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ピーアイ・ジャパン株式会社

設立日本法人:1991年 ドイツ本社:1977年
住所神奈川県川崎市幸区堀川町580番地 ソリッドスクエア西館17F
電話044-280-7676
  • 特設サイト
  • 公式サイト
最終更新日:2026/03/05
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ヘキサポッド ヘキサポッド
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【製造業向け】ヘキサポッド H-850

最大250kgの重量物を高精度に位置決め。アブソリュートエンコーダ搭載。

製造業における部品移動では、正確な位置決めと安定した動作が、生産効率と品質を左右します。特に、重量のある部品や精密な組み立て工程においては、ミクロン単位の精度が求められます。位置ずれや振動は、不良品の発生や工程の遅延につながる可能性があります。H-850は、最大250kgの耐荷重と±0.2µmの再現性により、これらの課題を解決します。アブソリュートエンコーダの搭載により、起動時の位置決め時間を短縮し、生産性の向上に貢献します。 【活用シーン】 ・重量部品のアライメント ・ロボットへの部品供給 ・試験設備での部品位置決め 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・高速かつ安定した動作による生産性向上 ・アブソリュートエンコーダによる起動時間の短縮

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【研究・実験向け】ヘキサポッド H-825

30kg耐荷重・±0.1µm再現性の6軸精密ヘキサポッド

H-825 ヘキサポッドは、研究・実験用途向けに設計された6自由度パラレルキネマティクスステージです。±0.1µm(Z軸)再現性と高剛性構造により、微小な位置誤差が許されない光学実験や精密計測に対応。最大30kgの耐荷重とブラシレスDCギアモータ駆動により、高負荷条件下でも安定した位置決めを実現します。高精度アライメントや試料位置制御用途に最適です。詳細仕様はカタログをご覧ください。 【活用シーン】 ・光学実験/レーザーアライメント ・精密計測・評価装置 ・半導体研究開発 ・試料ステージ/光学系調整 【導入の効果】 ・6軸同時制御による高精度アライメント ・高剛性設計による振動抑制と安定性向上 ・初期化不要のアブソリュートエンコーダ搭載で即時稼働

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【製造業向け】ヘキサポッド H-825

30kg耐荷重・±0.1µm再現性の6軸高剛性ヘキサポッド

H-825 ヘキサポッドは、製造装置への組込みや高精度アライメント用途に適した6自由度パラレルキネマティクスステージです。±0.1µm(Z軸)再現性と高剛性構造により、重量ワークでも安定した精密位置決めを実現。最大30kgの耐荷重とブラシレスDCギアモータ駆動により、生産ラインや検査装置における高精度調整工程を支援します。詳細仕様はカタログをご覧ください。 【活用シーン】 ・半導体装置における高精度アライメント ・光学部品の6軸位置調整 ・検査装置・計測装置への組込み ・精密組立工程 【導入の効果】 ・6軸同時制御による高精度位置合わせ ・高剛性設計による振動抑制と安定動作 ・アブソリュートエンコーダ搭載で初期化不要・即時稼働 ・30kg耐荷重で大型ワークにも対応

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【研究向け】パラレルキネマティック・ヘキサポッドH-811.I2

コンパクトながら高精度なリファレンスクラスの6軸位置決めシステム

研究分野における実験では、精密な位置決めが不可欠です。特に、微細・高精度な測定を行う際には、位置決めの精度が実験結果に大きく影響します。位置決め精度が低いと、正確なデータが得られず、実験の再現性も損なわれる可能性があります。パラレルキネマティック・ヘキサポッド H-811.I2は、高い精度と剛性、そして柔軟なピボットポイント設定により、研究実験の質を向上させます。 【活用シーン】 ・光位置合わせ ・オートメーション ・品質保証試験 ・試験機器での利用 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる実験精度の向上 ・再現性の高い実験結果の実現 ・多様な実験への対応

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【製造業向け】小型ヘキサポッド H-811.I2

コンパクトながら高精度な6軸位置決めシステムで製造工程を最適化

製造業における位置決め作業では、高い精度と信頼性が求められます。特に、製品の品質を左右する精密な組み立てや検査工程においては、微細で正確な位置決めが不可欠です。従来の単軸位置決めシステムでは、複雑な多軸調整に手間と時間がかかることが課題でした。パラレルキネマティック・ヘキサポッド H-811.I2は、6軸自由度を持つ設計により、これらの課題を解決します。また小型な設計のため、設置面積が小さいことも大きな特徴です。 【活用シーン】 ・精密部品の組み立て ・検査装置での位置決め ・光ファイバーアライメント ・オートメーションシステム 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる製品品質の向上 ・作業時間の短縮と効率化 ・多様なアプリケーションへの対応 ・高い信頼性による安定した稼働

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【バイオテクノロジー向け】PIHera XYピエゾステージ 

細胞操作・ライブセル観察に最適。サブナノ精度で安定したXY位置決めを実現。

バイオテクノロジー分野、とくに細胞操作やライブセル観察では、試料の微小な位置ずれが観察結果に大きな影響を与えます。細胞へのダメージを最小限に抑えながら、滑らかで高精度な位置決めを行うためには、サブナノメートル分解能と高い再現性が不可欠です。本製品は、1nm以下の高分解能と±0.2nmの双方向再現性を提供し、細胞操作における高い信頼性と効率性を実現します。 【活用シーン】 ・バイオセンサ評価 ・マイクロ流体デバイスへの組み込み 【導入の効果】 ・実験の再現性向上 ・研究効率の向上 ・詳細な製品仕様については、カタログよりご確認ください。

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【顕微鏡向け】PIHera XYピエゾステージ

最大1800µmの長ストロークと、静電容量センサーによる優れた精度で顕微鏡のサンプル位置決めに最適

顕微鏡分野では、観察対象を高精度に走査し、鮮明な画像を得ることが求められます。特に、微細構造の観察や、細胞などの生体試料の観察においては、位置決めの精度が観察結果を大きく左右します。位置決め精度が低いと、ピントが合わず、正確な観察が困難になる可能性があります。小型XY軸ピエゾステージは、1nm以下の高分解能と±0.2nmの双方向再現性により、高精度な走査を実現します。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察における試料の走査 ・高倍率観察時の微調整 ・細胞イメージング 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる鮮明な画像取得 ・観察時間の短縮 ・実験の再現性向上

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【半導体技術向け】可変ストローク対応 XYピエゾステージ

最大1800µmの長ストロークとナノ精度。独自の静電容量センサーで、物理的接触をせずに位置測定

半導体製造のウェーハやマスクの位置決めにおいて、高い精度と安定性が求められます。ナノメートルレベルの位置決め精度が製品の品質を左右します。位置決めの誤差は、歩留まりの低下や製品不良につながる可能性があります。P-620.2〜P-629.2 PIHera(R)シリーズは、長寿命のPICMA(R)アクチュエータを採用したXY軸ピエゾナノポジショニングステージです。静電容量式センサーを用いたクローズドループ制御により、優れた直線性と安定性を両立し、1nm以下の高分解能、±0.2nmの双方向再現性を提供します。 【活用シーン】 ・半導体製造装置 ・ウェーハ検査 ・マスクアライメント ・プロービング 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる歩留まり向上 ・安定した動作による生産性の向上 ・小型筐体による装置への組み込みやすさ ・長寿命アクチュエータによるメンテナンス性の向上

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【計測・検査向け】エアベアリング回転ステージ A-62x

摩擦ゼロの回転精度で、校正作業の精度向上に貢献

計測機器業界の校正作業では、測定結果の正確性と再現性が重要です。特に回転角度の校正では、ステージの回転精度や安定性が測定結果に直結します。エアベアリング回転ステージ PIglide A-62x は、摩擦のない非接触回転により、低ワブルで滑らかな回転動作を実現し、高精度な角度校正を支えます。 【活用シーン】 ・角度測定器の校正 ・回転角度センサーの校正 ・光学系の調整 【導入の効果】 ・高精度な校正作業の実現 ・測定結果の信頼性向上 ・作業効率の向上

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【光学調整向け】エアベアリング回転ステージ A-62x

ナノレベルの精度で光学系の調整をサポート

光学業界では、レンズやミラーなどの光学素子の精密な位置調整が、システムの性能を左右する重要な要素です。特に、高精度な光学検査やアライメントにおいては、微小な角度や位置のずれが、測定結果に大きな影響を与える可能性があります。エアベアリング回転ステージ PIglideA-62x高精度モデルは、摩擦のない非接触回転により、ウォブルや偏心を極限まで抑制し、平面度・偏心率200nm以下を実現します。これにより、光学素子の精密な位置調整を可能にし、高精度な光学検査やアライメントをサポートします。 【活用シーン】 ・光学レンズやミラーの角度調整 ・光学素子の精密アライメント ・光学検査システムの構築 【導入の効果】 ・ナノメートル単位の精密な位置決めが可能 ・高精度な光学測定を実現 ・システムの性能向上に貢献

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【半導体製造向け】エアベアリング回転ステージ A-62x

ナノレベルの精度で、半導体製造プロセスを革新。

半導体製造業界では、高精度な位置決めが歩留まりと製品品質を左右する重要な要素です。特に、ウェーハの検査や露光工程においては、ナノメートル単位の正確な位置決めが求められます。従来の回転ステージでは、摩擦による微小なブレや偏心が発生し、これが品質低下の原因となる可能性があります。PIglide A-62xシリーズは、摩擦のないエアベアリング技術により、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査 ・露光装置 ・精密測定 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる歩留まり向上 ・製品品質の安定化 ・生産性の向上

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高い移動精度と耐荷重性を備えたリニアステージ L-511

幅広い応用分野に対応した高精度リニアステージ

L-511高精度リニアステージは、幅広い業界で使用いただけるよう設計されています。 ・±0.15 µmまでのサブミクロンの再現性を実現できるため、レーザー切断や光学アライメントなどの高い精度が求められるタスクに最適 ・循環ボールベアリングガイドと最大155mmのストロークで、安定性と強度を確保 ・応力緩和アルミニウムベースにより、厳しい環境でも機械的な安定性が確保され、ドリフトが最小限に抑えられる ・モーターとエンコーダの構成は複数用意されており、自動化、研究開発、バイオテクノロジー分野における幅広い用途に対応

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【精密測定向け】小型リニアエアベアリングステージ A-143

摩擦ゼロ、高精度位置決めを実現する小型エアベアリングステージ

精密測定の分野では、高精度な位置決めが不可欠です。特に、微細な構造の計測や検査においては、わずかな振動や誤差が測定結果に大きな影響を与えます。A-143 PIglideは、非接触構造により摩耗や潤滑の必要がなく、長寿命かつクリーンルーム対応を実現し、ナノメートルレベルの精度が求められる計測用途に最適です。 【活用シーン】 ・精密測定機器 ・検査装置 ・光学機器 【導入の効果】 ・高精度な測定結果の実現 ・安定した計測環境の構築 ・長期的な運用コストの削減

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【半導体製造向け】A-143 高精度リニアエアベアリングステージ

摩擦ゼロ、±0.2 µmの高精度位置決めを実現する小型ステージ

半導体製造業界では、ウェーハやマスクなどの精密な位置決めが、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細加工や検査工程においては、ナノメートルレベルの精度が求められます。位置決めの精度が低いと、不良品の発生や生産効率の低下につながる可能性があります。A-143 高精度リニアエアベアリングステージは、非接触構造により摩耗や潤滑の必要がなく、長寿命かつクリーンルーム対応を実現し、半導体製造における高精度な位置決めニーズに応えます。 【活用シーン】 ・半導体製造装置 ・検査装置 ・計測機器 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・非接触構造による長寿命化 ・クリーンルーム対応による高い信頼性

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【FPD製造向け】小型リニアエアベアリングステージ A-143

摩擦ゼロ、高精度位置決め。FPD検査工程の品質向上に貢献。

FPD製造業界の検査工程では、高精度な位置決めが求められます。特に、微細な欠陥の検出や寸法測定においては、正確な位置決めが不良品の発生を抑制し、歩留まり向上に不可欠です。位置精度の低いステージを使用した場合、検査結果の信頼性が損なわれ、正確な評価が困難になる可能性があります。A-143 PIglideは、±0.2 µmの高精度位置決めにより、FPD検査の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・FPDの欠陥検査 ・寸法測定 ・位置合わせ 【導入の効果】 ・検査精度向上 ・不良品率の低減 ・生産性の向上

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【レーザー加工向け】A-143 高精度リニアステージ

レーザー切断の精度を向上。±0.2 µmの高精度位置決めを実現。

レーザー加工業界では、高品質な切断を実現するために、ワークの位置決め精度が重要です。特に、微細加工や高精度な切断が求められる場合、位置決め誤差は製品の品質に直接影響します。A-143 小型リニアエアベアリングステージは、±0.2 µmの位置精度により、レーザー加工における位置決め精度を格段に向上させ、高品質な切断を可能にします。 【活用シーン】 ・レーザーカッター ・レーザーマーキング 【導入の効果】 ・高精度な切断による製品品質の向上 ・歩留まりの向上 ・加工時間の短縮

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【光学機器向け】小型リニアエアベアリングステージ A-143

摩擦ゼロ、高精度位置決め。光学機器の調整作業を革新。

光学機器業界では、レンズやミラーなどの精密な調整が、製品の性能を左右する重要な要素です。特に、微細な位置調整が求められる場面では、精度の高いステージングシステムが不可欠です。調整の精度が低いと、光学系の性能が低下し、最終的な製品の品質に悪影響を及ぼす可能性があります。A-143 PIglideは、ナノメートルレベルの精度で位置決めを行い、光学機器の調整作業を効率化します。 【活用シーン】 ・光学レンズの位置調整 ・精密測定器のキャリブレーション ・光ファイバーアライメント 【導入の効果】 ・高精度な調整作業の実現 ・作業時間の短縮 ・製品品質の向上

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【光学アライメント向け】クリーンルーム環境での使用可 A-121

非接触・無摩耗で長寿命、ナノメートル単位の滑らかな動作を実現

光学業界のアライメント工程では、レンズやミラーなどの光学部品を超精密に位置決めすることが求められます。特に、光軸のずれは、システムの性能を大きく左右するため、高精度な位置決めが不可欠です。従来の摩擦を利用したステージでは、微小な動きの際に摩擦の影響を受け、正確な位置決めが困難でした。PIglide A-121は、摩擦やバックラッシュを排除し、ナノメートル単位の精度で位置決めを実現することで、光学アライメントの課題を解決します。 【活用シーン】 ・光学レンズのアライメント ・ファイバーアライメント ・光ファイバーデバイスの製造 【導入の効果】 ・高精度なアライメントによる光学性能の向上 ・歩留まりの向上 ・生産性の向上

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【半導体検査向け】高精度位置決めに最適 A-121

非接触・無摩耗で長寿命、ナノメートル単位の滑らかな動作を実現

半導体製造業界では、高精度な位置決めが製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細加工や検査工程においては、ナノメートル単位の正確な位置決めが求められます。従来の摩擦を伴うステージでは、摩耗やバックラッシュによる精度の劣化が課題となっていました。PIglide A-121は、磁気ダイレクトドライブとエアベアリング技術を融合し、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・半導体検査装置 ・精密測定装置 ・微細加工 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・非接触構造による長寿命化 ・メンテナンスコストの削減

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【計測・検査向け】高精度回転ステージ V-62xシリーズ

開口付で高剛性と1µm未満の偏心と平坦度を持つ高速・高精度動作を実現

計測や測定、検査では正確な精度が求められます。誤差を減らしたり、正確な位置決めが不可欠です。ダイレクトドライブ高精度回転ステージ V-62xシリーズは、1µm未満の偏心と平坦度により、正確な校正作業をサポートします。 【活用シーン】 ・光学計測・検査 ・半導体・電子部品の精密検査 ・センサー・計測機器の校正 【導入の効果】 ・測定誤差の低減と再現性の向上 ・高精度かつ安定した角度位置決め ・長期安定運用による測定信頼性の向上

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【半導体向け】V-62xシリーズ 高精度回転ステージ

開口付、高剛性、1µm未満の偏心と平坦度を実現

半導体製造業界では、ウェーハやマスクなどの精密な位置決めが、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細加工技術の進展に伴い、より高い精度と安定性が求められています。位置決めの精度が低いと、加工不良やデバイスの性能低下につながる可能性があります。ダイレクトドライブ高精度回転ステージ V-62xシリーズは、優れた回転精度と微小なティルトエラーを実現し、高度なアライメントや回転制御を可能にします。 【活用シーン】 ・ウェーハプロービング ・マスクアライメント ・レーザー加工 ・検査装置 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる歩留まり向上 ・高速・高精度動作による生産性向上 ・幅広い分野への対応

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【研究向け】高精度・高剛性・長寿命の回転ステージ V-62x

開口付で高剛性と1µm未満の偏心と平坦度を持つ高速・高精度動作を実現

研究・実験分野では、精密な位置決めと回転制御が、実験の精度と再現性を左右する重要な要素です。従来の回転ステージでは、精度や速度が不足し、実験結果に影響を与える可能性がありました。ダイレクトドライブ高精度回転ステージ V-62xシリーズは、優れた回転精度と微小なティルトエラーを実現し、高度なアライメントや回転制御を可能にします。 【活用シーン】 ・光学系の調整 ・半導体製造装置 ・バイオメディカル分野での実験 【導入の効果】 ・実験精度の向上 ・再現性の高い実験結果 ・幅広い分野での活用

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【レーザー加工向け】ダイレクトドライブ高精度回転ステージ

開口付で高剛性、1µm未満の偏心と平坦度を実現する高速・高精度回転ステージ

レーザー加工業界では、高精度な位置決めと安定した動作が求められます。特に、微細加工や精密なパターン形成においては、位置ずれや振動が加工精度に大きく影響します。ダイレクトドライブ高精度回転ステージ V-62xシリーズは、1µm未満の偏心と平坦度により、レーザー加工の精度向上に貢献します。 【活用シーン】 ・角度依存の微細パターン加工 ・光学部品・精密部品の試作加工 ・レーザー加工プロセス開発・条件検証 【導入の効果】 ・加工精度・加工品質の向上 ・微細加工の再現性向上 ・加工プロセスの信頼性向上

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【レーザー微細加工向け】産業用ヘキサポッド H-815

さまざまな方向で信頼性の高い位置決めを実行

レーザー微細加工では、わずかな位置ズレや姿勢誤差が加工品質を大きく左右します。 H-815 ヘキサポッドは、6軸同時制御によるサブミクロン精度の位置決めと高い再現性により、 加工点・焦点位置・ワーク姿勢を常に最適な状態に保持。安定した加工品質を実現します。 【活用シーン】 ・加工ばらつきの低減 ・半導体製造装置への組み込み ・高精度な検査工程 【導入の効果】 ・製造プロセスの安定化 ・微細パターンの再現性向上 ・24時間365日の安定稼働

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【光学部品向け】コンパクトな設計ながら6軸の動作を実行可能

フォトニクスにおける要求の厳しいアライメントプロセスに対応

光学部品業界では、正確で要求の厳しい位置決めが品質を左右する重要な要素です。当社のH-815産業用ヘキサポッドは、高精度な位置決めを実現し、製品の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・フォトニクスにおける要求の厳しいアライメントプロセスに対応 ・レンズやその他の光学部品などの極めて小さな部品のアライメント 【導入の効果】 ・複雑な製造・計測プロセスの生産性を向上 ・小さな部品のアライメント ・高負荷サイクルに対応した長寿命設計

  • 試験機器・装置

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【半導体製造向け】産業用途向けヘキサポッド H-815

安定したウェーハ搬送を実現する産業用6軸位置決めシステム

半導体製造業界では、ウェーハの正確な位置決めが歩留まりを左右する重要な要素です。特に、24時間365日の連続稼働が求められる製造ラインにおいては、高い耐久性と信頼性が不可欠です。位置決めの精度が低いと、製造プロセスに悪影響を及ぼし、不良品の発生につながる可能性があります。当社の6軸位置決めシステムは、ウェーハ搬送における高精度な位置決めを実現し、製造プロセスの安定化に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハの精密位置決め ・半導体製造装置への組み込み ・高精度な検査工程 【導入の効果】 ・製造プロセスの安定化 ・歩留まりの向上 ・24時間365日の安定稼働

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【製造業向け】高精度かつ小型・高速動作の6軸位置決めシステム

コンパクトながら高精度で高速動作を実現。信頼性の高い6軸位置決めシステム

製造業では、品質と生産効率の向上が求められます。特に、精密部品の組み立てや検査工程においては、位置決めの精度が製品の品質を左右する重要です。位置決め精度が低い場合、不良品の発生や組み立て時間の増加につながる可能性があります。パラレルキネマティック・ヘキサポッド H-811は、高精度な位置決め性能により、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・複雑な製造プロセスや測定手順の生産性向上 【導入の効果】 ・コンパクトな設置面積 ・生産性の向上

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新製品:NanoCube 6軸ピエゾシステムP-616.65S

6自由度のナノ制御で微細調整を可能に|フォトニクス、ファイバーアライメントなどの応用分野に

NanoCube P-616.65S は、X・Y・Z の直線移動に加え、θX・θY・θZ の回転まで含む 6軸ナノポジショニングを実現する多自由度ピエゾステージです。 パラレルキネマティクスとフレクシャガイド構造により、従来ステージでは達成できない 高剛性・低クロストーク・高ダイナミクス動作を提供します。 ±250 µm の移動レンジと ±26.2 mrad の回転レンジを持ち、ナノメートル単位の微細位置決めが可能。フォトニクス、ファイバーアライメントなど、サブミクロン精度が求められる環境で威力を発揮します。

  • その他光学部品

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ナノレベルの制御で再現性を向上。研究現場向け「位置決め」製品特集

研究室・科学機器向け位置決めソリューションをサポートする製品ラインナップをご紹介

研究では、限られた条件下でも高い再現性と信頼性が求められます。 PIは50年以上にわたり、ナノレベルの高精度と長期安定性を両立した位置決めソリューションを提供。既存の研究設備にもスムーズに統合でき、LabVIEWやMATLAB、Pythonなど主要ソフトウェアとの互換性も備えています。 顕微鏡検査、フォトニクス、量子研究など、厳しい環境下でも精密で安定した動作を実現。短期プロジェクトや緊急対応にも柔軟に対応可能です。 精密研究を支えるPIの最新技術を、ぜひ詳細ページでご覧ください。

  • その他検査機器・装置

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光学用位相シフター S-312

光学または干渉計アプリケーション向け高解像度オープンループZステージ

・高度な干渉計アプリケーションにおける光学位相シフト用に設計された精密ナノポジ ショニングステージ。 ・薄型ステージ ・トリポッドピエゾ駆動設計により、ティルトエラー補正付きZ動作を実現 ・カスタムモデル対応 (例: closed-loop)

  • その他光学部品
  • 光学測定器

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半導体製造・光学・計測に適した高精度ヘキサポッド H-815

安定した製造プロセスを実現する産業用 6軸位置決めシステム

24時間・365日稼働を前提に設計された、堅牢かつ高精度な産業用途向けのヘキサポッド。 コンパクトな設計でありながら高い耐久性を備え、厳しい環境下でも信頼性の高い位置決めを実現します。

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ヘキサポッドシステム用コントローラ C-887.52X

PIヘキサポッド専用で、標準ソフトで直感的操作が容易

C-887.52Xは、ヘキサポッド制御に最適化された32bit PIDコントローラを内蔵し、1つのコマンドで6自由度の位置決めが可能。 EtherCAT・USB・RS-232などの多様な通信に対応し、アナログ/デジタルI/O、BNC端子も装備。 LabVIEWやWindows DLL、Linux用ドライバも提供され、開発環境に応じた柔軟な制御が可能。 リファレンススイッチやストール検知機能も備え、安全性にも配慮されています。

  • コントローラ
  • サーボ
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耐荷重~250kg ヘキサポッド H-850 絶対エンコーダ搭載

±0.2µmの再現性、アブソリュートエンコーダ標準搭載の重荷重対応モデル

H-850は最大250kgの耐荷重を誇る高剛性ヘキサポッドで、±50mm(XY)/±25mm(Z)、および±30°の広範囲な動作が可能です。 再現性はZ軸±0.2µm、回転軸±7.5µradと高精度。ブラシレスDCギアモータによる滑らかな動作と、アブソリュートエンコーダの即時位置取得により、高速かつ安定した制御が可能です。 構造はパラレルキネマティック方式で、ロボティクス、重量物アライメント、試験設備などに最適です。

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耐荷重30Kgのパラレルキネマティック・ヘキサポッドH-840

最大30kgの耐荷重と±0.1µm再現性を両立した高精度6軸制御

H-840は、スチュワートプラットフォーム構造を採用した高精度ヘキサポッドで、6本のアクチュエータにより並列駆動されます。 Z軸±25mm、X/Y方向±50mm、回転±30°と柔軟な動作を実現し、光学アライメントやマイクロマニピュレーションなどの高度な位置制御が可能。 最大30kgまでの荷重に対応し、±0.1µmの位置再現性と高い制御精度を兼ね備えています。

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コンパクトで30kgまで耐荷重可能なヘキサポッド H-825

30kgの耐荷重&剛性設計で高負荷アプリにも対応

H-825は、±0.1µmのZ軸再現性と高剛性設計により、半導体製造や光学調整分野における精密動作に対応します。 耐荷重は最大30kg、ブラシレスDCギアモータ駆動・アブソリュートロータリーエンコーダにより初期化動作不要で即座に稼働可能。 安定した高精度位置決めと姿勢制御を実現します。

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高速・コンパクト・高精度 小型ヘキサポッド H-811.I2

高剛性&高精度、真空にも対応可能な小型6軸ステージ

H-811.I2は、全6軸において高精度な位置決めが可能な小型ヘキサポッドです。 XY±17mm、Z±6.5mmの移動範囲に加え、±21°の回転制御が可能。 パラレルキネマティック設計により、干渉や誤差が最小限に抑えられ、安定した動作を実現します。 特に真空や制限スペース下でも確実な動作が可能で、再現性や剛性を求める精密分野での信頼性に優れます。 最大5kgまでの荷重に対応。

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高い位置分解能を実現・非接触測定 単電極センサー D-510

分解能1 nm未満・最大帯域10 kHzの非接触変位計測センサー

D-510 PISecaは、最大測定範囲500µm・分解能1nm未満を実現する単一電極静電容量センサーです。 センサープローブはLEMOコネクタ付きで取り付けが容易。 ガードリング電極によって電場の均一性が確保され、高リニアリティ(最大0.1%)を達成しています。 E-852.10等の専用エレクトロニクスと組み合わせることで、静的・動的分解能ともに優れたナノメートル級の変位測定が可能です。

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  • 変換機・トランスデューサ
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サブナノメートル分解能の位置センサー D-050・D-100

最大測定範囲150µm、高精度なナノ変位制御に対応

D-050/D-100は、PI社が提供する2電極静電容量センサーで、最大150µmの測定範囲と0.01nmの分解能を実現。 干渉計より高分解能かつ非接触方式のため、ナノメートルスケールの測定に最適です。 パラレル計測に対応し、多軸制御におけるリアルタイム補正も可能。 直線性は0.01%以下(デジタルコントローラー使用時)、バンド幅は最大10kHz。 クリーン環境、半導体製造、計測機器への組込みに適しています。

  • センサ
  • 変換機・トランスデューサ
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ピエゾモーター顕微鏡用XY軸ステージ U-781 PILine

最大速度120mm/s、10nm分解能で高速・高精度走査を実現

U-781は、PILine(R)ピエゾリニアモータを採用したXYステージで、自己保持機能による安定性と潤滑不要の静音設計が特長です。 コンパクトかつフラットな設計で、顕微鏡下へのサンプルアクセスを妨げません。 LabVIEWやMATLAB、µManagerなど各種ソフトウェアに対応し、装置組込みや自動化に柔軟に対応できます。 サンプルホルダやZステージなどのオプションも豊富です。 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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機械・光学部品のアライメントに リニアアクチュエータ N-472

慣性駆動+インクリメンタルセンサで長期安定の微調整制御

N-472シリーズは、Piezoelectric Inertia Drive方式を採用した高信頼性のClosedloopアクチュエータです。 高精度な位置決め制御が可能で、インクリメンタルエンコーダにより位置フィードバックが取得可能。 最大22Nの駆動力、保持力100N以上を確保しながら、動作時以外は電流を必要とせず、熱の発生も最小限に抑えます。 M10×1ねじ・9.5mmクランプシャンクによる簡単な取付が可能で、装置組込みにも適しています。

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  • 圧電デバイス
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高推力・高安定位置決めを実現 リニアアクチュエータ N-470

ストローク最大13mm、ミラー・光学素子の微細調整に最適

N-470は、高い保持力(100N以上)と7〜13mmの移動範囲を備えたコンパクトな慣性駆動式アクチュエータです。 従来の手動ネジ機構を置き換える設計で、光学ミラーのチップ・チルト微調整や、微小コンポーネントの長期安定な固定に理想的です。 M10×1ネジ、9.5mmクランプシャンクで簡単に装置へ取り付け可能。E-872コントローラと組み合わせることで、正確な微動制御が可能になります。

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  • ソレノイド・アクチュエータ

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最大推力・600N 精密位置決めリニアアクチュエータ N-216

最大800Nの保持力と5nm分解能、ナノ位置決めに革新を

N-216は、最大800Nの保持力と0.03nm(オープンループ)/5nm(クローズドループ)の分解能を備えたピエゾステッピングアクチュエータです。 独自のPiezoWalk(R)技術により、フルステップモードとナノステッピングモードを切り替えながら、高速かつナノ精度の位置決めが可能。 非磁性・クリーン・真空環境に対応し、半導体製造、ウェハ検査、ナノリソグラフィなど、微細制御を要求されるアプリケーションに最適です。

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多軸デジタルピエゾコントローラ E-727 高速制御タイプ

最大4軸対応、データ記録・波形生成機能も標準搭載

E-727は最大4チャンネル対応のデジタル制御ユニットで、標準仕様に加え高出力電流モデル(最大1500mA)もラインナップ。 アナログ入力/出力端子に加え、デジタルI/O、センサーモニター出力、波形ジェネレーター機能などを搭載し、先進的なピエゾモーションアプリケーションに完全対応。 センサーバンド幅10kHz、サンプリングレート100kHzでの信号処理が可能で、動的計測や同期制御にも優れた性能を発揮します。

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1ch ピエゾサーボコントローラ&ドライバー E-625

24ビットA/D搭載でナノ分解能を実現、最大12chまで並列制御可能

E-625は、低電圧ピエゾアクチュエータ用に設計された高性能なサーボコントローラです。 最大12台まで並列ネットワークが可能で、多軸制御システムにも柔軟に対応。 24ビットの高分解能A/Dと20ビットD/Aコンバータにより、高精度な位置検出と滑らかな動作を実現します。 センサーは静電容量または歪みゲージ(SGS)から選択可能。 PI独自のGCSコマンド体系、LabVIEW・DLL対応ソフトウェア、波形メモリ機能も備え、装置開発や実験用途に最適です。

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モジュール式ピエゾコントロールシステム E-500/E-501

使用軸数や対応センサー、動作仕様に合わせて柔軟な構築が可能

E-500/E-501は、1~3チャネル構成のピエゾシステムに対応するカスタム設計可能なコントローラです。 高電圧アンプ(最大1100V)や、多チャネル対応の静電容量・SGSセンサー制御モジュールを選択可能で、幅広いPI製品と互換性があります。 各種モジュールを組み合わせて構成され、制御精度・応答性を高めると同時に、装置組込みの柔軟性も確保。

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