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PIジャパン株式会社

設立日本法人:1991年 ドイツ本社:1977年
住所神奈川県川崎市幸区堀川町580番地 ソリッドスクエア西館17F
電話044-280-7676
  • 特設サイト
  • 公式サイト
最終更新日:2026/06/03
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エアベアリング エアベアリング
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精密グラナイト製品 精密グラナイト製品
ピエゾポジショニングシステム ピエゾポジショニングシステム
ピエゾモーター ピエゾモーター
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リニアステージ リニアステージ
リニアアクチュエータ リニアアクチュエータ
ピエゾドライブ ピエゾドライブ
ヘキサポッド ヘキサポッド
モータライズドポジショニング モータライズドポジショニング
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無料ポッドキャスト:フォトニクス分野で注目のウェーハレベルテスト

フォトニクス分野で重要性が高まっているウェーハレベルテストについて解説

PIのメンバーが、光学テストと従来の電気プロービングの違い、製造工程の早期段階でテストを行う重要性について解説します。 さらに、高精度な位置決めや自動化が、フォトニクス製造の量産化・拡張をどのように支えるのかを紹介します。 ※字幕設定を日本語に変更すると、自動で日本語字幕が表示されます

  • 光学実験部品
  • その他光学部品

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無料ウェビナー:高精度・高速モーション用エアベアリング技術を深堀

高精度・高速モーションシステム向けエアベアリングの深掘り|PI USAによるウェビナー動画

エアベアリングモーションシステムは、従来の機械式ベアリングシステムが抱える限界を解決するソリューションです。 エアベアリングは、すべての機械式ベアリングに伴う振動や摩耗がなく、ほぼ無限の寿命を持ちながら、より高い精度と信頼性を実現します。エアベアリングモーションシステムの主要市場には、医療工学、航空宇宙、半導体、光学、フォトニクスの試験・製造分野が含まれます。 PIが誇る主要技術の一つが、エアベアリングソリューションの設計・製造です。本ウェビナーでは、エアベアリングの基本原理から実際の応用例まで、わかりやすく解説します。 ※字幕設定を日本語に変更すると、自動で日本語字幕が表示されます

  • 軸

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無料ウェビナー:VIAホールのレーザードリリング最新技術

VIAホールのレーザードリリング:PI USAによるウェビナー動画

本ウェビナーでは、高帯域通信の実現やデバイスの小型化に不可欠な、VIAホールのレーザードリリングに関する最新技術を紹介します。 レーザーおよびモーション制御の専門家が、半導体、フォトニクス、光学、医療機器製造分野のエンジニアやマネージャーに向けて、重要な技術情報を解説。主な内容は、VIAに使用される代表的な材料や形状に加え、穴形状の制御や高速加工時の高精度化など、重要な課題についてです。 また、固定光学系、高度なモーション制御、レーザーとモーションの同期技術を活用して、これらの課題を克服するための方法を学びます。ガラスウェハへの穴あけ加工をはじめとする実例を通じて、これらの技術がどのように測定可能な成果をもたらすのかを紹介します。 最後に、XL SCAN、3D誤差補正、ハイブリッド・ピエゾモーションなど、将来のより高速で高精度な製造につながる新技術にも触れます。 ※字幕設定を日本語に変更すると、自動で日本語字幕が表示されます

  • レーザーマーカー

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無料ポッドキャスト:LEO光通信を支える高精度モーション技術

LEO光通信を支える精密モーション技術:高速ステアリングミラーの役割

このポッドキャストでは、地球低軌道(LEO)衛星コンステレーションにおける自由空間光通信(FSOC)の課題と、それを支える高速ステアリングミラー技術について解説します。 衛星間で安定した高速光通信リンクを実現するには、動的な軌道条件や外乱の影響下でも、正確なビーム制御を維持する高精度モーション技術が不可欠です。 本エピソードでは、指向・捕捉・追尾(PAT)や外乱補正に求められる技術要件、宇宙環境に対応した高速ステアリングミラーの設計、さらにLEOコンステレーション規模での量産性を考慮したソリューションについて紹介します。 ※字幕設定を日本語に変更すると、自動で日本語字幕が表示されます

  • レーザ部品
  • その他光学部品

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無料ウェビナー:高速最適化技術の活用(フォトニクス・光学・量子)

高速並列アライメント技術の利点について

フォトニクス、光学、量子製造分野では、高精度なアライメントや高速な最適化が、生産性や品質の向上に欠かせません。「フォトニクス・光学・量子製造向け高速最適化技術の活用」について、PI USAのフォトニクス部門責任者Scott Jordanによるウェビナーをご紹介します。 精密位置決め技術が製造プロセスをどのように支えているのか、ぜひ動画をご覧ください。 ※字幕設定を日本語に変更すると、自動で日本語字幕が表示されます

  • その他光学部品
  • レーザ部品
  • 光学測定器

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高精度アライメント対応 スピンドル駆動式ゴニオメーターステージ

マイクロコンポーネントの配置や光学部品のアライメントに

L-886 は、高精度かつコスト効率に優れたゴニオメーターステージです。 ステッピングモーターとリニア計測システムを組み合わせることで、高い位置決め精度を実現。 高精度なマルチチャネル・フォトニクスアライメント用途において高い柔軟性を発揮します。

  • リニアモータ

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アライメント時間とコスト削減に貢献。高精度フォトニクス位置決め

超高精度ナノポジショニングリニアステージとACSコントローラーで構成されたシステム

本システムは高度なフォトニクス用途に理想的なソリューションです。 コンパクトかつ高性能な磁気リニアドライブにより、リニア軸は高速動作を実現。さらに、高分解能の光学式リニアエンコーダーによるダイレクト計測により、高精度な制御を実現しています。 アライメントシステムには、すべての軸を制御する事前設定済みACSコントローラーが含まれています。 高速エリアスキャンおよびグラディエントサーチ用のFMPAルーチンがコントローラー(ACSバッファ)に実装されていることにより、工程内のアライメント時間と、それに伴うコストを大幅に削減可能。さらに、F-572向けオプションとして、初光探索(First-Light Search)用の超高速PILightningアルゴリズムも利用可能です。

  • 光学実験部品
  • その他光学部品

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回転ステージ(光学アライメント/高精度角度補正)向け

レーザー・光学検査向け。微小角度補正により光軸ズレを抑え測定精度を安定化

V-731は、高精度な位置決めと優れた動作安定性を実現するXYリニアモーターステージです。アイアンレス3相リニアモーターを採用し、摩擦やバックラッシュの影響を受けないダイレクトドライブにより、滑らかで高応答な動作を可能にします。 低速域でも安定した走行性能を維持しつつ、高速時でも振動を抑制します。さらに、クロスローラーガイドにより高剛性と高い案内精度を確保。 非接触式のインクリメンタルリニアエンコーダを搭載し、非線形性、機械的バックラッシュ、弾性変形などの影響を受けません。精密な位置決めが求められる多様なアプリケーションに最適な高性能ステージです。

  • リニアモータ
  • その他機械要素

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光結合品質を維持する3Dファイバーアライメントシステム

高再現XYZ制御により、光ファイバーやPIC実装工程の位置ズレと結合損失を低減

F-836 3Dアライメントシステムは、L-836シリーズのリニアステージを積層構造で構成しています。 高分解能ステッピングモーター、高精度ボール循環ガイド、および高精度リニアエンコーダーを備えており、コンパクトなサイズながら、高分解能・高再現性・高速動作が求められるアプリケーションに最適です。 F-836 XYZシステムは、3Dアライメントのために3または6自由度の直線軸を提供します。さらに、将来的にゴニオメーターを統合することで、自由度の拡張が可能です。

  • その他光学部品

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高速アライメントの位置再現性を維持する小型ヘキサポッド

サブミクロン再現性と高ダイナミクス制御により、フォトニクス工程の高速位置補正に対応

H-811.x2IHPは、高速・コンパクト・高精度を兼ね備えた小型ヘキサポッドです。パラレルキネマティクスにより、コンパクトな設計で6軸の高精度位置決めを実現。サブミクロンレベルの再現性と高いダイナミクスにより、精密なアライメントや高速動作が求められる用途に最適です。 ブラシレスDCモーターと高剛性設計により、外部干渉下でもアクティブアライメント用途に必要なダイナミクスを提供します。さらに、専用ソフトウェアによる動作シミュレーションや自動アライメント機能により、システム構築と運用を効率化します。

  • ブラシレスDCモータ
  • アクチュエーター

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真空環境での位置決め課題に。ピーアイの真空対応製品一覧

ヘキサポッドからステージ、ピエゾまで、真空環境下に対応した製品

真空環境で、こんなお悩みはありませんか? ・真空環境で位置決め精度が安定しない ・摩耗・ガス放出の影響が気になる ・限られた設置スペースで構成したい などの課題から、真空環境では、通常仕様の製品では性能を十分に発揮できません。 ピーアイの真空対応製品は、高精度・低アウトガス・UHV対応を実現し、半導体・分析装置・研究用途で多数の実績があります。 真空環境対応製品を一覧でWebサイトにてご紹介しています。詳細は、以下の掲載カタログをダウンロードのうえご確認ください。 また、公式サイトの製品ページでは、本カタログに掲載されていない製品もご覧いただけます。ぜひあわせてご確認ください。

  • その他機械要素

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超小型XYZナノステージ|0.2nm分解能で微細位置ズレを低減

44mmキューブ筐体で、フォトニクス・半導体装置への高密度組込みに対応

P-611.3 NanoCubeは、XYZ 3軸制御を可能にする超小型ピエゾナノポジショニングステージです。44×44×44mmのコンパクトサイズながら、最大120µmの移動量と0.2nmの分解能を実現し、ナノレベルの位置決めが求められる研究・産業用途に最適です。 高精度フレクシャーガイド構造によりバックラッシュのない滑らかな動作を実現し、高速スキャンや高精度アライメントに対応します。 さらに、PI独自のPICMA(R)ピエゾアクチュエータを採用し、湿気や漏れ電流による故障を防止。従来のポリマー絶縁型アクチュエータと比べて最大10倍の長寿命を実現しています。

  • アクチュエーター
  • その他機械要素

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回転品質の基盤となるエアベアリング回転モジュール

摩擦ゼロ構造と200nm以下の高精度回転により、光学・計測工程の誤差を低減

A-60x PIglide RTは、非接触のエアベアリング技術を採用した高精度回転モジュールです。摩擦が発生しない構造のため、スティックスリップやブレークアウェイトルクがなく、極めて滑らかな回転運動を実現します。 偏心・平面度は200nm以下の高精度性能を持ち、高剛性設計により精密計測や光学アライメントなどの用途に最適です。さらに潤滑油を使用しないためメンテナンス不要で、パーティクル発生がなくクリーンルーム環境でも使用できます。 モーターやエンコーダと組み合わせることで、高精度回転ステージとして柔軟なシステム構築が可能です。

  • 金属軸受・ベアリング
  • その他機械要素

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ピエゾZステージ|高速Z動作でも位置再現性を維持する高剛性機構

0.3nm分解能と直接位置計測により、共焦点顕微鏡や表面計測のZズレを低減

P-733.Zは、ナノメートルレベルの分解能と高速応答性能を兼ね備えた高剛性ピエゾZナノポジショニングステージです。100µmのトラベルレンジと50×50mmのクリアアパーチャを備え、顕微鏡やマスク/ウェハの位置決め用途などに適しています。 非接触の静電容量センサーにより、サブナノメートル分解能の計測が行えます。また、最大0.3nmの分解能と高い繰り返し精度を実現。フレクシャガイド構造により摩耗やバックラッシュがなく、長期にわたり安定した高精度位置決めが可能です。 PI独自のPICMA(R)アクチュエータを採用しており、従来のポリマー絶縁アクチュエータと比較して最大10倍の長寿命を実現します。

  • アクチュエーター
  • 圧電デバイス
  • センサ

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ピエゾZステージ|高速Zスキャンでもフォーカス再現性を維持

100/200µmレンジと高速セトリングで、超解像・3D観察のピントズレを低減

P-736は、顕微鏡用途に最適化された高精度ピエゾZステージです。100µmまたは200µmのトラベルレンジを備え、高速ステップ動作と優れたセットリング性能により、顕微鏡のフォーカス制御や高速Zスキャンに対応します。 薄型設計(高さ約20mm)により顕微鏡システムへの組み込みが容易です。非接触の静電容量センサーによる位置フィードバックを採用し、ナノメートルレベルの分解能と高い繰り返し精度を実現します。 駆動部にはPI独自のPICMA(R)ピエゾアクチュエータを採用。これにより、高い信頼性と長寿命を実現するとともに、高速応答によるダイナミックなZ軸制御が可能です。

  • アクチュエーター
  • 圧電デバイス
  • センサ

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小型装置の高さ再現性を維持する高精度Zステージ

63mm角の省スペース設計で、フォトニクスや半導体装置の高精度Z制御に対応

L-306は、小型設計ながら高精度な位置決めを実現するZステージです。ベルトギアを用いた折り返し駆動構造によりコンパクトサイズを実現(設置面積が63×63mm)。XYステージと組むことが容易です。 駆動方式には2相ステッピングモータまたはクローズドループDCモータを採用し、用途や制御システムに応じた構成が可能です。また、クロスローラーガイドを採用しており、高い剛性、低い予圧による摩擦の低減、滑らかな動作を実現。さらに、高い案内精度と耐荷重性能を備えています。 強制保持式ローリングエレメントケージによりケージクリープを防止します。

  • アクチュエーター
  • エンコーダー
  • その他機械要素

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【半導体装置向け】ナノ変位測定 静電容量センサー D-510

サブナノメートル分解能・最大10 kHz帯域。ウェーハ位置制御に最適な非接触静電容量センサー

半導体製造では、ウェーハステージや精密位置決め機構のわずかな変位や振動が、加工精度や製品歩留まりに大きく影響します。微細化が進む半導体プロセスでは、ナノメートルレベルの変位を高精度に測定することが重要です。 D-510 PISecaは、静電容量方式による非接触変位測定を採用した高分解能センサーです。サブナノメートル分解能と最大10 kHzの高帯域測定により、ウェーハステージの微小変位や装置振動を高精度に検出し、半導体製造装置における位置制御の高精度化とプロセス安定化に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハステージの位置フィードバック ・半導体製造装置のナノ位置制御 ・ウェーハ表面の振動測定 ・精密アライメントシステム ・半導体検査装置 【導入の効果】 ・ナノレベルの高精度変位測定 ・非接触測定によるウェーハへの影響低減 ・装置振動の高精度モニタリング ・半導体プロセスの安定化と歩留まり向上

  • センサ
  • 変換機・トランスデューサ
  • その他電子部品

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【精密機械向け】サブナノ分解能・静電容量変位センサー D-510

サブナノメートル分解能の非接触変位測定。精密加工装置の位置制御と加工精度向上に貢献

精密加工分野では、加工精度や装置性能を向上させるために、ナノメートルレベルの高精度な変位測定が求められます。わずかな振動や位置ずれでも、加工精度や製品品質に大きな影響を与える可能性があります。 D-510は、静電容量方式による非接触変位測定を採用した高分解能センサーです。サブナノメートル分解能により、精密加工装置における位置フィードバックや振動測定を高精度に行うことができ、加工プロセスの安定化と精度向上に貢献します。 【活用シーン】 ・精密加工装置の位置フィードバック ・微細加工プロセスの位置制御 ・精密位置決めシステム ・半導体製造装置 ・精密振動測定 【導入の効果】 ・ナノレベルの高精度変位測定 ・非接触測定による対象物への影響低減 ・加工精度の向上 ・装置振動の高精度モニタリング

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  • 変換機・トランスデューサ
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【研究開発向け】サブナノ分解能・静電容量変位センサー D-510

サブナノメートル分解能・最大10 kHz帯域 ナノレベルの非接触変位計測を実現

研究開発分野では、ナノスケールの微小な変位や振動を正確に測定することが求められます。特にナノ計測や精密位置決めの研究では、高分解能かつ高応答なセンサーが実験精度や再現性を大きく左右します。 D-510は、静電容量方式による非接触変位測定を採用した高分解能センサーです。サブナノメートル分解能と最大10 kHzの高帯域により、ナノレベルの変位測定や高ダイナミクスな振動測定を実現します。研究開発用途における高精度測定やナノ位置決め制御に最適です。 【活用シーン】 ・ナノ位置決め研究 ・材料特性評価 ・精密振動測定 ・ナノメトロロジー ・研究用精密計測装置 【導入の効果】 ・ナノレベルの高精度変位測定 ・非接触測定による試料への影響低減 ・高帯域測定による動的挙動の解析 ・実験データの再現性と信頼性向上

  • センサ
  • 変換機・トランスデューサ
  • その他電子部品

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【精密機械向け】高分解能静電容量センサー D-050・D-100

最大300µm測定範囲、0.01nm分解能の非接触変位センサー

精密機械分野では、製品性能や加工精度を高めるため、ナノメートルレベルの高精度な変位測定が求められます。特に高精度位置決めや微細加工、精密計測では、わずかな変位の変化を正確に測定することが重要です。測定精度が不足すると、製品品質の低下や装置性能のばらつきにつながる可能性があります。 D-050 / D-100は、静電容量方式による非接触変位測定を採用した高分解能センサーです。最大0.01nmの分解能により、ナノスケールの精密変位測定を実現し、精密機械装置や精密計測システムにおける高精度位置制御に貢献します。 【活用シーン】 ・精密位置決め装置 ・精密計測機器 ・半導体製造装置 ・ナノ位置決めシステム ・クリーン環境での精密測定 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルの高精度変位測定 ・非接触測定による対象物への影響低減 ・高精度位置決め制御の実現 ・多軸システムにおける高精度フィードバック制御

  • センサ
  • 変換機・トランスデューサ
  • その他電子部品

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【ナノテク向け】高分解能静電容量センサー D-050・D-100

サブナノメートル分解能でナノ変位測定を実現。ナノ材料評価・ナノ位置決めに最適な非接触変位センサー

ナノテクノロジー分野では、材料や構造の微小な変位や変形をナノメートルレベルで正確に測定することが重要です。特に、ナノ材料評価やナノ計測、ナノポジショニングでは、わずかな変位の変化を高分解能で検出できるセンサーが求められます。 D-050 / D-100は、静電容量方式による非接触変位測定を採用した高分解能センサーです。最大0.01nmの分解能により、ナノスケールの変位測定や高精度位置制御を実現し、ナノテクノロジー研究やナノ計測システムにおける高精度測定を可能にします。 【活用シーン】 ・ナノ材料の特性評価 ・薄膜の厚さ測定 ・表面形状の精密測定 【導入の効果】 ・ナノメートルスケールでの高精度な測定が可能 ・非接触測定による材料への影響を最小化 ・多軸制御によるリアルタイム補正が可能

  • センサ
  • 変換機・トランスデューサ
  • その他電子部品

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【新製品】X-365 高精度モジュラー式XYガントリーシステム

精度・剛性・柔軟性を兼ね備えたXY機構

X-365は、高性能コアレスリニアモーターを搭載したモジュラー型のXYガントリーシステムです。 熱影響を低減する設計により安定した動作を実現し、ナノメートル分解能のアブソリュートエンコーダにより高い再現性を確保します。 カスタマイズ性の高い構成により、レーザー加工や検査工程など幅広い用途にも対応可能です。

  • 機械設計

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【研究開発向け】小型リニアステージ・真空対応有り M-11x

サイズ60mm四方、XYZ軸対応のコンパクトリニアステージ

研究開発分野における実験では、精密な位置決めが不可欠です。特に、微細な調整が求められる実験や、限られたスペースでのセットアップが必要な場合に、小型で高精度なリニアステージが求められます。M-11x型リニアステージは、コンパクトながらも高い精度と多様な軸構成を実現し、研究開発の効率化と精度の向上に貢献します。真空(10-6hPa)に適したタイプもあります。 【活用シーン】 ・光学実験 ・顕微鏡観察 ・精密測定 ・微細加工 【導入の効果】 ・実験のセットアップ時間の短縮 ・実験精度の向上 ・省スペース化 ・多様な実験への対応

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【光学調整向け】真空環境対応有り・小型リニアステージ M-11x

サイズ60mm四方、XYZ軸対応のコンパクトリニアステージ

光学業界における調整作業では、精密な位置決めが求められます。特に、レンズやミラーの位置調整は、光学系の性能を左右する重要な要素です。微小なズレが、画像品質の低下や測定精度の悪化につながる可能性があります。リニアステージ M-11x型は、小型ながらも高精度な位置決めを実現し、光学系の調整作業を効率化します。 【活用シーン】 ・レンズやミラーの位置調整 ・ファイバーアライメント ・光学部品の精密位置決め 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる光学性能の向上 ・作業時間の短縮 ・調整作業の効率化

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【顕微鏡フォーカス向け】リニアアクチュエータN-472

慣性駆動と位置フィードバックで顕微鏡フォーカスを長期安定化

顕微鏡観察では、観察対象への高精度なフォーカス維持が求められます。特に長時間観察や環境変動のある条件では、フォーカスのドリフトが観察品質に影響する場合があります。 N-472シリーズは、インクリメンタルエンコーダによる位置フィードバックを備えたピエゾマイクロポジショニングアクチュエータです。慣性駆動(スティックスリップ)方式により高分解能の位置決めを実現し、顕微鏡のフォーカス位置を長期間にわたり安定して維持します。 さらに、停止時にはセルフロック機構により位置を保持するため、電流を必要とせず発熱も抑えられます。長時間の観察環境においても安定したフォーカス制御を可能にします。 【活用シーン】 ・顕微鏡のフォーカス調整 ・細胞観察 ・半導体検査 【導入の効果】 ・高精度なフォーカス制御による観察精度の向上 ・長期安定性による観察効率の向上 ・動作時以外は電流を必要としない省エネ設計

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  • 圧電デバイス
  • ソレノイド・アクチュエータ

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【光学調整向け】リニアアクチュエータ N-472

慣性駆動と位置フィードバックで長期安定の光学微調整

光学システムでは、高精度な光軸調整や位置決めが重要です。特にレンズやミラーなどの光学素子の位置は、システム性能や測定精度に大きく影響します。わずかな位置ズレでも、画像品質の低下や測定誤差の増大につながる可能性があります。 N-472シリーズは、インクリメンタルエンコーダによる位置フィードバックを備えたピエゾマイクロポジショニングアクチュエータです。慣性駆動(スティックスリップ)方式により、高分解能の位置決めと長期安定性を実現し、光学素子の精密なアライメント調整を可能にします。 さらに停止時にはセルフロック機構により位置を保持するため、電流を必要とせず発熱を抑制。長時間にわたる安定した光学調整を実現します。 【活用シーン】 ・光学顕微鏡の対物レンズ調整 ・レーザー加工機の光軸調整 ・半導体製造装置における位置決め 【導入の効果】 ・高精度な位置決めにより、システムの性能向上 ・長期安定性により、メンテナンス頻度の削減 ・インクリメンタルエンコーダ内蔵により、位置フィードバックが可能

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【顕微鏡向け】フォーカス調整に リニアアクチュエータ N-470

最大13 mmストロークで顕微鏡フォーカスを精密制御

顕微鏡観察では、観察対象への高精度なフォーカス調整が、鮮明な画像取得に不可欠です。特に高倍率観察や長時間観察では、微小なフォーカス調整が求められます。 N-470は、最大13 mmの移動範囲と高い保持力を備えたピエゾマイクロポジショニングアクチュエータです。高分解能の位置調整により、顕微鏡のフォーカス位置を精密に制御できます。 さらに停止時にはセルフロック機構により位置を保持するため、電流を必要とせず発熱もありません。顕微鏡の安定したフォーカス調整を実現します。 【活用シーン】 ・顕微鏡の対物レンズのフォーカス調整 ・細胞観察、材料観察、半導体検査など 【導入の効果】 ・高精度なフォーカス調整による鮮明な画像取得 ・長期安定性による観察の効率化 ・手動調整からの解放による作業効率の向上

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【光学調整向け】微細調整に最適なリニアアクチュエータ N-470

ミラー・光学素子の微細調整に最適な高保持力コンパクトアクチュエータ

光学システムでは、光学素子の精密な位置調整や光軸アライメントが、システム性能を左右する重要な要素です。特にレーザー装置や顕微鏡などの精密機器では、わずかな調整誤差でも測定精度や画像品質に影響を与える可能性があります。 N-470は、ピエゾ慣性駆動(スティックスリップ)方式を採用したコンパクトなリニアアクチュエータです。高分解能の微動調整と高い保持力(100 N)により、光学ミラーのチップ・チルト調整や光学素子の精密な位置決めを安定して行えます。 さらに停止時にはセルフロック機構により位置を保持するため、電流を必要とせず発熱もありません。長期間にわたる安定した光学アライメントを実現します。 【活用シーン】 ・光学ミラーの微調整 ・光学素子の位置決め ・ファイバーアライメント 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる測定精度の向上 ・長期安定性の確保による信頼性向上 ・手動調整からの解放による作業効率の向上

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【半導体向け】ピエゾナノ位置決めアクチュエータ N-216

最大800Nの保持力と5nm分解能を実現。半導体製造装置の高精度位置決めを支える高推力ピエゾドライブ

半導体製造では、ウェハ検査やナノリソグラフィなどの工程において、ナノメートルレベルの高精度位置決めが求められます。わずかな位置決め誤差でも、製品品質の低下や歩留まり悪化につながる可能性があります。 N-216は、PI独自のNEXLINE(R) PiezoWalk(R)ウォーキングドライブ技術を採用した高推力リニアアクチュエータです。 0.03nm(オープンループ)/5nm(クローズドループ)の高分解能と最大800Nの保持力により、半導体製造装置における高精度かつ安定したナノ位置決めを実現します。 【活用シーン】 ・ウェハ検査装置 ・ナノリソグラフィ装置 ・半導体製造装置 ・ナノ計測装置 ・精密位置決め用途 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルの高精度位置決めによる歩留まり向上 ・高推力駆動による安定した位置決め性能 ・製造プロセスの効率化 ・高品質な半導体製品の安定生産に貢献

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【光学調整向け】最大600Nの高荷重リニアステージ V-817

リニアモータ×高精度エンコーダで高荷重600Nでも滑らか・高速応答

光学システムでは、高精度な位置決めと安定した動作が重要です。特にレンズやミラーなどの光学部品の配置調整では、わずかな位置ズレでも測定結果や画像品質に影響を与える可能性があります。 V-817は、リニアモータによるダイレクトドライブと高精度インクリメンタルエンコーダを組み合わせたリニアステージです。摩擦の少ない滑らかな動作と高速応答により、光学部品の精密な位置調整や光軸アライメントを高精度に行えます。 さらに最大600 Nの高荷重に対応し、剛性の高い構造により安定した位置決めを実現。光学装置や精密測定システムにおける高精度な調整作業をサポートします。 【活用シーン】 ・レンズやミラーの位置調整 ・光学系の組み立て ・精密測定 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる調整精度の向上 ・安定した動作による作業効率の向上 ・非接触駆動による発塵の抑制

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【半導体製造向け】ウェハ加工および検査に 高負荷リニアステージ

リニアモータ×エンコーダで高荷重600N(最大)でも滑らか&高速応答

半導体製造業界では、ウェーハやマスクの位置決めにおいて、高い精度と安定性が求められます。特に、微細加工や検査工程においては、位置決めのわずかなズレが製品の品質に大きく影響します。V-817は、高精度な位置決めと長期安定性を提供し、歩留まり向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ加工 ・精密検査 ・レーザー加工 【導入の効果】 ・2 µmレベルの位置決め再現性 ・非接触駆動による発塵抑制 ・長期安定性の実現

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【研究開発向け】滑らかで安定制御・高精XYステージ V-P01

高速・高精度な実験をサポートするXYステージ

研究開発分野における実験では、精密な位置決めと安定した動作が不可欠です。特に、微細な構造の観察や、精密な加工を行う際には、位置精度の高いステージが求められます。位置精度の低いステージでは、実験結果の再現性が損なわれたり、正確なデータが得られない可能性があります。V-P01は、リニアモータ駆動により、高精度な位置決めと安定した動作を実現し、研究開発における実験の質を向上させます。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察 ・精密加工 ・AOI検査 ・スキャニング 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる実験精度の向上 ・高速・高加速度による実験効率の向上 ・安定した動作による再現性の確保

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【レーザー加工向け】滑らか動作の高精度XYステージ V-P01

レーザー加工の切断工程に。高精度位置決めと高速移動を実現

レーザー加工業界では、精密な切断が求められます。特に、材料の無駄を減らし、高品質な製品を効率的に製造するためには、レーザーヘッドの位置決め精度と移動速度が重要です。位置精度の低いステージでは、切断面の品質が低下し、歩留まりが悪化する可能性があります。また、移動速度が遅いと、生産性が低下し、コスト増につながります。V-P01は、リニアモータ駆動により、高精度な位置決めと高速移動を実現し、レーザー加工における切断工程の課題を解決します。 【活用シーン】 ・レーザーカッター ・レーザーマーキング ・レーザー彫刻 【導入の効果】 ・高精度な切断による製品品質の向上 ・高速移動による生産性の向上 ・材料の無駄を削減し、コスト削減に貢献

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【計測機器向け】高精度XYステージ V-P01

校正作業の効率化と精度向上に貢献するXYステージ

計測機器業界における校正作業では、高精度な位置決めが不可欠です。測定器の正確な校正には、微小な動きを正確に制御できるステージが求められます。位置精度の低いステージでは、校正結果に誤差が生じ、製品の品質に影響を与える可能性があります。V-P01は、リニアモータ駆動により、±1µmの位置精度と0.1µmの最小インクリメンタルモーションを実現し、校正作業の精度向上に貢献します。 【活用シーン】 ・精密測定器の校正 ・センサのキャリブレーション ・検査装置の位置決め 【導入の効果】 ・校正作業の効率化 ・校正精度の向上 ・製品品質の安定化

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【光学向け】低速域でも滑らか動作・高精度XYステージ V-P01

レンズ調整の精度と効率を向上させるXYステージ

光学業界のレンズ調整においては、高精度な位置決めと安定性が求められます。レンズの性能を最大限に引き出すためには、ミクロン単位での微調整が不可欠です。位置ずれは、画像の歪みや解像度の低下を引き起こし、製品の品質に直接影響します。V-P01は、リニアモータ駆動により、これらの課題に対応します。 【活用シーン】 ・レンズ研磨・組立工程 ・光学測定器 ・検査装置 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・高速・高加速度による作業効率アップ ・安定した動作による歩留まり向上

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【顕微鏡向け】高精度XY軸リニアモーターステージV-P01

顕微鏡観察・自動イメージング向け 高精度XYステージ V-P01

顕微鏡観察や医療・ライフサイエンスにおいては、観察対象を高精度に位置決めし、安定した状態で画像データを取得することが重要です。微細な構造を観察するためには、位置決めの安定性と再現性が求められます。位置精度が低い場合、観察対象の焦点がずれ、正確な診断や研究に支障をきたす可能性があります。V-P01 高精度XYステージは、リニアモータダイレクトドライブにより、高精度な位置決めとスムーズな動作を実現。顕微鏡観察における試料位置決めや自動スキャンに対応し、高精度イメージングや自動解析の効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察における試料の精密位置決め ・細胞・組織サンプルの自動スキャン ・デジタル顕微鏡・自動イメージング装置 ・自動光学検査装置(AOI) 【導入の効果】 ・高精度位置決めにより観察精度を向上 ・高速スキャンにより観察・検査時間を短縮 ・安定した動作により再現性の高いデータ取得が可能 ※詳細はカタログをご覧ください。

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【ウェーハ検査向け】摩擦レス・高精度XYステージ V-P01

高速・高精度なウェーハ検査をV-P01が実現

半導体業界のウェーハ検査では、微細な欠陥を高精度に検出することが求められます。検査の精度は、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、ウェーハの大型化と高密度化が進む中、より高速かつ正確な位置決めが不可欠です。V-P01は、リニアモータ駆動により、高精度な位置決めと高速スキャンを実現し、ウェーハ検査の効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハの自動光学検査(AOI) ・ウェーハ表面の精密スキャニング ・微細パターンの位置決め 【導入の効果】 ・検査時間の短縮 ・検査精度の向上 ・歩留まりの改善

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【研究開発向け】高精度Z軸ボイスコイルモーターステージV-Z03

高速応答&高剛性で、サブミクロン単位の精密Z軸制御を実現

研究開発分野における実験では、精密な位置決めと安定した動作が不可欠です。特に、微細構造の観察や精密加工においては、Z軸方向の正確な制御が実験の成否を左右します。従来のステージでは、位置決めの精度や応答速度に課題があり、実験の効率を低下させる要因となっていました。V-Z03は、ボイスコイルモータによるダイレクトドライブ方式を採用し、高速かつ高精度なZ軸制御を実現します。 【活用シーン】 ・産業・研究分野での精密位置決め ・半導体検査 【導入の効果】 ・サブミクロン単位の精密な位置決め ・実験時間の短縮 ・実験精度の向上 ・多様な実験への対応

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【半導体検査向け】高剛性・高精度Zステージ V-Z03

高速・高精度なZ軸制御で、半導体検査の品質と効率を向上

半導体分野では、ウェーハやマスクの位置決めにおいて、高い精度と安定性が求められます。特に検査工程や微細加工では、わずかな位置ずれが測定誤差や歩留まり低下につながり、製品品質に大きく影響します。 V-Z03は、ボイスコイルモータによるダイレクトドライブ方式を採用し、高速応答かつ高精度なZ軸制御を実現。さらに、高剛性クロスローラーガイドと非接触リニアエンコーダにより、バックラッシュのない安定した位置決めと高い再現性を確保します。最大150 Nの高荷重対応および空圧式カウンターバランスにより、重量物の精密位置決めにも最適です。 【活用シーン】 ・半導体検査装置 ・ウェーハ検査・計測装置 ・精密測定機器 【導入の効果】 ・高精度位置決めによる測定精度の向上 ・高速応答によるタクトタイム短縮 ・高剛性ガイドによる安定した動作 ・高荷重対応による用途拡張 ・セルフロック機能による安全性向上

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【レーザー微細加工向け】高負荷リニアモーターステージ V-D07

光学機器の調整作業を精密かつスムーズに。高精度リニアステージ

レーザー微細加工では、ワークのわずかな位置ずれが加工品質に大きく影響するため、高精度かつ安定した位置決めが求められます。特に、半導体材料、ガラス、フィルムなどの微細加工では、ナノメートルレベルでの精密な位置制御が重要です。 V-D07 高負荷リニアモーターステージは、高精度リニアエンコーダとリニアモータダイレクトドライブにより、ナノメートルレベルの高精度位置決めと高速動作を実現。レーザー微細加工装置の高精度ステージとして、安定した加工プロセスをサポートします。 【活用シーン】 ・レーザー微細加工装置の精密位置決め ・半導体・電子部品のレーザー加工 ・ガラス・フィルムのレーザー加工 ・光学部品のアライメント調整 【導入の効果】 ・ナノメートル単位での精密な位置決めが可能 ・摩擦レス駆動によるスムーズな動作 ・高負荷環境下での安定した動作

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【光学分野向け】NanoCube 6軸ピエゾシステム

6軸ナノポジショニングで光学系の微細調整を実現

光学分野における調整作業では、光軸の精密な位置決めが、システムの性能を左右する重要な要素となります。特に、ファイバーアライメントや光学素子の配置においては、サブミクロン単位の正確な調整が求められます。従来のステージでは、調整の自由度が限られ、高精度な位置決めが難しい場合がありました。NanoCube 6軸ピエゾシステムP-616.65Sは、6自由度のナノ制御により、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・ファイバーアライメント ・光学素子の位置調整 ・顕微鏡などの精密機器 【導入の効果】 ・ナノメートル単位の微細位置決めが可能 ・高剛性・低クロストークにより安定した調整を実現 ・長期安定運用によるメンテナンスコスト削減

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【研究開発向け】光学用位相シフター S-312

干渉計・光学位相制御用オープンループZステージ

研究開発分野、とりわけ干渉計や精密光学実験では、微小な光学位相シフトの制御が実験結果の精度を左右します。わずかな変位の違いが測定精度や解析結果に影響を与える場合があります。S-312 光学用位相シフターは、干渉計アプリケーションや光学位相制御用途向けに設計されたオープンループのピエゾZステージです。ピエゾフレクシャー構造により、滑らかで高分解能な微小変位制御を実現し、精密な位相調整をサポートします。コンパクト設計のため、研究装置への組み込みや光学系への統合にも適しています。 【活用シーン】 ・干渉計実験 ・光学位相シフト制御 ・ホログラフィー実験 ・精密光学測定 ・ナノポジショニングを伴う光学研究 【導入の効果】 ・微小変位制御による安定した位相調整 ・再現性の高い光学実験の実現 ・コンパクト設計による装置組み込み性向上 ・研究用途における柔軟な実験構成

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【光学向け】光学用位相シフター S-312

光学・干渉計向け 位相制御用オープンループZステージ

精密光学システムや干渉計アプリケーションでは、微小な光学位相シフトの制御が測定精度や解析結果に大きく影響します。わずかな変位差が干渉縞の安定性や計測結果に影響を与えることもあります。S-312 光学用位相シフターは、干渉計や精密光学用途向けに設計されたオープンループのピエゾZステージです。フレクシャーガイド構造によりバックラッシュのない滑らかな動作を実現し、微小変位制御による安定した位相調整をサポートします。コンパクト設計のため、光学ベンチや装置内への組み込みにも適しています。 【活用シーン】 ・干渉計実験 ・光学位相シフト制御 ・ホログラフィー/波面制御実験 ・精密光学アライメント 【導入の効果】 ・微小変位制御による安定した位相調整 ・再現性の高い光学測定 ・装置組み込み性の向上

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【研究開発向け】B-421 BIX 小型ピエゾ駆動リニアステージ

研究開発用途に対応|最大33mmストロークの超小型ピエゾステージ

研究開発分野では、試料や光学素子、センサなどの精密な位置決めが実験結果に大きく影響します。微細構造の観察や高分解能計測など、わずかな位置変動がデータ精度に影響を与えるケースも少なくありません。B-421 BIX ミニチュアリニアステージは、超小型設計ながらピエゾ駆動による高分解能な位置制御を実現。限られた実験スペースにも組み込みやすく、研究用途における精密位置決めに適したソリューションです。最大33mmのストロークに対応し、柔軟な実験構成や多軸システムへの拡張にも対応可能です。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察 ・微細加工実験 ・材料特性評価 ・光学実験/レーザー実験 ・センサ評価試験 【導入の効果】 ・高分解能な位置制御による安定したデータ取得 ・実験装置の省スペース化に貢献 ・再現性の高い位置決め ・多軸構成による柔軟な実験設計

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【光学調整向け】B-421 BIX 小型ピエゾ駆動リニアステージ

光学系の精密アライメントに対応する超小型ピエゾ駆動リニアステージ

光学システムでは、レンズやミラー、光学素子の位置調整が性能を大きく左右します。わずかな位置ずれが、像の歪みや測定精度の低下につながる場合があります。B-421 BIX ミニチュアリニアステージは、超小型設計でありながら、ピエゾ駆動による高分解能な位置制御を実現。限られたスペースにも組み込みやすく、精密な光学アライメント用途に適しています。最大33mmのストロークに対応し、研究開発用途から装置組み込みまで幅広い光学調整ニーズに対応します。 【活用シーン】 ・顕微鏡の対物レンズ調整 ・レーザー加工機の焦点調整 ・光ファイバーアライメント ・干渉計・計測装置の精密位置決め 【導入の効果】 ・高分解能な位置制御による安定したアライメント ・装置の省スペース設計に貢献 ・再現性の高い光学調整を実現

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