ピーアイ・ジャパンの製品ラインアップ

P-726は重い高NA対物レンズを高速・高精度で駆動するPIFOC(R)ハイロードフォーカススキャナです。 フレクシャガイドと静電容量センサを内蔵し、0.3 nmのOpenLoop分解能、0.02 %リニアリティエラーを実現。 共振周波数は無負荷で1120Hz、210 g負荷でも560 Hzを維持し、半導体ウェハ検査や共焦点・超解像顕微鏡のZスキャンを高速化。 QuickLockアダプタでM32／M27など主要スレッドサイズに対応。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

PIFOC(R) P-737高速垂直位置決めシステムは、 顕微鏡検査のためのXYステージで使用するように設計されています。 【特徴】 ○高さ方向の高速ピエゾ動作：ストローク～250μm 　（500μmまでカスタマイズ可能） ○ナノメートル分解能 ○大きなセンター開口部によって標本押さえに対応 ○手動またはモーター駆動のXY OEMステージに機械的に適合 ○ミリセカンドレンジの応答時間 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

P-753 は、15〜38 µmの移動量を0.1 nm分解能で制御する1軸ピエゾナノポジショニングステージです。 実可動部を実測する、2電極型静電容量センサーとフレクシャガイドによる摩擦ゼロ構造により、ナノメートル動作と、数 msecでの位置決めを実現します。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

P-752は、2電極型の静電容量式センサを内蔵したフレクシャガイド構造により、摩擦ゼロで、優れた真直度（Pitch, yaw error ±１μrad）をもち、Openloop分解能は0.1nmという優れた1軸ナノポジショニングステージです。 また内蔵の静電容量センサーは、実可動部分を非接触でサブナノレベルで実測するため、より高いリニアリティとヒステリシス補正し、長期安定性を実現させます。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

P-611.1ピエゾステージは、設置面積わずか44 x 44mmの フレクシャガイドナノポジショニングシステムです。 【特徴】 ○コンパクト設計：設置面積わずか44 x 44mm ○ストローク～120μm ○分解能～0.2nm ○低コストの機構／電子システム構成 ○PICMA(TM)ピエゾアクチュエータによる驚異の長寿命 ○Zステージ、XY、XZ、およびXYZバージョンを用意 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

PIHera P-620.1/629.1 シリーズはフレクシャガイドとPICMA(R)ピエゾを組み合わせた1軸ナノポジショナです。 50〜1800 µmのストロークをもち、最小0.1 nm分解能を有し、内蔵静電容量型センサーで実可動部を測定することで、リニアリティエラー0.02 %を達成します。 フレクシャーガイドで、摩耗部がなく高剛性で優れた真直度、長期安定性に優れます。 X・XY・Z・XYZ構成にも拡張できるため、顕微鏡試料走査、光学アライメント、干渉計測などに最適です。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

P-517/527マルチ軸ピエゾスキャナは、摩耗ゼロのフレクシャガイドとPICMAピエゾセラミック、静電容量センサーを用いて、ナノレベルの再現性、分解能をもち、動作軸は、XY軸、XYZ軸、XYθz軸のタイプがあります。 XY軸は100µmと200µm、Z軸は20µm、θzは2mradタイがあります。耐荷重50Nあり、光学検査、ウェハー検査、ナノポジショニング、計測、顕微鏡などアプリケーションに最適。 50 × 50mmの開口で透過光も可能。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

高信頼性のPICMAピエゾセラミック駆動、静電容量センサによるダイレクト計測を行うXYZ軸ナノポジショニングステージです。 XY軸動作量は、30ｘ30µｍと100 × 100 µmタイプで、Z軸は10 µmストロークになります。 開口　50 × 50 mmを持つため透過光アプリケーションにも最適。 高精度顕微鏡、マスク/ウェーハの位置決め、計測技術などに使われます。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

P-734はパラレルキネマティクス構造によるXY軸ナノポジショニングステージです。 高精度フレクシャーガイドと静電容量式センサにより、0.3 nmシステム分解能と0.03 %リニアリティを実現。 動作量は100 µm×100 µmで、耐荷重は20N。 56 mm×56 mmの大開口により、光学顕微鏡などにも最適。 半導体マスク位置決め、走査型顕微鏡、表面粗さ計測など“平面度×高速”が求められる装置に最適です。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

P-611 シリーズはサイズが44mmの小型ナノポジショナステージです。 ・XY、XZ軸　各 120 µmの動作量 ・Openloop分解能：0.2nm ・ひずみゲージフィードバックセンサーも対応（分解能2nm） ・耐荷重15N ・Z軸のみ（P-611.Zx）、XYZ軸（P-611.3x）のモデルも用意 用途：干渉計測、顕微鏡、ナノポジショニング、バイオテクノロジー、マニピュレータ、フォトニクス、ファイバーポジショニング、半導体技術。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

P-561〜563シリーズは、パラレルキネマティクス構造と静電容量式センサを採用したXYZ軸動作ピエゾナノポジショナ。 動作量は、XYZ 各100／200／300 µm（モデル別）で再現性は±2nm、リニアリティ：0.03％をもちます。 開口は、66×66 mmで透過光・レーザ光路を確保します。 ダイレクト駆動タイプは、XY軸45µｍ、Ｚ軸15µｍ動作で、1000Hzの無負荷時共振周波数を持ち、高分解能で高速応答が実現します。 また、PICMAピエゾセラミックスは、オールセラミックスで絶縁されており対湿度性をもち、高信頼性、長寿命を確保します。半導体検査、超解像顕微鏡、フォトニクス調整などに最適です。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

Z軸の動作で、ひずみゲージを搭載するモデルは、ヒステリシスとドリフトを高精度に補正します。 Closed Loopタイプは、2nm分解能で、0.1％のリニアリティを実現。 摩耗ゼロのフレクシャガイドは、摩擦、摩耗、バックラッシュがなくナノレベルで動作します。 また、Ｘ軸、ＸＹ軸、ＸＺ軸、ＸＹＺ軸バージョンのステージもございます。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

P-5x8シリーズは、チップチルト付きピエゾナノステージ P-518.TCD とロングストローク版 P-528.TCD/ZCD を同一プラットフォームで展開します。 高信頼性PICMAピエゾセラミックス、フレクシャーガイド、パラレルキネマティクスと静電容量式センサで システム分解能 0.8 nm、リニアリティエラ― 0.03 %を実現。 66 × 66 mm の大開口が干渉計測や透過光アプリに適し、耐荷重50Nをもち、半導体検査・フォトニクス、顕微鏡、高精度アライメントに最適です。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

PIHera P-620.Z／P-621.Z／P-622.Zは、垂直ストローク50・100・250 µmを0.1 nm分解能で駆動するZ軸ピエゾステージです。 静電容量センサが移動プラットフォームを直接計測し、リニア誤差を0.02 %に抑制。 ゼロバックラッシのフレクシャガイドは潤滑不要・発塵レスで、1 kHz級共振周波数とサブミリ秒応答を実現します。 アクチュエータはオールセラミック絶縁PICMA(R)で1000億サイクルの長寿命を実証済み。 干渉計、共焦点顕微鏡、半導体検査などサブナノ安定性と高速性を同時に求める装置のZ制御に最適です。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

S-330ピエゾチップ／チルトプラットフォームは高速でコンパクトな チップ／チルトユニットであり、2つの直交軸を中心とした トッププラットフォームの角度の動きを正確に実現します。 【特徴】 ○分解能～20nrad、優れた位置安定性 ○光ビームの偏向～20mrad（＞1°） ○パラレル制御設計によるダイナミクス、安定性、およびリニアリティの向上 ○同一平面回転軸と固定ピボットポイントが分極回転を回避 ○サブミリセカンドの応答 ○直径最大50mmのミラー用 ○リニアリティ向上のためのクローズドループバージョン ○優れた温度安定性 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

『PIglide 直動エアベアリングシリーズ』は、磁気的にプリロードされた空気ベアリング および内蔵光学リニアエンコーダーによるリニアサーボモーター駆動です。 これらの非接触部品を組み合わせることにより、最高のパフォーマンス、品質、 製品寿命を持つ無摩擦モーションプラットフォームが実現しました。 エアベアリングステージシリーズには、「XY軸小型エアベアリングステージ」、 「XY軸大型エアベアリングステージ」、「エアベアリングロータリーステージ」などもございます。 【特長】 ■非接触完全プリロード空気ベアリング ■スキャニングまたは高分解能ポジショニングに最適 ■クリーンルームに対応 ■カスタマイズ可能 ■内蔵光学リニアエンコーダー 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

PIMag リニアモーターコントローラ『C-413』は、 PIMag ボイスコイル駆動のためのデジタルモーションコントローラです。 1モーターチャンネル、2センサーチャンネルで、 V-275およびV-275リニアアクチュエータに対応可能です。 モーター電流、速度、位置、位置誤差など移動データを 記録するデーターレコーダーなど、幅広いサポート機能が搭載されています。 また、PIMag リニアモーターコントローラには、 最大平均電流消費3Aタイプの「C-891」もございます。 【特長】 ■力×2、位置×2センサーの最大4センサーチャンネル ■構成やコマンド送信のためにTCP/IPまたはUSBインターフェイス採用 　（バージョンによる） ■コマンド送信用リアルタイムSPIインターフェイス（バージョンによる） ■オプションのアナログ入出力 ■保持電流の自動ゼロ機能 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

N-331 PICMAWalkは、ピエゾ素子のナノ分解能とステッピング動作を融合したウォーキングドライブ・リニアアクチュエータです。 動作量は、25mm、50mm、100mmタイプがあり、駆動力50N、保持力60Nをもちます。 PiezoWalk(R)ウォーキングドライブは、複数のピエゾアクチュエータが歩行運動を行い、ランナーの送り動作につながります。 アクチュエータの制御により、1ナノメートル未満の分解能で最小のステップおよびフォワードフィードモーションが可能になります。 インクリメンタルリニアエンコーダによる高精度な位置測定を行います。また、10⁻9 hPa真空対応アクチュエータも対応します。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

P-616 は、パラレルキネマティクスを採用した XYZ ピエゾナノポジショナです。 高信頼性PICMAピエゾセラミックス、フレクシャーガイド、静電容量センサを各軸に内蔵した、再現性10nm、0.4 nm システム再現性を提供します。 ファイバーの位置決めとアライメント、顕微鏡、ナノ位置決め、フォトニクス、マイクロマニピュレーションなどに最適。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。 【特長】 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

0.7kHz (1インチミラー時)の共振周波数により、ダイナミックな動きと高速なステップ&セトリングを実現。 パラレルキネマティック設計:1つの共通のピボットポイントで、2軸直交プラットフォーム ミラーなし、1/2インチミラー、1インチミラータイプ。 画像安定化、レーザービーム制御、光学通信など高速・高精度偏向が求められるアプリケーションに最適です。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

U-723はPILINE超音波ピエゾモータを採用した42x42 mm×高さ21 mmのXY軸小型リニアステージです。 小型ながら、22 mmXY軸の動作量、最大速度200mm/s。 内蔵インクリメンタルリニアエンコーダーでセンサー分解能10nm、最小動作量0.1µm、双方向再現性 ±0.2µmを実現。 電源OFF時には、2Nのセルフロック保持力で位置を保持。 アプリケーション例は、マイクロマニピュレーション、オートメーション、バイオテクノロジー、サンプル操作、サンプルポジショニング、限られたスペースでの動作。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

ナノテクノロジー分野における構造作製や評価では、ナノメートルレベルの位置決め分解能と高い再現性が求められます。P-752は、最大35 µmのストロークと最小0.1 nmの分解能（適切なコントローラ使用時）を備えたリニア・ピエゾフレクシャステージです。フレクシャガイド構造により、摩擦やバックラッシュのない滑らかな動作と高い真直度を実現します。ナノスケールでの位置決め制御が求められる研究開発用途において、安定した微小変位制御を提供します。 【活用シーン】 ・ナノ構造作製における微小位置決め ・走査型プローブ顕微鏡（SPM）のサンプル／プローブ位置制御 ・微細加工プロセスにおける精密アライメント ・ナノ材料評価・表面解析 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルの位置決め分解能 ・バックラッシュのない高再現性動作 ・微小変位制御の安定化

計測・評価分野における校正および微小位置決めでは、ナノメートルレベルの分解能と高い位置再現性が求められます。 P-752は、最大35 µmのストロークと最小0.1 nmの分解能（適切なコントローラ使用時）を備えたリニア・ピエゾフレクシャステージです。フレクシャガイド構造により、摩擦やバックラッシュのない滑らかな動作と高い真直度を実現します。 これにより、精密測定機器の校正や評価工程において、安定した微小位置決めをサポートします。 【活用シーン】 ・精密測定機器の校正・性能評価 ・光学系のアライメントおよび位置補正 ・センサー評価・材料試験における微小変位制御 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルの位置決め分解能 ・バックラッシュのない高再現性動作 ・安定した微小変位制御による測定精度の安定化

P-752は、最大35 µmのストロークと最大0.1 nm分解能を備えた高精度ピエゾナノポジショニングステージです。フレクシャガイド構造と高分解能キャパシティブセンサ（クローズドループ仕様）により、ヒステリシスの影響を抑えた高い再現性と安定性を実現します。 細胞レベルの観察や微細サンプルの操作など、ナノメートル精度が求められるバイオテクノロジー分野において、信頼性の高い位置決め性能を提供します。 【活用シーン】 ・蛍光顕微鏡・共焦点顕微鏡での精密フォーカシング ・細胞・オルガノイドのナノスケール位置制御 ・マイクロマニピュレーション ・バイオセンサー評価・ナノレベルアライメント 【導入の効果】 ・最大0.1 nm分解能による高精度位置決め ・クローズドループ制御による高い再現性と安定性 ・コンパクト設計による顕微鏡・分析装置への組込み適合性 ・高速応答による測定効率の向上

光学系の調整では、光軸や光学素子の位置を微小量で安定して制御できることが求められます。P-753 LISAは、15～38 µmのストローク（モデルによる）と最小0.1 nmの分解能（適切なコントローラ使用時）を備えたリニア・ピエゾステージです。フレクシャガイド構造により、摩擦やバックラッシュのない滑らかな動作を実現します。顕微鏡、レーザー光学系、干渉計などにおける微小位置補正やアライメント用途に適しています。 【活用シーン】 ・光学顕微鏡の対物レンズ位置調整 ・レーザービームの微調整 ・光ファイバーアライメント ・分光器のスリット位置調整 ・干渉計のミラー位置補正 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルの位置決め分解能 ・バックラッシュのない高再現性動作 ・コンパクト設計による装置組込み適性 ・微小位置補正の安定化

顕微鏡用途では、試料や光学系をナノメートルレベルで安定して位置決めできるステージが求められます。P-753 LISAは、15～38 µmのストローク（モデルによる）と最小0.1 nmの分解能（適切なコントローラ使用時）を備えたリニア・ピエゾステージです。フレクシャガイド構造により、摩擦やバックラッシュのない滑らかな動作を実現します。顕微鏡システムにおける試料の微小走査や位置補正用途に適しています。 【活用シーン】 ・顕微鏡による試料の微小走査 ・フォーカス位置の微調整 ・高分解能観察時の位置補正 マイクロ・ナノスケールでの位置決め 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルの位置決め分解能 ・バックラッシュのない高再現性動作 ・コンパクト設計による装置組込み適性 ・安定した微小変位制御

ナノテクノロジー分野では、ナノメートルレベルの分解能と高い再現性を備えた位置決め機構が求められます。P-753 LISAは、15～38 µmのストローク（モデルによる）と最小0.1 nmの分解能（適切なコントローラ使用時）を備えたリニア・ピエゾステージです。フレクシャガイド構造により、摩擦やバックラッシュのない滑らかな動作を実現します。ナノスケールでのサンプル位置調整や微小変位制御を必要とする研究開発用途に適しています。 【活用シーン】 ・走査型プローブ顕微鏡（SPM）の位置制御 ・ナノリソグラフィーにおける微小位置調整 ・微細加工プロセスの精密アライメント ・ナノ材料評価・表面解析 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルの位置決め分解能 ・バックラッシュのない高再現性動作 ・コンパクト設計による装置組込み適性 ・安定した微小変位制御

バイオテクノロジー分野における細胞観察やマイクロマニピュレーションでは、微小変位を安定して制御できる位置決めステージが求められます。P-753 LISAは、15～38 µmのストローク（モデルによる）と最小0.1 nmの分解能（適切なコントローラ使用時）を備えたコンパクトなリニア・ピエゾステージです。フレクシャガイド構造により、摩擦やバックラッシュのない滑らかな動作を実現します。顕微鏡システムへの組込みや、微小サンプルの位置調整用途において、ナノメートルレベルの位置決めをサポートします。 【活用シーン】 ・顕微鏡下でのサンプル微調整 ・細胞観察時のフォーカス・位置補正 ・マイクロマニピュレーション用途 ・バイオサンプルの精密位置決め 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルの位置決め分解能 ・バックラッシュのない高再現性動作 ・コンパクト設計による装置組込み適性

精密測定分野では、校正や微小位置補正において、ナノメートルレベルの分解能と高い再現性が求められます。P-753 LISAは、15～38 µmのストローク（モデルによる）と最小0.1 nmの分解能（適切なコントローラ使用時）を備えたリニア・ピエゾステージです。フレクシャガイド構造により、摩擦やバックラッシュのない滑らかな動作を実現します。測定器の校正工程や微小変位制御用途において、安定したナノポジショニングを提供します。 【活用シーン】 ・精密測定機器の校正 ・センサー評価における微小位置調整 ・変位・位置計測系の基準移動 ・光学式測定システムの微調整 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルの位置決め分解能 ・バックラッシュのない高再現性動作 ・微小変位制御の安定化 ・コンパクト設計による装置組込み適性

フォトニクス分野では、光学素子や光ファイバーの位置決めにおいて、ナノメートルレベルの分解能と高い再現性が求められます。P-753 LISAは、15～38 µmのストローク（モデルによる）と最小0.1 nmの分解能（適切なコントローラ使用時）を備えたコンパクトなリニア・ピエゾステージです。フレクシャガイド構造により、摩擦やバックラッシュのない滑らかな動作を実現します。光学アライメントや微小位置補正用途において、安定したナノポジショニングを提供します。 【活用シーン】 ・光ファイバーアライメント ・光ファイバーアライメント ・光学素子の微調整・位置補正 ・レーザービーム経路の精密位置決め ・フォトニックデバイス評価 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルの位置決め分解能 ・バックラッシュのない高再現性動作 ・コンパクト設計による装置組込み適性

半導体業界では、製造プロセスの微細化に伴い、高精度な位置決めが不可欠です。特に、ウェーハの検査や露光工程においては、わずかな位置ずれが製品の品質を大きく左右します。P-620.1/629.1は、これらの課題に対応し、高精度な位置決めを実現します。内臓の静電容量型センサーにより、リニアリティエラー0.02%を達成し、半導体製造における歩留まり向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査 ・露光工程 ・光学アライメント ・干渉計測 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・歩留まりの向上 ・製造プロセスの効率化 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

ナノテクノロジー分野の計測において、正確な位置決めは極めて重要です。微細構造の観察、精密な加工、高度な実験には、ナノメートルレベルの精度が求められます。位置決めの誤差は、計測結果の信頼性を損ない、研究の進捗を妨げる可能性があります。PI社の0.1nm分解能ナノポジショナは、内蔵静電容量型センサーとフレクシャガイドにより、高精度な位置決めを実現し、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・顕微鏡試料走査 ・光学アライメント ・干渉計測 【導入の効果】 ・高精度な計測データの取得 ・実験の再現性の向上 ・研究開発の効率化

バイオテクノロジー分野、特に細胞操作においては、細胞へのダメージを最小限に抑えつつ、正確な位置決めが求められます。細胞培養、顕微鏡観察、マイクロインジェクションなど、ナノレベルの精度が生命現象の解明に不可欠です。不正確な位置決めは、実験の失敗やデータの信頼性低下につながる可能性があります。PI社の0.1nm分解能ナノポジショナは、細胞操作における精密な位置決めを可能にし、研究の効率化と精度の向上に貢献します。 【活用シーン】 ・細胞培養 ・顕微鏡観察 ・マイクロインジェクション ・細胞の選別 【導入の効果】 ・細胞へのダメージを最小限に抑え、実験の成功率を向上 ・正確な位置決めにより、実験データの信頼性を向上 ・研究の効率化と、より詳細な観察を実現

半導体ウェーハ検査では、微細欠陥を安定して検出するために、高分解能なZ方向フォーカス制御と高速応答性が求められます。特に高NA対物レンズを用いた光学検査システムでは、フォーカス精度と再現性が検査結果の信頼性に直結します。P-726 PIFOC高荷重対物レンズフォーカススキャナは、最大100 µmのZストロークとサブナノメートル分解能の位置制御を実現。静電容量センサーによる直接位置フィードバックとフレクシャガイド構造により、高い線形性・繰り返し精度・長期安定性を提供。 さらに、約6msの高速セットリング性能により、Zステップ動作を伴う検査プロセスの最適化に貢献します。高荷重設計のため、高NA対物レンズや付加光学部品搭載時でも安定した動作が可能。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハ表面の光学検査におけるZフォーカス制御 ・高NA対物レンズを用いた欠陥解析装置 ・共焦点光学系を用いた三次元検査 ・レーザー・光干渉式検査装置のZスキャン 【導入の効果】 ・高精度フォーカス制御による測定安定性向上 ・高速セットリングによるZステップ時間の短縮 ・高荷重対応による光学系設計の自由度向上

バイオテクノロジー分野における細胞観察では、微小なフォーカス変動が画像品質に影響を与えます。P-726 PIFOCは、100 µmのZストロークとサブナノメートル分解能を備えた高荷重対応フォーカススキャナです。静電容量センサーによる直接位置フィードバックとフレクシャガイド構造により、高い位置決め精度と再現性を実現します。 さらに、210 g負荷時で560 Hzの共振周波数を持ち、高NA対物レンズ搭載時でも高い動的性能を維持。高速セットリング（約6ms）により、Zスタック取得やフォーカススキャンを効率化します。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡 ・超解像顕微鏡 ・ライブセルイメージング ・Zスタック取得を伴う3Dイメージング 【導入の効果】 ・高精度フォーカス制御による画像安定性向上 ・高速Z応答による測定効率改善 ・高荷重対応による光学系設計自由度向上 ・再現性の高いフォーカス位置決め

ナノテクノロジー分野の構造解析では、ナノスケールでの高精度なZ方向フォーカス制御が不可欠です。 P-726 PIFOCは、100 µmストロークとサブナノメートル分解能（約0.3 nmクラス）を実現した高荷重対応フォーカススキャナです。 静電容量センサーによる直接フィードバックとフレクシャガイド構造により、高い位置決め精度と再現性を提供。約6msの高速セットリング性能により、Zスキャンを伴うナノ構造観察や3Dイメージングの効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡によるナノ構造観察 ・超解像光学顕微鏡のZスキャン ・光学式ナノ構造解析装置 ・3Dイメージング評価装置 【導入の効果】 ・サブナノ分解能による高精度フォーカス制御 ・高速セットリングによる測定効率向上 ・高荷重対応による光学系設計自由度向上 ・長期安定動作による再現性向上

光学機器や計測装置における対物レンズのフォーカス制御では、高精度なZ位置決めと高速応答が求められます。特に対物レンズが大型・高開口数（NA）の場合、従来機構では動作レスポンスや安定性が課題となり、測定精度や観察品質に影響を及ぼす可能性があります。 P-726 PIFOC高荷重対物レンズフォーカススキャナは、最大100 µmのストロークと、静電容量センサーによる直接測定で得られる サブナノメートル分解能の高精度フォーカス制御を実現します。また、フレクシャガイド構造により摩擦・バックラッシュがなく、高荷重条件でも高い剛性と安定性を維持します。これにより、光学計測装置の精度とスループットを向上させ、測定・観察の信頼性を高めます。 【活用シーン】 ・対物レンズの精密フォーカス制御 ・共焦点顕微鏡・超解像顕微鏡のZスキャン ・3D光学イメージング装置 ・高精度光学計測装置（干渉計・オートフォーカス系） 【導入の効果】 ・高精度なZ位置制御による光学測定精度の向上 ・高速な動作レスポンスによる検査・観察時間の短縮 ・大重量レンズ対応の高荷重性能 ・長期安定性・低メンテナンス性

半導体業界では、高精度な位置決めが求められます。特に、ウェーハ検査や微細構造の計測においては、サブナノレベルの安定性と高速な制御が不可欠です。位置決めの誤差は、計測結果の信頼性を損ない、歩留まりの低下につながる可能性があります。本製品は、0.1 nmの分解能と0.02 %の直線性により、半導体計測における高精度な位置決めを実現します。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査 ・微細構造計測 ・干渉計 ・共焦点顕微鏡 【導入の効果】 ・計測精度の大幅な向上 ・歩留まりの改善 ・高速かつ高精度な位置決め ・サブナノレベルの安定性 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

ナノテクノロジー製造業界では、微細加工や精密測定において、サブナノレベルの位置決め精度が不可欠です。特に、半導体製造やMEMSデバイスの製造プロセスでは、わずかな位置ずれが製品の品質に大きな影響を与える可能性があります。P-620.Z～P-622.Zは、摩擦のないフレクシャガイドシステムとPICMAピエゾアクチュエータの組み合わせにより、高い信頼性と長寿命を実現し、製造プロセスの安定化に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体製造におけるウェーハ検査 ・MEMSデバイス製造における微細加工 ・干渉計、共焦点顕微鏡などの精密測定 【導入の効果】 ・製造プロセスの歩留まり向上 ・製品の品質向上 ・測定精度の向上 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

光学分野における位置決めは、高精度な測定や検査、微細加工において、非常に重要な要素です。特に、レンズやミラーなどの光学部品の位置調整は、システムの性能を左右する重要な課題です。従来の機械的な位置決め方法では、摩擦やバックラッシュによる精度の限界があり、高精度な位置決めが困難な場合がありました。P-517/527マルチ軸ピエゾスキャナは、ナノレベルの分解能と再現性により、光学部品の位置決めにおける課題を解決します。 【活用シーン】 ・光学検査 ・ウェハー検査 ・ナノポジショニング ・計測 ・顕微鏡 【導入の効果】 ・サブナノメートルの分解能による高精度な位置決め ・摩擦ゼロのフレクシャガイドによる安定した動作 ・静電容量センサーによる高いリニアリティ ・50 x 50mmの開口による透過光測定への対応

精密加工分野では、さらなる微細化と高品質化が進み、ナノレベルでの位置決め精度が製品性能を左右する重要な要素となっています。特にレーザ加工やマイクロパターニングでは、振動や摩擦によるわずかな誤差が加工品質に直結します。 P-517／P-527 マルチ軸ピエゾスキャナは、摩擦ゼロのフレクシャガイド一体構造を採用し、バックラッシュや摩耗を排除。PICMAピエゾセラミックと高分解能静電容量センサーにより、ナノレベルの再現性と高ダイナミクスを実現します。安定した高速応答により、微細加工における高精度な位置制御を可能にし、加工品質と歩留まり向上に貢献します。 【活用シーン】 ・レーザ微細加工装置 ・マイクロパターニング ・ウェーハ加工・検査装置 ・ナノポジショニング用途 ・精密計測・加工システム 【導入の効果】 ・ナノレベルの高精度加工制御 ・安定動作による加工品質向上 ・加工時間短縮と生産性向上 ・歩留まり改善によるコスト削減

計測分野における校正や微細位置調整では、高い再現性と安定した位置決め性能が不可欠です。特にナノスケールでの測定やアライメントでは、わずかなバックラッシュや摩擦が測定結果の信頼性に影響を与えます。 P-517／P-527 マルチ軸ピエゾスキャナは、摩擦ゼロのフレクシャガイドによる一体型構造を採用し、ヒステリシスや機械的遊びを最小化。ナノレベルの分解能と高再現性により、校正作業や精密計測の精度向上に貢献します。安定した動作特性は、長期的な測定信頼性の確保にも寄与します。 【活用シーン】 ・光学検査装置 ・ウェーハ検査・計測装置 ・ナノポジショニング用途 ・精密計測システム ・顕微鏡・走査系装置 【導入の効果】 ・高再現性による校正精度の向上 ・摩擦ゼロ構造による安定した測定環境 ・測定データの信頼性向上と品質管理強化

光学系の調整において、光軸のわずかなズレは分解能や測定精度に大きく影響します。特に干渉計や高分解能顕微鏡、精密アライメント用途では、ナノレベルでのZ制御とチップ・チルト調整が不可欠です。 P-518／P-528シリーズは、Z軸100µm／200µmストロークとチップチルト1mrad／2mradの高精度制御を実現。66mmの大開口設計により、透過光アプリケーションにも最適です。高剛性フレクシャガイド構造により安定した再現性を確保し、光学調整作業の精度向上と効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・顕微鏡の対物レンズ・サンプル調整 ・光ファイバーアライメント ・干渉計・波面計測システム ・半導体検査装置 【導入の効果】 ・ナノレベルのZ・角度調整 ・透過光光学系への柔軟な対応 ・安定した光軸維持による測定精度向上 ・調整時間短縮による作業効率改善

顕微鏡走査では、試料や対物レンズのわずかな位置ずれや傾きが、画像の解像度やコントラストに大きく影響します。特に高倍率観察や微細構造解析では、ナノメートルレベルのZ制御と角度補正、そして高い安定性が不可欠です。 P-518／P-528シリーズは、Z軸100µm／200µmストロークとチップチルト制御を組み合わせた高精度ピエゾステージです。66mmの大開口設計により透過観察にも対応。高いリニアリティと再現性により、ブレや歪みを抑えた高品質な画像取得を実現し、顕微鏡システムの性能向上に貢献します。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡 ・蛍光顕微鏡 ・走査型プローブ顕微鏡（SPM） ・細胞・ライブセル観察 ・材料／微細構造解析 【導入の効果】 ・ナノレベルの高精度Z走査 ・チップチルト補正による像の安定化 ・透過観察に対応する66mm開口 ・高分解能画像取得と再現性向上 ・研究開発効率の向上

精密測定分野では、わずかな位置ずれや角度誤差が測定結果に大きく影響します。特に微細構造の評価や透過光を用いた計測では、ナノレベルの分解能と高い安定性、さらに十分な開口径が求められます。 P-518／P-528シリーズは、Z軸ストローク100µm／200µmとチップチルト制御を組み合わせた高精度ピエゾステージです。66mmの大開口設計により透過光計測にも対応し、高いリニアリティと再現性を実現。精密測定やアライメント工程における信頼性向上に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体検査・評価装置 ・フォトニクス／光学計測 ・顕微鏡・干渉計システム ・高精度アライメント用途 【導入の効果】 ・ナノレベルでの高精度Z・角度調整 ・66mm開口による透過光計測対応 ・高い直線性と安定性による測定信頼性向上