ピーアイ・ジャパンの製品ラインアップ

PIglide IS A-311は、ステージ駆動面を空気で浮上させるエアベアリング式XYプラナースキャナーです。 積み重ね型より薄いフラット構造で装置設計をコンパクト化しながら、300 mm×400 mmの広い走査範囲と1 nmセンサー分解能で動作。 摩擦ゼロのリニアモータ駆動は最大2 m/sの高速応答、147 N可搬能力によりレーザー加工や半導体ウェハ検査のタクト短縮に貢献します。 発塵レス構造でクリーンルーム対応、豊富なコントローラ／APIがXY同期やエリアスキャンの統合を容易にします。 詳細は PDF をダウンロード、またはお問い合わせください。

A-143 PIglideは、25 mmの移動範囲を持つ小型リニアエアベアリングステージで、非接触構造により摩耗や潤滑の必要がなく、長寿命かつクリーンルーム対応を実現。 最小インクリメント0.025 µm、位置精度±0.2 µm、真直度±0.05 µmとナノメートルレベルの精度を誇り、計測・検査・光学機器のステージングに最適。 リニアモーターと32ビットBiSS-Cエンコーダを内蔵し、最大速度390 mm/s、加速度10 m/s²の高性能モーションが可能です。

エアベアリング回転ステージは、エア浮上ガイドのため一般的な メカニカルガイドによる摩擦や部品精度の影響を受けません。 そのためスティックスリップ、摩擦熱がなく、高速駆動で、 高い平坦度＆わずかな偏芯のため、非常に高精度位置決めが可能です。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

A-65x PIglide HBは、半球形エアベアリングを採用した高精度モーションモジュールです。エアベアリングによる非接触支持構造により摩擦が発生せず、3軸（θX・θY・θZ）方向の回転運動を極めて滑らかに実現します。 高い剛性と耐荷重性能を持ちながら低慣性を実現しており、研究用途から産業用途まで幅広いポジショニングおよびシミュレーション用途に対応します。 また、パーティクルを発生しない構造のためクリーンルーム環境でも使用可能で、光学アライメントや精密接触装置、宇宙関連研究などの高度なアプリケーションに適しています。

光学レンズ研磨・加工分野では、レンズの形状精度や表面品質が最終的な光学性能を大きく左右するため、極めて高い位置決め精度と安定性が求められます。特に研磨や表面加工工程では、わずかな振動や摺動摩擦が加工精度や再現性に影響を及ぼす可能性があります。 PIglide IS A-311 は、エアベアリングによる非接触支持とリニアモータ駆動を採用した高精度XYステージです。機械的摩擦やスティックスリップを排除することで、滑らかで安定した平面動作を実現し、光学用途に求められる高い位置決め精度と繰り返し性を支えます。 光学レンズの研磨工程や、精密な表面加工・評価工程において、加工品質の安定化やプロセス再現性の向上に貢献します。また、エアベアリング構造により発塵を抑えられるため、クリーンルーム環境での使用にも適しています。 【活用シーン】 ・レンズ研磨工程 ・高精度な表面加工が必要な場面 ・クリーンルーム環境での使用 【導入の効果】 ・高精度な研磨を実現 ・タクトタイムの短縮 ・製品の品質向上

半導体業界では、ウェーハの品質管理と歩留まり向上のため、高精度な検査が不可欠です。特に、微細な欠陥や異物の検出は、製品の信頼性を左右する重要な要素となります。従来の検査方法では、検査速度や分解能に限界があり、タクトタイムの増加や検査精度の低下を招く可能性がありました。PIglide IS A-311は、エアベアリングとリニアモータの組み合わせにより、高速かつ高精度なウェーハ検査を実現し、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・ウェーハ表面の異物検査 ・パターン寸法測定 ・欠陥検出 【導入の効果】 ・検査時間の短縮 ・検査精度の向上 ・歩留まりの改善

電子部品業界の基板検査や部品検査では、高い位置決め精度と高速なスキャン動作が求められます。特に、微細化が進む電子部品の検査においては、安定した繰り返し精度と滑らかな走行性能が、検査品質や処理能力に大きく影響します。 PIglide IS A-311 は、エアベアリングによる非接触支持とリニアモータ駆動を採用した高精度XYステージです。機械的摩耗やスティックスリップを排除することで、高速かつ滑らかなスキャン動作を実現し、基板検査やウェハ検査における検査時間の短縮と精度の安定化に貢献します。 【活用シーン】 ・基板検査 ・ウェハ検査・電子部品検査 ・レーザー加工・マーキング工程 【導入の効果】 ・高速スキャンによる検査時間の短縮 ・安定した位置決めによる検査精度の向上 ・検査プロセスの効率化・再現性向上

半導体製造業界では、高精度な位置決めが歩留まりと製品品質を左右する重要な要素です。特に、ウェーハの検査や露光工程においては、ナノメートル単位の正確な位置決めが求められます。従来の回転ステージでは、摩擦による微小なブレや偏心が発生し、これが品質低下の原因となる可能性があります。PIglide A-62xシリーズは、摩擦のないエアベアリング技術により、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査 ・露光装置 ・精密測定 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる歩留まり向上 ・製品品質の安定化 ・生産性の向上

計測機器業界の校正作業では、測定結果の正確性と再現性が重要です。特に回転角度の校正では、ステージの回転精度や安定性が測定結果に直結します。エアベアリング回転ステージ PIglide A-62x は、摩擦のない非接触回転により、低ワブルで滑らかな回転動作を実現し、高精度な角度校正を支えます。 【活用シーン】 ・角度測定器の校正 ・回転角度センサーの校正 ・光学系の調整 【導入の効果】 ・高精度な校正作業の実現 ・測定結果の信頼性向上 ・作業効率の向上

光学業界では、レンズやミラーなどの光学素子の精密な位置調整が、システムの性能を左右する重要な要素です。特に、高精度な光学検査やアライメントにおいては、微小な角度や位置のずれが、測定結果に大きな影響を与える可能性があります。エアベアリング回転ステージ PIglideA-62x高精度モデルは、摩擦のない非接触回転により、ウォブルや偏心を極限まで抑制し、平面度・偏心率200nm以下を実現します。これにより、光学素子の精密な位置調整を可能にし、高精度な光学検査やアライメントをサポートします。 【活用シーン】 ・光学レンズやミラーの角度調整 ・光学素子の精密アライメント ・光学検査システムの構築 【導入の効果】 ・ナノメートル単位の精密な位置決めが可能 ・高精度な光学測定を実現 ・システムの性能向上に貢献

光学業界のアライメント工程では、レンズやミラーなどの光学部品を超精密に位置決めすることが求められます。特に、光軸のずれは、システムの性能を大きく左右するため、高精度な位置決めが不可欠です。従来の摩擦を利用したステージでは、微小な動きの際に摩擦の影響を受け、正確な位置決めが困難でした。PIglide A-121は、摩擦やバックラッシュを排除し、ナノメートル単位の精度で位置決めを実現することで、光学アライメントの課題を解決します。 【活用シーン】 ・光学レンズのアライメント ・ファイバーアライメント ・光ファイバーデバイスの製造 【導入の効果】 ・高精度なアライメントによる光学性能の向上 ・歩留まりの向上 ・生産性の向上

半導体製造業界では、高精度な位置決めが製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細加工や検査工程においては、ナノメートル単位の正確な位置決めが求められます。従来の摩擦を伴うステージでは、摩耗やバックラッシュによる精度の劣化が課題となっていました。PIglide A-121は、磁気ダイレクトドライブとエアベアリング技術を融合し、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・半導体検査装置 ・精密測定装置 ・微細加工 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・非接触構造による長寿命化 ・メンテナンスコストの削減

FPD製造業界の検査工程では、高精度な位置決めが求められます。特に、微細な欠陥の検出や寸法測定においては、正確な位置決めが不良品の発生を抑制し、歩留まり向上に不可欠です。位置精度の低いステージを使用した場合、検査結果の信頼性が損なわれ、正確な評価が困難になる可能性があります。A-143 PIglideは、±0.2 µmの高精度位置決めにより、FPD検査の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・FPDの欠陥検査 ・寸法測定 ・位置合わせ 【導入の効果】 ・検査精度向上 ・不良品率の低減 ・生産性の向上

レーザー加工業界では、高品質な切断を実現するために、ワークの位置決め精度が重要です。特に、微細加工や高精度な切断が求められる場合、位置決め誤差は製品の品質に直接影響します。A-143 小型リニアエアベアリングステージは、±0.2 µmの位置精度により、レーザー加工における位置決め精度を格段に向上させ、高品質な切断を可能にします。 【活用シーン】 ・レーザーカッター ・レーザーマーキング 【導入の効果】 ・高精度な切断による製品品質の向上 ・歩留まりの向上 ・加工時間の短縮

PIglide A-62xシリーズは、光学アライメントや精密検査用途に求められる高精度・高安定性を追求したエアベアリング回転ステージです。 摩擦のない非接触回転により、ウォブルや偏心を極限まで抑制。平面度・偏心率は200nm以下と、ナノメートル単位の制御を実現します。 トルクモーターとオプションの絶対値エンコーダにより、位置決めも迅速かつ安全。クリーンルーム対応、水平・垂直どちらの設置にも対応し、実験環境に応じた柔軟なシステム構築が可能です。

PIglide A-121は、磁気ダイレクトドライブとエアベアリング技術を融合した直動リニアステージです。 摩擦やバックラッシュが一切なく、優れた真直度（最大±50nm）と繰返し精度（最大±10nm）を実現します。 非接触構造により長寿命でメンテナンスも最小限。 最大行程500mm、最大速度500mm/sまで対応。高精度な位置決めや速度制御が求められる半導体検査装置や精密測定装置に理想的な構成です。

A-142は、10mmの移動範囲で最大200mm/sの速度と10m/s²の加速度を実現する、ボイスコイルモータ駆動の小型リニアステージです。 5nmのセンサ分解能、±0.2µmの位置精度、最小50nmのインクリメンタル動作が可能。 摩耗ゼロのエアベアリング構造により、潤滑剤不要・クリーンルーム対応で、半導体検査や光学調整、計測アプリケーションに最適です。

『PIglide 直動エアベアリングシリーズ』は、磁気的にプリロードされた空気ベアリング および内蔵光学リニアエンコーダーによるリニアサーボモーター駆動です。 これらの非接触部品を組み合わせることにより、最高のパフォーマンス、品質、 製品寿命を持つ無摩擦モーションプラットフォームが実現しました。 エアベアリングステージシリーズには、「XY軸小型エアベアリングステージ」、 「XY軸大型エアベアリングステージ」、「エアベアリングロータリーステージ」などもございます。 【特長】 ■非接触完全プリロード空気ベアリング ■スキャニングまたは高分解能ポジショニングに最適 ■クリーンルームに対応 ■カスタマイズ可能 ■内蔵光学リニアエンコーダー 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

A-60x PIglide RTは、非接触のエアベアリング技術を採用した高精度回転モジュールです。摩擦が発生しない構造のため、スティックスリップやブレークアウェイトルクがなく、極めて滑らかな回転運動を実現します。 偏心・平面度は200nm以下の高精度性能を持ち、高剛性設計により精密計測や光学アライメントなどの用途に最適です。さらに潤滑油を使用しないためメンテナンス不要で、パーティクル発生がなくクリーンルーム環境でも使用できます。 モーターやエンコーダと組み合わせることで、高精度回転ステージとして柔軟なシステム構築が可能です。

本製品は、最大260mmの開口を備えた薄型設計の高精度エアベアリング回転ステージです。 エア浮上ガイドを採用しているため、一般的なメカニカルガイドのような摩擦や部品精度の影響を受けません。 そのため、スティックスリップや摩擦熱が発生せず、高速駆動と高い回転精度を実現します。 さらに、優れた平面度とわずかな偏心により、高精度な回転位置決めが可能です。 特長： ・大開口260mm、厚さ113mmの薄型設計 ・エアベアリングによる無摩擦回転 ・高い平面度と低偏心による高精度位置決め ・インクリメンタル／アブソリュートエンコーダ対応 ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

精密測定の分野では、高精度な位置決めが不可欠です。特に、微細な構造の計測や検査においては、わずかな振動や誤差が測定結果に大きな影響を与えます。A-143 PIglideは、非接触構造により摩耗や潤滑の必要がなく、長寿命かつクリーンルーム対応を実現し、ナノメートルレベルの精度が求められる計測用途に最適です。 【活用シーン】 ・精密測定機器 ・検査装置 ・光学機器 【導入の効果】 ・高精度な測定結果の実現 ・安定した計測環境の構築 ・長期的な運用コストの削減

半導体製造業界では、ウェーハやマスクなどの精密な位置決めが、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細加工や検査工程においては、ナノメートルレベルの精度が求められます。位置決めの精度が低いと、不良品の発生や生産効率の低下につながる可能性があります。A-143 高精度リニアエアベアリングステージは、非接触構造により摩耗や潤滑の必要がなく、長寿命かつクリーンルーム対応を実現し、半導体製造における高精度な位置決めニーズに応えます。 【活用シーン】 ・半導体製造装置 ・検査装置 ・計測機器 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・非接触構造による長寿命化 ・クリーンルーム対応による高い信頼性

光学機器業界では、レンズやミラーなどの精密な調整が、製品の性能を左右する重要な要素です。特に、微細な位置調整が求められる場面では、精度の高いステージングシステムが不可欠です。調整の精度が低いと、光学系の性能が低下し、最終的な製品の品質に悪影響を及ぼす可能性があります。A-143 PIglideは、ナノメートルレベルの精度で位置決めを行い、光学機器の調整作業を効率化します。 【活用シーン】 ・光学レンズの位置調整 ・精密測定器のキャリブレーション ・光ファイバーアライメント 【導入の効果】 ・高精度な調整作業の実現 ・作業時間の短縮 ・製品品質の向上

光学システムの調整では、光軸の精密な位置決めや角度調整が重要な要素となります。レンズやミラーなどの光学素子は、わずかな位置や角度のずれでも、システム全体の性能に大きな影響を与える可能性があります。 A-68x エアベアリング回転ステージは、エア浮上ガイドを採用した高精度回転ステージです。従来のメカニカルガイドのような摩擦の影響を受けにくく、スティックスリップや摩擦熱を抑制。滑らかで安定した回転動作により、高精度な角度位置決めを実現します。 これにより、光学系のアライメント作業の効率化と、光学システムの性能向上に貢献します。 【活用シーン】 ・レンズやミラーの角度調整 ・光学素子の位置合わせ ・光ファイバーのアライメント ・光学測定・検査装置 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる光学性能の向上 ・滑らかな回転動作による調整作業の効率化 ・非接触構造による長期的な安定性 ・低摩耗・低メンテナンス設計

■Performance 1：サーボモータとボールねじステージ構成 ■Performance 2：高精度向け、サーボモータとボールねじ駆動ステージ構成 ■Performance 3：高速・高精度向け、リニアモーターステージ構成 Z軸は、保持ブレーキ付きタイプで対応します。 ACSベースG-901コントローラはモーション＋I/O＋安全機能を統合し、装置PLCとのEtherCAT(R)接続を即完了。 レーザー加工、超短パルスレーザー加工、テストや精密検査、電子機器製造に最適。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

研究開発分野の実験では、高精度な位置決めと安定した動作制御が求められます。特に微細な調整や高い繰り返し精度が必要な実験では、モーションシステムの性能が実験結果や再現性に大きく影響します。 多軸モーションシステム X-417 は、高荷重リニアステージによる XY位置決めシステムをベースに、用途に応じて軸構成を自由に選択できる統合モーションプラットフォームです。サーボモータ＋ボールねじステージ、またはリニアモーターステージを選択でき、Z軸の追加など柔軟なシステム構成に対応します。高精度な位置決め性能と安定した制御により、研究開発における実験装置や試験システムの構築をサポートします。 【活用シーン】 ・レーザー加工実験 ・超短パルスレーザー加工 ・試験・評価装置 ・精密検査 ・電子機器製造プロセス研究 【導入の効果】 ・高精度位置決めによる実験の再現性向上 ・柔軟な軸構成による装置設計の自由度向上 ・EtherCAT(R)対応コントローラによるシステム統合の容易化 ・Z軸保持ブレーキ対応による安全性向上

光学分野では、レンズやミラーなどの光学素子の精密な位置調整が、システム性能を大きく左右します。特に、高精度位置決めやスキャン用途においては、わずかな振動や摩擦が測定結果や画像品質に影響を与える可能性があります。 PIglide直動エアベアリングステージ「A-110」は、非接触エアベアリングと磁気リニアモータ、光学式リニアエンコーダを搭載。摩擦のない滑らかな動作により、高い位置決め精度と優れた再現性を実現します。また、パーティクルを発生しないため、クリーンルーム環境での光学用途にも最適です。さらに、最大400 mmの長ストロークに対応し、広範囲の高精度スキャンにも対応します。 【活用シーン】 ・顕微鏡 ・分光器 ・レーザー加工機 ・光学測定器 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる測定精度の向上 ・調整時間の短縮 ・製品品質の向上

計測業界における校正作業では、測定器の正確な位置決めが不可欠です。特に、微細な動きが求められる校正作業においては、ステージの精度が校正結果に大きく影響します。不正確な位置決めは、校正精度の低下や誤った測定結果につながる可能性があります。PIglide 直動エアベアリングステージ『A-110』は、高精度な位置決めと滑らかな動きを実現し、校正作業の精度向上に貢献します。 【活用シーン】 ・精密測定器の校正 ・基準器の校正 ・検査装置の校正 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる校正精度の向上 ・滑らかな動きによる作業効率の向上 ・クリーンルーム対応による環境への適合

PI社は、エアベリング位置決め製品を拡充しています！ パラレルキネマティック方式設計による 「A-523型：エアベアリング　Z軸、チップ/チルトの3軸駆動ステージ」をリリースしました。 薄型設計で3軸の超高精度位置決めを実現 摩擦のないモーションプラットフォーム 最高の性能、品質、寿命を提供 【特徴】 ・トラベルレンジ： Z軸±2.5 mm、θX, θY軸 ±1° ・耐荷重：8 kg ・プラットフォーム：直径 250 mm ・高さ：60 mm ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

半導体製造業界では、ウェーハやマスクなどの精密な位置決めが、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細加工や検査工程においては、ナノレベルの位置精度が求められます。振動や熱の影響を受けやすい環境下では、安定した位置決め性能が不可欠です。当社の薄型エアベアリング Z Tip/Tilt ステージは、3軸の超高精度位置決めを実現し、半導体製造における位置決め精度と生産性の向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハプロービング ・マスクアライメント ・微細加工 ・検査工程 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・摩擦のないモーションプラットフォームによる高い耐久性 ・薄型設計による装置の小型化 ・3軸動作による柔軟な対応

精密加工業界では、微細加工における高精度な位置決めが、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細な部品の組み立てや検査においては、ナノレベルの位置精度が求められます。従来のステージでは、設置スペースの制約や、微細な振動による精度の低下が課題となっていました。当社の薄型エアベアリング Z Tip/Tilt ステージは、これらの課題を解決し、精密加工の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・微細加工における位置決め ・精密部品の組み立て ・検査工程 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・薄型設計による省スペース化 ・摩擦のないスムーズな動作による製品寿命の向上

・幅132 mm、高さ94mmのコンパクト筐体 ・動作量：400mm、800mmの2タイプ ・コアレスリニアモータ駆動で、最大速度：5000mm/s ・インクリメンタルとアブソリュートエンコーダータイプ：最小動作量は0.1µm ・耐荷重は1000Nあり、”V-857.TTｘ”モーションプラットフォームを用いて固定 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

電子部品実装業界では、生産性の向上と品質の向上が求められています。特に、高速な部品のピックアンドプレースや、高精度な位置決めが、生産効率を左右する重要な要素です。従来のステージでは、速度や精度に限界があり、生産性のボトルネックとなることがありました。当社の132 mm幅薄型高速リニアモーターステージ V-857は、高速・高精度な位置決めを実現し、電子部品実装の高速化に貢献します。 【活用シーン】 ・高速な部品実装 ・高精度な位置決めが必要な工程 ・小型・軽量化が求められる装置 【導入の効果】 ・生産性の向上 ・品質の向上 ・装置の小型化