-332は、PICMAWalkドライブにより、これらの課題を解決します。 高発生力・長ストローク・サブナノメートル分解能を高次元で両立したピエゾリニアステージです。顕微鏡観察時の安定性を向上させます。高精度な試料位置決めや自動走査を必要とする光学顕微鏡システムに最適です。 【活用シーン】 ・光学顕微鏡での高精度走査 ・高倍率観察における試料位置決め ・共焦点顕微鏡システム ・生体試料の精密アライメント 【導入の効果】 ・真空用途に対応 ・サブナノメートル分解能による高精度位置決め ・高発生力による安定した試料保持 ・長ストローク走査と高精度の両立 ・電源オフ時の自己ロック ・高い再現性と長期安定性

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半導体製造業界では、ウェーハやマスクの位置決めにおいて、高い精度と安定性が求められます。特に、微細加工や検査工程においては、ナノメートルレベルの位置決め能力が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素となります。位置決めの精度が低いと、製造不良や検査エラーが発生し、コスト増につながる可能性があります。当社の高発生力＆高精度ピエゾリニアステージ N-332は、ピエゾWalkドライブにより、ナノメートル精度での位置決めを実現し、半導体製造における課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハプロービング ・マスクアライメント ・半導体製造装置 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる歩留まり向上 ・製造プロセスの効率化 ・製品品質の安定化

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H-850 ヘキサポッドは、天文学研究の用途に対応した6自由度パラレルキネマティクス位置決めシステムです。±0.2µmの高い再現性とアブソリュートエンコーダを搭載し、原点復帰不要で高精度な位置制御を実現。広い移動・回転範囲により、望遠鏡光学系や検出器の精密アライメントへの組込みに適しています。詳細仕様はカタログをご覧ください。 【活用シーン】 ・天文望遠鏡の光学アライメント ・真空チャンバー内での精密試験 ・衛星搭載機器の地上評価試験 【導入の効果】 ・±0.2µm再現性による高精度光学調整 ・6軸同時制御による複雑な姿勢制御 ・アブソリュートエンコーダによる即時稼働 ・広い可動範囲で大型光学系にも対応

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研究開発分野の実験プラットフォームでは、精密な位置決めと安定した動作が不可欠です。特に、微細な調整が求められる実験や、重量のある試料を扱う際には、高い精度と剛性、そして即時的な位置情報の取得が重要となります。H-850は、これらの要求に応えるために開発されました。 【活用シーン】 ・光学実験 ・材料試験 ・精密測定 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる実験精度の向上 ・アブソリュートエンコーダによる位置決め時間の短縮 ・最大250kgの耐荷重による幅広い実験への対応

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