ピーアイ・ジャパンの製品ラインアップ

P-840は、高荷重・高いプッシュフォースに対応したコンパクトなピエゾアクチュエータです。最大1000Nのプッシュフォースと最大50Nのプルフォースを備えています。 PI独自のPICMA(R)ピエゾアクチュエータを採用し、完全セラミック絶縁構造により湿度の影響やリーク電流の増加による故障リスクを低減。従来のポリマー絶縁型アクチュエータと比較して最大10倍の長寿命を実現しています。 この製品は、ポリマー絶縁がなく、キュリー温度が高いため、超高真空用に最適です。

P-841はPICMA(R)積層スタックをプリロード付金属ケースに入れたピエゾアクチュエータです。 最大90 µmの変位をナノレベルで動作し、押力1000 N／引力50 Nを発揮。 変位レンジは15〜90 µmまでバリエーションを用意。 内部ピエゾのセラミック絶縁技術がリーク電流と水分侵入を抑え、長期連続駆動でも性能を維持します。 歪みゲージ位置センサ（SGS）付きのため、ヒステリシス、ドリフトを高精度に補正します。 ファイバ・光学素子のアライメント、レーザー波長チューニング、ナノテク試験治具など高剛性と高応答が求められる用途で威力を発揮します。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

PICMA(R)多層スタックをプリロード付金属ケースに入れたP-844/P-845は、最大90 µmストロークをサブナノメートルで動作し、最大3000 Nの押力と700 Nの引力を可能にする高荷重ピエゾアクチュエータです。 P-845タイプは、歪みゲージセンサー（SGS）を内蔵し、ピエゾの動きを直接計測しフィードバックするため、ヒステリシスやドリフトを最小化にします。P-844はセンサーなしタイプ。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

P-216は、1000V駆動の高電圧型ピエゾアクチュエータで、オプションで真空対応も可能です。 ストロークは、15µm～最大180µmタイプで、4500NのPush力と500NのPull力を持ち、内部に歪みゲージセンサー内蔵し、クローズドループ制御にでナノレベル位置決めを可能にします。 用途例 ・アクティブ振動吸収 ・アダプティブメカニクス ・光学・計測技術・干渉計 ・スイッチ ・レーザーチューニングなど ドイツ本社50年以上の実績と、日本法人30年の経験で培ってきた精密制御技術をもとに、世界中の研究機関・装置メーカーに採用されるピエゾステージおよびアクチュエータを提供しています。豊富なラインアップと技術力で、お客様のニーズに最適なソリューションをご提案します。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

P-235は、1000V駆動の高電圧型ピエゾアクチュエータで、オプションで真空対応、防水対応も可能です。 ストロークは、15µm～最大180µmタイプで、30,000NのPush力と3,500NのPull力を持ち、内部に歪みゲージセンサー内蔵し、クローズドループ制御にでナノレベル位置決めを可能にします。 用途例は、アクティブ振動吸収、アダプティブメカニクス、光学・計測技術・干渉計、スイッチ、レーザーチューニングなど ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

PICMA(R)多層ピエゾアクチュエータ P-882・P-888は、セラミック絶縁構造により湿度や電解腐食に強く、温度安定性に優れています。 カスタムにより、最大200度までの耐高温度性を持たせたり、最大20 Aの大電流対応や、穴あき、円形、長方形など形状変更にも対応。 さらにUHV 10⁻⁹ hPa対応し、アウトガスがなく、高いベーク温度にも耐えられ、真空装置や極低温環境など過酷環境下でも動作。 多彩なサイズ・形状バリエーションに加え、カスタム仕様やセンサ内蔵型も選択可能です。 ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

PICA(TM) Thruアクチュエータは、積層型ピエゾリニアアクチュエータです。高い変位を特長としています。豊富な設計バリエーションも用意しておりますので、ぜひカタログから用途・特注対応についてご覧ください。 【特徴】 ・高い信頼性 ・多様な形状を用意 ・サブミリセカンドの応答性、サブナノメートルの分解能 ・真空および非磁性対応バージョンを用意

N-111は、PI独自のNEXLINEウォーキング技術を採用した組込み向けナノ位置決めアクチュエータです。 ・動作量：10 mm ・推力：50 N ・保持力：70 N（パッシブ無通電ロック） ・システム分解能：5nm　インクリメンタルリニアスケール ・オープンループ分解能：0.025nm ・速度：最大 1 mm/s（モードによる） ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

N-310 NEXACT(R) OEMミニチュアリニアモーター/アクチュエータは、小型で20mmのストロークと最大10Nの駆動力を備えています。 非接触の光学式リニアエンコーダにより、ステージ上の位置を直接かつ高精度に測定します。非直線性、機械的バックラッシュ、弾性変形の影響を受けません。 【特徴】 ・ストローク：20mm ・コンパクト設計、高いコスト効率が ・0.03nmの分解能 ・駆動力：最大10N ・分解能：最大0.03nm ※詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

U-723はPILINE超音波ピエゾモータを採用した42x42 mm×高さ21 mmのXY軸小型リニアステージです。 小型ながら、22 mmXY軸の動作量、最大速度200mm/s。 内蔵インクリメンタルリニアエンコーダーでセンサー分解能10nm、最小動作量0.1µm、双方向再現性 ±0.2µmを実現。 電源OFF時には、2Nのセルフロック保持力で位置を保持。 アプリケーション例は、マイクロマニピュレーション、オートメーション、バイオテクノロジー、サンプル操作、サンプルポジショニング、限られたスペースでの動作。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

ナノテクノロジー分野では、微細な構造の操作や位置決めにおいて、高い精度と安定性が求められます。特に、原子レベルでの操作や、微小な距離の移動が必要となる場合、従来の技術では対応が難しいことがあります。P-841は、サブナノメートルの分解能と最大90 µmのストロークを提供し、これらの課題に対応します。これにより、ナノテクノロジー研究における実験の精度向上と効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・ファイバ・光学素子のアライメント ・レーザー波長チューニング ・ナノテク試験治具 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる実験の再現性向上 ・微細構造の正確な操作 ・実験時間の短縮 ・従来のポリマー絶縁アクチュエータと比較して最大10倍の寿命

光学業界では、光ファイバーやレーザーなどの精密な調整が求められます。特に、微細な位置調整は、システムの性能を左右する重要な要素です。従来の調整方法では、調整に時間がかかったり、精度の限界がありました。P-841は、サブナノメートルの分解能とµs応答により、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・ファイバ・光学素子のアライメント ・レーザー波長チューニング 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによるシステム性能の向上 ・調整時間の短縮 ・実験の効率化

精密測定業界では、測定器の正確な較正が求められます。特に、ナノレベルの精度が要求される場合、位置決めの微細なズレが測定結果に大きな影響を与える可能性があります。P-841は、サブナノメートルの分解能と最大90µmのストロークにより、高精度な位置決めを実現し、測定器の正確な較正を支援します。 【活用シーン】 ・精密測定器の較正 ・光学素子の位置調整 ・ナノテクノロジー研究 【導入の効果】 ・高精度な測定結果の実現 ・測定器の性能向上 ・研究開発の効率化

半導体製造業界では、ウェーハやマスクの位置決めなど、極めて高い精度が求められます。微細加工技術の進歩に伴い、位置決めの精度は製品の品質を左右する重要な要素となっています。従来の技術では対応が難しい、サブナノレベルでの精密な位置決めが、歩留まり向上、製造プロセスの効率化に不可欠です。 【活用シーン】 ・ウェーハプロービング ・マスクアライメント ・半導体製造装置 【導入の効果】 ・サブナノメートルレベルの高精度な位置決め ・製造プロセスの効率化 ・歩留まりの向上

光学分野では、高精度な位置決めと微調整が求められます。特に、レンズやミラーの位置調整は、光学系の性能を左右する重要な要素です。わずかなズレが、画像品質の低下や測定精度の悪化につながる可能性があります。多層PICMA(R)ピエゾアクチュエータ P-882・P-888は、サブナノメートルの分解能と超高剛性により、光学系の精密な位置決めと微調整を実現します。 【活用シーン】 ・光学系の波面補正 ・レンズ・ミラーの微調整 ・干渉計用参照ミラー制御 ・レーザー光学系の安定化 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる、光学性能の向上 ・サブナノメートル分解能による、微細な調整 ・長寿命と高い信頼性 ・過酷な環境下での安定動作

ライフサイエンス分野では、細胞・組織・微小試料を対象とした高精度な操作や計測が求められます。特に、顕微鏡下での微細操作や計測系では、わずかな位置誤差や振動が実験結果の再現性や信頼性に影響を与えます。PICMA積層ピエゾアクチュエータ P-882・P-888は、サブナノメートル分解能と超高剛性により、安定した精密制御を実現し、ライフサイエンス研究を強力にサポートします。 【活用シーン】 ・顕微鏡下での細胞・試料の精密操作 ・マイクロマニピュレーターやステージ制御 ・バイオ計測・干渉計システムへの組み込み 【導入の効果】 ・実験・計測の再現性向上 ・微細操作の安定化 ・研究効率の向上

顕微鏡の分野では、観察対象を高精度にフォーカスすることが、鮮明な画像を得るために不可欠です。特に、高倍率での観察や、動的な観察においては、ピントの微調整が重要になります。ピントがずれると、観察対象の詳細を見ることができず、正確な分析や研究の妨げになります。PICMA(R)多層ピエゾアクチュエータ P-882・P-888は、サブナノメートルの分解能と超高剛性により、顕微鏡のフォーカス制御を精密に行い、鮮明な画像を提供します。 【活用シーン】 ・顕微鏡のフォーカス調整 ・細胞観察 ・材料分析 ・半導体検査 【導入の効果】 ・高精度なフォーカス制御による鮮明な画像取得 ・観察時間の短縮 ・研究・分析の効率化

精密測定の分野では、ナノレベルの精度が求められる測定や、過酷な環境下での測定が不可欠です。温度変化や振動、真空環境下など、様々な外的要因が測定精度に影響を与えるため、安定した動作と高い耐久性が重要になります。PICMA(R)多層ピエゾアクチュエータ P-882・P-888は、これらの課題に対し、高い剛性と耐環境性能で応えます。 【活用シーン】 ・走査型プローブ顕微鏡（SPM） ・半導体製造装置 ・光学素子の精密位置決め 【導入の効果】 ・サブナノメートルの分解能による高精度な位置決め ・過酷な環境下での安定した動作 ・長寿命化によるメンテナンスコスト削減

ナノテクノロジー分野では、ナノスケールでの精密な操作が求められます。特に、原子レベルでの物質の操作や、微細構造の製造においては、正確な位置決めと安定した動作が不可欠です。従来の技術では、環境変化による影響を受けやすく、精度の維持が難しいという課題がありました。多層PICMA(R)ピエゾアクチュエータ P-882・P-888は、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・走査型プローブ顕微鏡（SPM） ・ナノインデンテーション ・微細加工 ・光学系の精密調整 ・半導体製造装置 【導入の効果】 ・サブナノメートルの分解能による高精度な操作 ・過酷な環境下での安定した動作 ・長寿命化によるメンテナンスコストの削減 ・多様な形状とカスタム対応による柔軟なシステム構築 ・高スループット化の実現

光学システムにおけるレンズ位置の精密調整は、性能を左右する重要な要素です。特に高精度な位置決めが求められる用途では、わずかなズレが画像品質や測定精度に大きな影響を与える可能性があります。PICMA技術を採用したサブナノメートルクラスの分解能と高い力性能を備え、高速応答（µsオーダー）と高い信頼性により、レンズなどの精密位置制御を実現します。 【活用シーン】 ・顕微鏡用精密位置調整 ・光学測定装置のアラインメント ・レーザー光学系チューニング ・光通信・フォトニクス機器の微小位置決め（ナノポジショニング全般） 【導入の効果】 ・光学性能の向上：微小位置調整による最適焦点・高解像度化 ・高速・高精度位置決め：サブナノ調整とµs応答でプロセス改善 ・信頼性向上：PICMA技術による長寿命化と安定稼働 ・幅広い用途対応：微細調整から高荷重ポジショニングまで対応

製造業の分野では、高荷重・高精度・高速応答が求められます。最大90 µmのストロークとサブナノメートル分解能により、微細位置決めや高精度制御が必要な工程で安定した動作を実現します。また、PICMAピエゾ素子を採用することで、長寿命かつ信頼性の高い性能を提供します。これにより、製品品質の向上やプロセスの効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体製造工程での精密位置決め ・光ファイバやレーザー光学系の高精度アライメント ・MEMS・微細デバイス製造での微小動作制御 ・高精度組み立て・検査装置の駆動部 【導入の効果】 ・サブナノメートル精度による高精度位置決め ・高荷重対応（最大押力3000 N / 引張力700 N）による頑健な動作 ・マイクロ秒応答による高速制御 ・長寿命で信頼性の高い駆動特性

精密測定分野では、高精度な位置決めと安定した動作が測定精度を左右します。特にナノレベルの測定や校正作業では、微小な位置制御が可能なアクチュエータが不可欠です。位置決め精度が不十分な場合、測定結果や校正データの信頼性に影響を与える可能性があります。 P-216 ピエゾアクチュエータは、サブナノメートル分解能と最大4500 Nの高推力を兼ね備えた高荷重対応アクチュエータです。高速応答により、干渉計測や精密測定装置における微小位置制御を高精度に実現します。 【活用シーン】 ・精密測定器の校正 ・光学系の微調整 ・干渉計測 【導入の効果】 ・ナノレベルでの精密な位置決め ・校正精度の向上 ・作業時間の短縮

ナノテクノロジー分野では、ナノレベルの位置制御と微小な動作制御が求められます。特に原子・分子レベルの観察や微細構造の操作では、アクチュエータの分解能や応答性能が研究成果に大きく影響します。 P-216 ピエゾアクチュエータは、サブナノメートル分解能と最大4500 Nの高推力を兼ね備えた高荷重対応ピエゾアクチュエータです。高速応答により、ナノスケールの位置決めや微細動作制御を高精度に実現します。ナノ計測装置やナノ加工装置において、精密な動作制御と安定した操作をサポートします。 【活用シーン】 ・走査型プローブ顕微鏡（SPM） ・ナノインデンテーション ・微細加工 【導入の効果】 ・ナノレベルでの精密な位置決めが可能 ・高精度な操作による実験効率の向上 ・研究開発における新たな可能性の創出

光学機器のレンズ調整では、高精度な位置決めと安定した動作が求められます。特に光軸の微調整や焦点距離の制御では、わずかな位置ズレが画像品質や測定精度に大きく影響します。 P-235 ピエゾアクチュエータは、最大30,000Nの高推力と高い剛性を備えた高荷重対応ピエゾアクチュエータです。内部に歪みゲージセンサーを搭載したモデルではクローズドループ制御が可能で、ナノレベルの高精度位置決めを実現します。光学レンズ調整や干渉計測など、高精度な位置制御が求められる光学システムに適しています。 【活用シーン】 ・レンズの光軸調整 ・焦点距離の微調整 ・光学顕微鏡 ・干渉計 【導入の効果】 ・ナノレベルでの高精度な位置決め ・光学系の性能向上 ・実験・研究の効率化 ・高精度な測定の実現

研究開発分野の実験では、精密な位置決めと高負荷条件への対応が求められます。特に光学実験や材料試験など、微細な動きが結果を左右する場面では、ナノレベルの位置制御が重要となります。 P-235 ピエゾアクチュエータは、最大30,000Nの推力と3,500Nの引張力を備えた高荷重対応アクチュエータです。歪みゲージセンサー内蔵モデルではクローズドループ制御が可能で、ナノレベルの高精度位置決めを実現します。これにより、研究開発における実験の再現性向上と高精度なデータ取得に貢献します。 【活用シーン】 ・アクティブ振動吸収 ・アダプティブメカニクス ・光学・計測技術・干渉計 ・スイッチ ・レーザーチューニング 【導入の効果】 ・ナノレベルでの精密な位置決めが可能 ・高負荷条件下での実験に対応 ・実験の再現性向上 ・より正確なデータ取得

半導体製造装置や検査装置では、ナノメートルレベルの高精度位置決めが製品品質や歩留まりに大きく影響します。特に、微細加工、ウェハ検査、計測工程では、わずかな位置決め誤差がデバイス性能の低下や不良の原因となる可能性があります。 N-111は、PI独自のNEXLINE(R) PiezoWalk(R) ウォーキングドライブ技術を採用したリニアアクチュエータです。長ストロークでありながらナノレベルの高分解能を実現し、半導体製造装置や精密検査装置における高精度位置決めを可能にします。 【活用シーン】 ・半導体製造装置 ・ウェハ検査装置 ・ナノ計測装置 ・微細加工装置 ・精密位置決め用途 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・歩留まりの向上 ・生産性の向上

光通信分野では、光ファイバー結合や自由空間光通信において、ビームの角度制御精度と応答速度が通信品質を左右します。わずかなズレや振動でも結合効率の低下やリンク不安定化につながるため、高速かつ高分解能な補正機構が不可欠です。 S-331は、最大10 kHzの高い共振周波数と±5 mradの動作角を備えた2軸Tip/Tiltピエゾステージです。優れたダイナミクス性能によりリアルタイムなビーム補正を実現し、光信号の安定化と高効率な結合をサポート。次世代光通信システムの高信頼化に貢献します。 【活用シーン】 ・光ファイバー高精度アライメント ・自由空間光通信（FSO） ・レーザービームステアリング ・光リンクの安定化制御 【導入の効果】 ・高速・高精度なビーム角度制御 ・結合効率の向上と損失低減 ・リアルタイム補正による通信安定化 ・システム全体の性能向上

レーザー加工では、ビームの角度や位置のわずかな変動が、加工精度や仕上がり品質に直結します。特に微細加工や高速スキャニング工程では、高速応答性と高分解能を兼ね備えたビーム制御機構が不可欠です。 S-331は、最大10 kHzの高い共振周波数と±5 mradの動作角を備えた高速Tip/Tiltピエゾステージです。優れたダイナミクス性能によりリアルタイムでのビーム補正を実現し、焦点ずれや加工ムラを低減。高精度かつ安定したレーザー加工プロセスの構築に貢献します。 【活用シーン】 ・レーザービームの高速ステアリング ・微細穴あけ／溝加工などの精密加工 ・加工中のリアルタイムビーム補正 ・高精度アライメント制御 【導入の効果】 ・加工精度と再現性の向上 ・高速応答による加工効率の改善 ・加工ムラ低減と歩留まり向上 ・装置性能の高度化

光学業界では、レンズやミラーなどの精密な位置調整が、システムの性能を左右します。特に、微小な調整が求められる場面では、高精度な位置決め能力が不可欠です。調整の精度が低いと、光軸のずれや焦点のズレが生じ、システムの性能低下につながります。U-723は、小型ながら22mmの動作量と10nmの分解能を実現し、光学系の精密な位置調整を可能にします。 【活用シーン】 ・顕微鏡の対物レンズ調整 ・レーザー加工機の光軸調整 ・光学測定器のサンプル位置決め 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる光学性能の向上 ・省スペース化による装置全体の小型化 ・電源OFF時の位置保持による安全性の向上

顕微鏡の分野では、サンプルの精密な位置決めが不可欠です。特に、微小な対象を観察する際には、わずかな振動や位置ずれが、観察結果に大きな影響を与える可能性があります。U-723は、高精度な位置決め性能と、電源OFF時のセルフロック機構により、顕微鏡におけるサンプルの安定した位置合わせに貢献します。 【活用シーン】 ・顕微鏡のサンプル位置決めステージ 【導入の効果】 ・高精度な試料位置決めによる、観察精度の向上 ・ピエゾモーターの駆動原理および電気的制御は低コストで、カスタマイズも可能 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

光学業界におけるビーム制御では、光の精密な位置決めと安定性が求められます。特に、レーザー加工や光通信といった分野では、微小なズレがシステムの性能に大きな影響を与える可能性があります。PICA(TM) Thruアクチュエータは、サブミリ秒の応答速度とサブナノメートルの分解能により、高精度なビーム制御を実現します。性能劣化のない状態で長期間の使用が可能です。 【活用シーン】 ・レーザー加工におけるビーム位置制御 ・光通信システムの光ファイバーアライメント ・顕微鏡の対物レンズ位置調整 【導入の効果】 ・ビーム位置決め精度の向上 ・システムの安定性向上 ・生産性の向上