ピーアイ・ジャパンの製品ラインアップ

『L-310』は、ボールネジとクロスローラーガイドにより、 高いガイド精度と剛性を実現する製品です。 高い安定性を可能にする応力緩和アルミニウムベースを使用。 また、真空対応バージョン可能非接触リミットスイッチと基準点スイッチを備え、 基準点スイッチには、トラベルレンジの中央に方位センシングが搭載されています。 【特長】 ■高いガイド精度と剛性を実現 ■応力緩和アルミニウムベース使用 ■スムーズな動作と低摩擦で長寿命を実現 ■インクリメンタルエンコーダーによる高精度の位置測定 ■小インクリメンタルモーションと低速モーション ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『L-505』は、DC/ステッピングモータ選択可能な小型リニアステージです。 リニアステージには、フランジモーターを備えた細長いタイプと、 ベルトドライブ(折り畳み式ドライブトレイン)を備えた幅広くコンパクトな タイプ2つのデザインバリエーションをご用意。 また、インクリメンタルエンコーダによる高精度位置測定が可能です。 【特長】 ■トラベルレンジ：13mmまたは26mm ■ギヤヘッドなしのステッピングモータあるいはDCサーボモータ選択可能 ■速度：15mm/s ■最大荷重：30N ■リファレンスポイント・リミットスイッチ内蔵 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

U-521は超音波ピエゾモータを搭載した、小型リニア動作ステージです（省スペース設計：幅35 mm、高さ15 mm）。 小型ながら、18 mm動作量、最大速度200mm/s。 内蔵インクリメンタルリニアエンコーダーで、高精度位置計測を実現。 電源OFF時には、2Nのセルフロック保持力で機械的に安定した状態で位置を保持します。そのため、消費電力および発熱を大幅に低減できます。 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

『V-408』は、3相の磁気ダイレクトドライブはドライブトレイン内で 機械部品を使用しないため、駆動力を摩擦プラットフォームに 伝達するPIMag リニアステージです。 クロスローラーガイドにより、ボールガイドのボールの点接触ではなく 強化ローラーが線で接触するようになっています。 これにより剛性が著しく増すとともに必要なプリロードが抑えられているため、 摩擦が低減しスムーズな動作が可能。クロスローラーガイドには、 ガイド精度が高く耐荷重が大きいという特長もあります。 【特長】 ■アイロンコア3相リニアモータ ■高耐荷重のクロスローラガイド ■最小インクリメンタルモーション 20nm ■双方向繰り返し性 ±0.1μm ■コンパクト設計 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

PI Magリニアモータ駆動のV-738は、光学式インクリメンタルエンコーダによりシステム分解能1 nm。XY方向それぞれ102 mmのストロークで、最大速度500 mm/s。コアレスのため速度リップルが小さく、低速域でも滑らかな動作を実現しています。 150 mm四方の開口により、レーザ光学ヘッドや検査カメラを内部に配置でき、装置の省スペース化に貢献 非接触式の光学式リニアエンコーダにより、プラットフォーム上で位置を直接かつ高精度に測定します。非線形性、機械的バックラッシュ、弾性変形の影響を受けません。 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

『L/V-412,L/V-417』は、エンコーダの高解像度により、 性能ごとのトラッキングが向上するPIMag 高耐荷重リニアステージです。 トラッキングエラーが少なくなり、整定時間が短縮。 最大限の柔軟性のために、インクリメンタルエンコーダと アブソリュートエンコーダを選択することができます。 【特長】 ■最大トラベルレンジ：813mm ■定格フォース：87N ■インクリメンタル/アブソリュートエンコーダ選択可能 ■循環式ボールベアリング採用により450Nまで耐可 ■カバーストラップ採用により、パーティクルを防塵可 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

・高度な干渉計アプリケーションにおける光学位相シフト用に設計された精密ナノポジ ショニングステージ。 ・薄型ステージ ・トリポッドピエゾ駆動設計により、ティルトエラー補正付きZ動作を実現 ・カスタムモデル対応 (例: closed-loop)

半導体製造業界では、高精度な位置決めが製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細加工や検査工程においては、ナノメートル単位の正確な位置決めが求められます。従来の摩擦を伴うステージでは、摩耗やバックラッシュによる精度の劣化が課題となっていました。PIglide A-121は、磁気ダイレクトドライブとエアベアリング技術を融合し、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・半導体検査装置 ・精密測定装置 ・微細加工 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・非接触構造による長寿命化 ・メンテナンスコストの削減

光学業界のアライメント工程では、レンズやミラーなどの光学部品を超精密に位置決めすることが求められます。特に、光軸のずれは、システムの性能を大きく左右するため、高精度な位置決めが不可欠です。従来の摩擦を利用したステージでは、微小な動きの際に摩擦の影響を受け、正確な位置決めが困難でした。PIglide A-121は、摩擦やバックラッシュを排除し、ナノメートル単位の精度で位置決めを実現することで、光学アライメントの課題を解決します。 【活用シーン】 ・光学レンズのアライメント ・ファイバーアライメント ・光ファイバーデバイスの製造 【導入の効果】 ・高精度なアライメントによる光学性能の向上 ・歩留まりの向上 ・生産性の向上

半導体製造業界では、ウェーハやマスクなどの精密な位置決めが、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細加工技術の進展に伴い、より高い精度と安定性が求められています。位置決めの精度が低いと、加工不良やデバイスの性能低下につながる可能性があります。ダイレクトドライブ高精度回転ステージ V-62xシリーズは、優れた回転精度と微小なティルトエラーを実現し、高度なアライメントや回転制御を可能にします。 【活用シーン】 ・ウェーハプロービング ・マスクアライメント ・レーザー加工 ・検査装置 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる歩留まり向上 ・高速・高精度動作による生産性向上 ・幅広い分野への対応

精密光学システムや干渉計アプリケーションでは、微小な光学位相シフトの制御が測定精度や解析結果に大きく影響します。わずかな変位差が干渉縞の安定性や計測結果に影響を与えることもあります。S-312 光学用位相シフターは、干渉計や精密光学用途向けに設計されたオープンループのピエゾZステージです。フレクシャーガイド構造によりバックラッシュのない滑らかな動作を実現し、微小変位制御による安定した位相調整をサポートします。コンパクト設計のため、光学ベンチや装置内への組み込みにも適しています。 【活用シーン】 ・干渉計実験 ・光学位相シフト制御 ・ホログラフィー／波面制御実験 ・精密光学アライメント 【導入の効果】 ・微小変位制御による安定した位相調整 ・再現性の高い光学測定 ・装置組み込み性の向上

研究開発分野、とりわけ干渉計や精密光学実験では、微小な光学位相シフトの制御が実験結果の精度を左右します。わずかな変位の違いが測定精度や解析結果に影響を与える場合があります。S-312 光学用位相シフターは、干渉計アプリケーションや光学位相制御用途向けに設計されたオープンループのピエゾZステージです。ピエゾフレクシャー構造により、滑らかで高分解能な微小変位制御を実現し、精密な位相調整をサポートします。コンパクト設計のため、研究装置への組み込みや光学系への統合にも適しています。 【活用シーン】 ・干渉計実験 ・光学位相シフト制御 ・ホログラフィー実験 ・精密光学測定 ・ナノポジショニングを伴う光学研究 【導入の効果】 ・微小変位制御による安定した位相調整 ・再現性の高い光学実験の実現 ・コンパクト設計による装置組み込み性向上 ・研究用途における柔軟な実験構成

バイオテクノロジー分野、特に顕微鏡観察や深部組織イメージングでは、対象領域を高精度にZ軸方向へ位置決めし、焦点を最適化することが重要です。V-308 Voice Coil PIFOCは、対物レンズや試料位置を 最小10 nmステップで微調整 可能な高精度フォーカスステージです。最大7 mmの調整範囲と高剛性ガイドにより、長作動距離レンズを含む多様な観察条件下でも 安定したナノポジショニング を提供します。さらに、最大1 kgまでの重量補償機能を内蔵し、対物レンズやアダプタなど重い光学系にも対応できます。 【活用シーン】 ・高倍率顕微鏡による 焦点調整 ・多光子蛍光・深部組織イメージングの Z方向スキャン ・自動化顕微鏡システムでの 高速オートフォーカス 【導入の効果】 ・ナノレベルの焦点制御による高精細画像取得 ・高剛性構造による 安定した動作と再現性向上 ・重力補償で 対物レンズ重量の影響を軽減

半導体製造分野では、微細化の進展に伴い、検査・計測・露光工程におけるZ軸方向の高精度位置制御がますます重要になっています。焦点位置のわずかな変動が、検査精度やプロセス安定性に影響を及ぼす可能性があります。V-308 Voice Coil PIFOCは、最小10 nm分解能と最大7 mmの移動範囲を備えたZ軸フォーカスドライブです。最大1 kgまでの重力補償機能により、重量のある光学系や対物レンズでも安定した位置決めを実現。ダイレクトドライブ方式により、滑らかで高速な応答性と高い再現性を提供し、半導体製造装置の精密フォーカス制御をサポートします。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査装置のオートフォーカス制御 ・光学計測装置のZ軸位置決め ・マスク検査装置のフォーカス補正 ・微細パターン検査工程 【導入の効果】 ・ナノレベルのフォーカス制御による検査精度向上 ・重量補償機能による光学系の安定保持 ・高速応答による検査スループット改善 ・プロセス安定性の向上

V-308はボイスコイル直動とクロスローラーガイドを組み合わせたZ軸フォーカスステージです。 最小インクリメント10 nm、調整可能な7 mmストロークにより、光学系の焦点位置をナノレベルで最適化できます。 大口径レンズや長作動距離レンズを使用する多光子・深部組織イメージングで高い信頼性を提供します。 クロスローラーガイドの高剛性構造と10 nm分解能エンコーダが、7 mm全域で滑らかなナノポジショニングを保証。 詳細は PDF をダウンロード、またはお問い合わせください。

レーザー加工分野では、焦点位置の精密な制御が加工品質を大きく左右します。特に微細加工や高精度マーキングにおいては、Z軸方向のわずかな焦点変動が加工幅やエネルギー密度に影響を及ぼします。 V-308 Voice Coil PIFOCは、最小10 nm分解能と最大7 mmの移動範囲を備えたZ軸フォーカスドライブです。ダイレクトドライブ方式により滑らかで高速な応答を実現し、レーザー加工ヘッドや光学系の精密なフォーカス制御をサポートします。さらに、最大1 kgまでの重力補償機能により、重量のある光学モジュールにも対応可能です。 【活用シーン】 ・レーザーマーキング装置のフォーカス制御 ・レーザー微細加工装置のZ軸位置決め ・ガルバノスキャナ光学系の焦点補正 ・研究開発用レーザー加工システム 【導入の効果】 ・焦点制御精度の向上による加工品質安定化 ・高速応答による加工プロセスの最適化 ・重量補償機能による安定した光学系制御 ・微細加工における再現性向上

研究開発分野における実験では、精密な位置決めが実験結果の正確性を左右します。特に、微細な動きを制御する必要がある場合、位置決めの精度と安定性が重要になります。精度の低い位置決めは、実験データの信頼性を損ない、研究の遅延につながる可能性があります。PIMag リニアステージ『V-408』は、高精度な位置決め性能を提供し、研究開発における実験の効率化と精度の向上に貢献します。 【活用シーン】 産業および研究分野。 高い動特性と精度が求められるオートメーション技術分野。 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによるデータの信頼性向上 ・コンパクト設計による省スペース化 ・高耐荷重対応のクロスローラーガイドで摩擦を減少 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

顕微分野では、試料の精密な位置決めが、観察の精度を左右する重要な要素です。特に、微小な対象をナノメートルレベルでの正確な位置制御が求められます。位置決めのわずかなズレが、観察像の劣化や、正確なデータ取得の妨げになる可能性があります。U-521は、小型ながら高精度な位置決めを実現します。 【活用シーン】 ・微小対象の正確な位置決め 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる観察精度の向上 ・機械的摩擦が少ない ・熱影響が少ない 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

・トラベルレンジ：25mmと50mmタイプ ・75 N のアクティブフォース ・3 nm ミニマムインクリメンタルモーション ・電源オフ時のセルフロッキング ・多軸セットアップ対応：XY、XZ、XYZ ・真空対応

半導体製造工程では、ウェーハやマスクの位置決めにおいて高い精度と再現性が求められます。特に微細加工や検査工程では、位置決め精度が製品品質や歩留まりに直結します。B-421 BIX ミニチュアリニアステージは、超小型設計でありながら、ピエゾ駆動による高分解能な位置決めを実現。限られた装置スペース内でも組み込みやすく、精密な位置制御が求められる半導体装置に適しています。 最大33mmのストロークに対応し、コンパクトかつ高性能な位置決めソリューションを提供します。 【活用シーン】 ・ウェーハプロービング装置 ・マスクアライメント装置 ・半導体検査装置 ・精密アセンブリ装置 【導入の効果】 ・高分解能位置決めによる安定したプロセス制御 ・装置の省スペース化に貢献 ・高精度制御による工程安定性向上

光学システムでは、レンズやミラー、光学素子の位置調整が性能を大きく左右します。わずかな位置ずれが、像の歪みや測定精度の低下につながる場合があります。B-421 BIX ミニチュアリニアステージは、超小型設計でありながら、ピエゾ駆動による高分解能な位置制御を実現。限られたスペースにも組み込みやすく、精密な光学アライメント用途に適しています。最大33mmのストロークに対応し、研究開発用途から装置組み込みまで幅広い光学調整ニーズに対応します。 【活用シーン】 ・顕微鏡の対物レンズ調整 ・レーザー加工機の焦点調整 ・光ファイバーアライメント ・干渉計・計測装置の精密位置決め 【導入の効果】 ・高分解能な位置制御による安定したアライメント ・装置の省スペース設計に貢献 ・再現性の高い光学調整を実現

半導体製造のウェーハやマスクの位置決めにおいて、高い精度と安定性が求められます。ナノメートルレベルの位置決め精度が製品の品質を左右します。位置決めの誤差は、歩留まりの低下や製品不良につながる可能性があります。P-620.2〜P-629.2 PIHera(R)シリーズは、長寿命のPICMA(R)アクチュエータを採用したXY軸ピエゾナノポジショニングステージです。静電容量式センサーを用いたクローズドループ制御により、優れた直線性と安定性を両立し、1nm以下の高分解能、±0.2nmの双方向再現性を提供します。 【活用シーン】 ・半導体製造装置 ・ウェーハ検査 ・マスクアライメント ・プロービング 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる歩留まり向上 ・安定した動作による生産性の向上 ・小型筐体による装置への組み込みやすさ ・長寿命アクチュエータによるメンテナンス性の向上

半導体検査工程では、ウェーハやチップの微細な欠陥を正確に検出するため、ナノレベルでの精密な位置制御が求められます。特に検査カメラやセンサーのフォーカス調整、ウェーハ高さ位置の制御では、安定したZ方向の位置決めが検査精度を左右します。 L-310は、ボールねじ駆動とクロスローラーガイドを採用した高精度Zステージです。高いガイド精度と剛性により、半導体検査装置における安定したZ方向ポジショニングを実現します。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査装置 ・半導体チップ検査装置 ・画像処理検査装置 ・検査カメラのフォーカス調整 ・プローブ高さ調整 【導入の効果】 ・高精度なZ軸位置制御による検査精度の向上 ・安定した動作による検査データの信頼性向上 ・高デューティサイクル対応による長時間運転 ・不良検出精度向上による歩留まり改善

光学装置では、レンズやセンサーの位置ずれが光学性能に大きく影響します。特に光軸調整やフォーカス制御では、サブミクロンレベルでの安定した位置決めが求められます。L-310は、ボールねじ駆動とクロスローラーガイドを採用した高精度Zステージです。高いガイド精度と剛性に加え、インクリメンタルエンコーダによる高精度位置測定により、光学機器における精密なZ軸位置制御を実現します。 【活用シーン】 ・光学レンズの位置調整 ・光学アライメント装置 ・センサー位置調整 ・顕微鏡フォーカス制御 ・レーザー光学系の位置調整 【導入の効果】 ・高精度なZ軸位置決めによる光学性能向上 ・安定した動作による測定精度の向上 ・スムーズな位置調整による作業効率向上 ・装置の安定性向上による歩留まり改善

研究開発分野の実験では、ナノ～ミクロンレベルの位置決め精度が実験結果の信頼性や再現性を左右します。特に顕微鏡観察や光学実験、材料評価などの分野では、安定したZ方向の精密ポジショニングが不可欠です。 L-310は、ボールねじ駆動とクロスローラーガイドを採用した高精度Zステージです。高いガイド精度と剛性に加え、インクリメンタルエンコーダによる高精度位置測定により、研究開発用途における安定したZ軸位置制御を実現します。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察装置 ・精密測定装置 ・材料試験装置 ・光学実験装置 ・研究開発用実験装置 【導入の効果】 ・高精度なZ軸位置決めによる実験精度の向上 ・安定した動作による実験データの再現性向上 ・滑らかな動作による精密調整の容易化 ・研究用途での高い信頼性 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

精密測定や分析装置では、Z方向のわずかな位置ずれが測定精度や再現性に大きく影響します。特に微細構造の測定やナノスケールの分析では、高精度かつ安定した位置決め機構が不可欠です。 L-310は、ボールねじ駆動とクロスローラーガイドを採用した高精度Zステージです。高いガイド精度と剛性を実現し、精密測定装置や研究用途における安定したZ方向位置決めを可能にします。 【活用シーン】 ・精密測定機器 ・検査装置 ・研究開発 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる測定精度の向上 ・安定した動作による信頼性の向上 ・スムーズな動作による作業効率の向上 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

電子機器製造の組立工程では、部品の正確な位置決めが品質と生産性を左右します。特に、小型部品の配置や精密な組み立てにおいては、高精度な位置決めが不可欠です。位置決めの誤差は、製品の不良や組み立て時間の増加につながる可能性があります。小型リニアステージ『L-505』は、DC/ステッピングモータを選択でき、高精度な位置決めを実現します。 【活用シーン】 ・電子部品の配置 ・基板への部品実装 ・精密機器の組み立て 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・組み立て時間の短縮 ・不良品の削減

研究開発分野における実験では、精密な位置決めと安定した動作が不可欠です。特に、微細構造の観察や精密加工においては、Z軸方向の正確な制御が実験の成否を左右します。従来のステージでは、位置決めの精度や応答速度に課題があり、実験の効率を低下させる要因となっていました。V-Z03は、ボイスコイルモータによるダイレクトドライブ方式を採用し、高速かつ高精度なZ軸制御を実現します。 【活用シーン】 ・産業・研究分野での精密位置決め ・半導体検査 【導入の効果】 ・サブミクロン単位の精密な位置決め ・実験時間の短縮 ・実験精度の向上 ・多様な実験への対応

V-Z03は、ボイスコイルモータによるダイレクトドライブ方式で、高速かつ高精度なZ軸制御を実現。 高剛性クロスローラーガイドとリニアエンコーダにより、最小0.035µmの微細動作が可能。 最大荷重150Nに対応し、セルフロック機能や空圧カウンターバランスを搭載。 半導体製造や精密測定など、要求の厳しい分野で優れた性能を発揮します。

PI Mag(R)リニアモータとダイレクトエンコーダを組み合わせたV-817は、非接触駆動で発塵を抑え、長期安定性を実現します。 最大負荷600 Nまで対応し、2 µmレベルの位置決め再現性を実現。 動作量は、204, 407, 610, 813 mmの4タイプをラインアップし、ドラッグチェーンや75〜150 mm角M6取付プレートなど豊富なアクセサリで迅速にシステム化できます。 センサーやカメラの組立、精密検査&測定、ウェハー加工&検査、レーザー加工など幅広い産業アプリをサポートします。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

光学システムでは、高精度な位置決めと安定した動作が重要です。特にレンズやミラーなどの光学部品の配置調整では、わずかな位置ズレでも測定結果や画像品質に影響を与える可能性があります。 V-817は、リニアモータによるダイレクトドライブと高精度インクリメンタルエンコーダを組み合わせたリニアステージです。摩擦の少ない滑らかな動作と高速応答により、光学部品の精密な位置調整や光軸アライメントを高精度に行えます。 さらに最大600 Nの高荷重に対応し、剛性の高い構造により安定した位置決めを実現。光学装置や精密測定システムにおける高精度な調整作業をサポートします。 【活用シーン】 ・レンズやミラーの位置調整 ・光学系の組み立て ・精密測定 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる調整精度の向上 ・安定した動作による作業効率の向上 ・非接触駆動による発塵の抑制

磁気ダイレクトドライブを採用したV-855は、600Nを支えるクロスローラーガイドとアイアンレス3相リニアモータを組み合わせ、振動レスで滑らかな高速搬送を実現します。 200 / 400 / 800 mmの3ストロークから選択でき、アブソリュートエンコーダモデルは原点出し不要で稼働率を向上。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

計測分野では、高精度な位置決めと安定した動作が求められます。特に精密部品の検査や非接触測定、微細加工プロセスにおける位置決めでは、高分解能と高速動作を両立したステージが重要です。 V-855は、リニアモータによるダイレクトドライブと高精度リニアエンコーダを備えた高速リニアステージです。0.1 µmの最小インクリメンタルモーションと最大速度4,000 mm/s（4 m/s）により、高速かつ高精度な測定位置決めを実現します。さらに最大800 mmの長ストロークと高荷重（最大600 N）に対応しており、大型ワークや高速スキャン測定を伴う計測装置にも適しています。 【活用シーン】 ・精密部品の測定 ・半導体製造における検査 ・非接触測定システム ・研究開発装置の位置決め 【導入の効果】 ・高分解能位置決めによる測定精度の向上 ・高速動作による測定時間の短縮 ・長ストロークによる大型ワーク測定への対応

研究開発分野の実験では、高精度な位置決めと安定した動作が求められます。特に微細構造の観察や精密加工、材料評価などの実験では、位置決め精度が測定結果や実験の再現性に大きく影響します。 V-855は、リニアモータによるダイレクトドライブと高精度リニアエンコーダを備えた高速リニアステージです。0.1 µmの最小インクリメンタルモーションと最大4,000 mm/s（4 m/s）の高速動作により、精密な位置決めと高速搬送を両立します。 さらに最大800 mmの長ストロークにより、大型試料の測定やスキャン測定など、研究開発装置における幅広い実験用途に対応します。 【活用シーン】 ・精密測定 ・微細加工 ・光学実験 ・材料試験 【導入の効果】 ・実験の再現性向上 ・測定精度の向上 ・作業効率の向上 ・実験時間の短縮

電子部品実装分野では、生産性の向上と品質の安定化が重要です。特に実装ラインにおける部品搬送では、高速動作と高精度な位置決めの両立が求められます。搬送速度の制限や振動による位置ズレは、実装精度や生産効率に影響を与える要因となります。 V-855は、リニアモータによるダイレクトドライブを採用した高速リニアステージです。最大4,000 mm/s（4 m/s）の高速動作と高精度リニアエンコーダにより、高速搬送と高精度位置決めを同時に実現します。さらに最大800 mmの長ストロークと高荷重（最大600 N）**に対応しており、電子部品実装装置や検査装置などの高速搬送用途に適しています。 【活用シーン】 ・高速実装ライン ・部品のピック＆プレース ・検査装置 【導入の効果】 ・生産性の向上 ・品質の安定化 ・不良率の低減

L-511高精度リニアステージは、幅広い業界で使用いただけるよう設計されています。 ・±0.15 µmまでのサブミクロンの再現性を実現できるため、レーザー切断や光学アライメントなどの高い精度が求められるタスクに最適 ・循環ボールベアリングガイドと最大155mmのストロークで、安定性と強度を確保 ・応力緩和アルミニウムベースにより、厳しい環境でも機械的な安定性が確保され、ドリフトが最小限に抑えられる ・モーターとエンコーダの構成は複数用意されており、自動化、研究開発、バイオテクノロジー分野における幅広い用途に対応

半導体分野では、ウェーハやマスクの位置決めにおいて、高い精度と安定性が求められます。特に検査工程や微細加工では、わずかな位置ずれが測定誤差や歩留まり低下につながり、製品品質に大きく影響します。 V-Z03は、ボイスコイルモータによるダイレクトドライブ方式を採用し、高速応答かつ高精度なZ軸制御を実現。さらに、高剛性クロスローラーガイドと非接触リニアエンコーダにより、バックラッシュのない安定した位置決めと高い再現性を確保します。最大150 Nの高荷重対応および空圧式カウンターバランスにより、重量物の精密位置決めにも最適です。 【活用シーン】 ・半導体検査装置 ・ウェーハ検査・計測装置 ・精密測定機器 【導入の効果】 ・高精度位置決めによる測定精度の向上 ・高速応答によるタクトタイム短縮 ・高剛性ガイドによる安定した動作 ・高荷重対応による用途拡張 ・セルフロック機能による安全性向上