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ピーアイ・ジャパン株式会社

設立日本法人:1991年 ドイツ本社:1977年
住所神奈川県川崎市幸区堀川町580番地 ソリッドスクエア西館17F
電話044-280-7676
  • 特設サイト
  • 公式サイト
最終更新日:2026/03/05
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リニアアクチュエータ リニアアクチュエータ
ピエゾドライブ ピエゾドライブ
ヘキサポッド ヘキサポッド
モータライズドポジショニング モータライズドポジショニング
電動モーター

電動モーター

電動モーターは、ボイスコイル、リニアモーター、トルクモーターなどの電磁ダイレクトドライブにより、機械的伝達機構を介さずに負荷を直接駆動する高精度駆動技術です。高い力密度と高速応答を特長とし、精密位置決めや高ダイナミクス制御を実現します。

小型設計・高分解能・高速動作 1軸リニアステージ L-836

60 mm幅・最大動作量200 mm、オプションで折返し駆動タイプ、保持ブレーキタイプ

動作量は、25〜200 mmまで6種をラインアップ ・2相ステッピングモーター駆動で、精密ボールねじ、循環ボールベアリング内蔵 ・最大速度:80mm/s ・最小動作量:0.3µm~、再現性:2µm~ ・耐荷重:150N ・折り畳み駆動タイプは、設置面積を削減 ・垂直動作用に保持ブレーキ付モデル ・リニアエンコーダ(オプション) ・XY軸、XYZ軸などにも拡張可能 レーザー加工、試験・検査、電子機器製造、光ケーブル製造、光学アセンブリ、シリコンフォトニクスなどに好適。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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【レーザー加工向け】高精度1軸リニアステージ L-836

レーザー切断・レーザー加工に最適な高精度位置決めステージ

レーザー加工では、切断位置や照射位置の精度が製品品質や加工効率に大きく影響します。特に精密加工や微細加工では、わずかな位置ずれが切断不良や材料ロスにつながる可能性があります。 L-836は、コンパクト設計ながら高精度な位置決めを実現するリニアステージです。精密ボールねじと高精度リニアガイドを採用し、レーザー加工装置における安定した位置決めと高い再現性を提供します。レーザー切断装置や精密加工装置の位置決め用途に適しています。 【活用シーン】 ・レーザー切断加工 ・レーザー微細加工 ・ワーク位置決め ・レーザー加工装置 【導入の効果】 ・レーザー照射位置の高精度制御 ・切断品質の向上 ・材料ロスの削減 ・加工プロセスの安定化

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【光学位置決め向け】小型・高精度1軸リニアステージ L-836

光学系の精密位置調整に最適。幅60mm・最大200mmストロークのコンパクト高精度リニアステージ

光学システムでは、レンズやミラーなどの光学素子の位置調整が、装置性能を左右する重要な要素です。光軸のわずかなずれや焦点位置の変化は、画像品質の低下や測定精度の悪化につながる可能性があります。 L-836は、コンパクト設計ながら高精度な位置決めを実現するリニアステージです。精密ボールねじ駆動と高精度リニアガイドにより、光学素子の微調整や光学アセンブリ工程における安定した位置決めを実現します。光学装置や検査装置、研究用途など、さまざまな光学位置決め用途に対応します。 【活用シーン】 ・レーザー加工 ・光学アセンブリ ・試験・検査 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる光学性能の向上 ・作業効率の向上 ・製品品質の安定化

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【レーザー加工向け】V-308 高精度Z軸フォーカスステージ

最小10 nm分解能。レーザー加工ヘッドの高精度Z軸フォーカス制御

レーザー加工分野では、焦点位置の精密な制御が加工品質を大きく左右します。特に微細加工や高精度マーキングにおいては、Z軸方向のわずかな焦点変動が加工幅やエネルギー密度に影響を及ぼします。 V-308 Voice Coil PIFOCは、最小10 nm分解能と最大7 mmの移動範囲を備えたZ軸フォーカスドライブです。ダイレクトドライブ方式により滑らかで高速な応答を実現し、レーザー加工ヘッドや光学系の精密なフォーカス制御をサポートします。さらに、最大1 kgまでの重力補償機能により、重量のある光学モジュールにも対応可能です。 【活用シーン】 ・レーザーマーキング装置のフォーカス制御 ・レーザー微細加工装置のZ軸位置決め ・ガルバノスキャナ光学系の焦点補正 ・研究開発用レーザー加工システム 【導入の効果】 ・焦点制御精度の向上による加工品質安定化 ・高速応答による加工プロセスの最適化 ・重量補償機能による安定した光学系制御 ・微細加工における再現性向上

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最大1kgの重力補正 ボイスコイルフォーカスステージ V-308

最小動作10nmで、最大7mm移動、1kgまでの無電源保持 微細観察を支える高精度Z軸

V-308はボイスコイル直動とクロスローラーガイドを組み合わせたZ軸フォーカスステージです。 最小インクリメント10 nm、調整可能な7 mmストロークにより、光学系の焦点位置をナノレベルで最適化できます。 大口径レンズや長作動距離レンズを使用する多光子・深部組織イメージングで高い信頼性を提供します。 クロスローラーガイドの高剛性構造と10 nm分解能エンコーダが、7 mm全域で滑らかなナノポジショニングを保証。 詳細は PDF をダウンロード、またはお問い合わせください。

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【半導体製造向け】ボイスコイルフォーカスステージ V-308

最小10 nm分解能、最大7 mmストローク。半導体装置の高精度Z軸フォーカス制御を実現

半導体製造分野では、微細化の進展に伴い、検査・計測・露光工程におけるZ軸方向の高精度位置制御がますます重要になっています。焦点位置のわずかな変動が、検査精度やプロセス安定性に影響を及ぼす可能性があります。V-308 Voice Coil PIFOCは、最小10 nm分解能と最大7 mmの移動範囲を備えたZ軸フォーカスドライブです。最大1 kgまでの重力補償機能により、重量のある光学系や対物レンズでも安定した位置決めを実現。ダイレクトドライブ方式により、滑らかで高速な応答性と高い再現性を提供し、半導体製造装置の精密フォーカス制御をサポートします。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査装置のオートフォーカス制御 ・光学計測装置のZ軸位置決め ・マスク検査装置のフォーカス補正 ・微細パターン検査工程 【導入の効果】 ・ナノレベルのフォーカス制御による検査精度向上 ・重量補償機能による光学系の安定保持 ・高速応答による検査スループット改善 ・プロセス安定性の向上

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【光学顕微鏡向け】V-308 高精度Z軸フォーカスステージ

最小10nm動作、最大7mm移動、1kg対応。微細観察を支える高精度Z軸

光学顕微鏡の分野では、観察対象の微細構造を鮮明に捉えるために、正確なフォーカス調整が不可欠です。特に、高倍率での観察や、多光子・深部組織イメージングにおいては、ナノレベルでの焦点位置の最適化が、観察の質を大きく左右します。フォーカス調整の精度が低いと、観察像がぼやけ、正確なデータ取得が困難になる可能性があります。V-308は、最小インクリメント10 nm、調整可能な7 mmストロークにより、光学系の焦点位置をナノレベルで最適化し、鮮明な観察像を提供します。 【活用シーン】 ・光学顕微鏡での微細構造観察 ・多光子・深部組織イメージング ・大口径レンズ、長作動距離レンズの使用 【導入の効果】 ・ナノレベルでの正確なフォーカス調整による鮮明な観察像の実現 ・観察データの信頼性向上 ・実験効率の向上

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【バイオテクノロジー向け】V-308フォーカスステージ

細胞観察・深部イメージングの精度を高める — ナノ精度Z軸フォーカスステージ

バイオテクノロジー分野、特に顕微鏡観察や深部組織イメージングでは、対象領域を高精度にZ軸方向へ位置決めし、焦点を最適化することが重要です。V-308 Voice Coil PIFOCは、対物レンズや試料位置を 最小10 nmステップで微調整 可能な高精度フォーカスステージです。最大7 mmの調整範囲と高剛性ガイドにより、長作動距離レンズを含む多様な観察条件下でも 安定したナノポジショニング を提供します。さらに、最大1 kgまでの重量補償機能を内蔵し、対物レンズやアダプタなど重い光学系にも対応できます。 【活用シーン】 ・高倍率顕微鏡による 焦点調整 ・多光子蛍光・深部組織イメージングの Z方向スキャン ・自動化顕微鏡システムでの 高速オートフォーカス 【導入の効果】 ・ナノレベルの焦点制御による高精細画像取得 ・高剛性構造による 安定した動作と再現性向上 ・重力補償で 対物レンズ重量の影響を軽減

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【レーザー微細加工向け】高負荷リニアモーターステージ V-D07

光学機器の調整作業を精密かつスムーズに。高精度リニアステージ

レーザー微細加工では、ワークのわずかな位置ずれが加工品質に大きく影響するため、高精度かつ安定した位置決めが求められます。特に、半導体材料、ガラス、フィルムなどの微細加工では、ナノメートルレベルでの精密な位置制御が重要です。 V-D07 高負荷リニアモーターステージは、高精度リニアエンコーダとリニアモータダイレクトドライブにより、ナノメートルレベルの高精度位置決めと高速動作を実現。レーザー微細加工装置の高精度ステージとして、安定した加工プロセスをサポートします。 【活用シーン】 ・レーザー微細加工装置の精密位置決め ・半導体・電子部品のレーザー加工 ・ガラス・フィルムのレーザー加工 ・光学部品のアライメント調整 【導入の効果】 ・ナノメートル単位での精密な位置決めが可能 ・摩擦レス駆動によるスムーズな動作 ・高負荷環境下での安定した動作

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高負荷リニアモーターステージ V-D07|1000N耐荷&高精度

長寿命・高剛性設計|高負荷環境でも精密でスムーズな動作を実現

高精度な産業オートメーション向けリニアステージ。 V-D07高負荷リニアモーターステージは、産業オートメーションやレーザー加工、精密検査装置に最適な高性能プラットフォームです。 アイアンコアリニアモータによるダイレクトドライブで、摩擦レスの高速・高加速度駆動を実現。最大3000mm/sの移動速度と1000Nの耐荷重を誇り、高精度リニアエンコーダによりナノメートル単位の位置決めが可能です。 高負荷環境での精密動作を求める製造業に、新たな選択肢を提供します。

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高精度XY軸リニアモーターステージV-P01(精密位置決め対応)

高速・高加速度を実現する3相リニアモータ搭載。高精度スキャンに対応

V-P01は、リニアモータ駆動による高精度・高安定性を誇るXYステージです。 最大100Nの負荷に対応し、高速・高加速度での移動を実現。 ±1µmの位置精度と0.1µmの最小インクリメンタルモーションで、AOI自動光学検査やスキャニング用途にも適しています。

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【顕微鏡向け】高精度XY軸リニアモーターステージV-P01

顕微鏡観察・自動イメージング向け 高精度XYステージ V-P01

顕微鏡観察や医療・ライフサイエンスにおいては、観察対象を高精度に位置決めし、安定した状態で画像データを取得することが重要です。微細な構造を観察するためには、位置決めの安定性と再現性が求められます。位置精度が低い場合、観察対象の焦点がずれ、正確な診断や研究に支障をきたす可能性があります。V-P01 高精度XYステージは、リニアモータダイレクトドライブにより、高精度な位置決めとスムーズな動作を実現。顕微鏡観察における試料位置決めや自動スキャンに対応し、高精度イメージングや自動解析の効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察における試料の精密位置決め ・細胞・組織サンプルの自動スキャン ・デジタル顕微鏡・自動イメージング装置 ・自動光学検査装置(AOI) 【導入の効果】 ・高精度位置決めにより観察精度を向上 ・高速スキャンにより観察・検査時間を短縮 ・安定した動作により再現性の高いデータ取得が可能 ※詳細はカタログをご覧ください。

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【光学調整向け】最大600Nの高荷重リニアステージ V-817

リニアモータ×高精度エンコーダで高荷重600Nでも滑らか・高速応答

光学システムでは、高精度な位置決めと安定した動作が重要です。特にレンズやミラーなどの光学部品の配置調整では、わずかな位置ズレでも測定結果や画像品質に影響を与える可能性があります。 V-817は、リニアモータによるダイレクトドライブと高精度インクリメンタルエンコーダを組み合わせたリニアステージです。摩擦の少ない滑らかな動作と高速応答により、光学部品の精密な位置調整や光軸アライメントを高精度に行えます。 さらに最大600 Nの高荷重に対応し、剛性の高い構造により安定した位置決めを実現。光学装置や精密測定システムにおける高精度な調整作業をサポートします。 【活用シーン】 ・レンズやミラーの位置調整 ・光学系の組み立て ・精密測定 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる調整精度の向上 ・安定した動作による作業効率の向上 ・非接触駆動による発塵の抑制

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最大600Nの連続荷重のリニアステージ V-817

リニアモータ×エンコーダで高荷重600Nでも滑らか&高速応答

PI Mag(R)リニアモータとダイレクトエンコーダを組み合わせたV-817は、非接触駆動で発塵を抑え、長期安定性を実現します。 最大負荷600 Nまで対応し、2 µmレベルの位置決め再現性を実現。 動作量は、204, 407, 610, 813 mmの4タイプをラインアップし、ドラッグチェーンや75〜150 mm角M6取付プレートなど豊富なアクセサリで迅速にシステム化できます。 センサーやカメラの組立、精密検査&測定、ウェハー加工&検査、レーザー加工など幅広い産業アプリをサポートします。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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【電子部品実装向け】最大800mmリニアステージ V-855

高速・高精度搬送を実現する最大800mmストロークのリニアモーターステージ

電子部品実装分野では、生産性の向上と品質の安定化が重要です。特に実装ラインにおける部品搬送では、高速動作と高精度な位置決めの両立が求められます。搬送速度の制限や振動による位置ズレは、実装精度や生産効率に影響を与える要因となります。 V-855は、リニアモータによるダイレクトドライブを採用した高速リニアステージです。最大4,000 mm/s(4 m/s)の高速動作と高精度リニアエンコーダにより、高速搬送と高精度位置決めを同時に実現します。さらに最大800 mmの長ストロークと高荷重(最大600 N)**に対応しており、電子部品実装装置や検査装置などの高速搬送用途に適しています。 【活用シーン】 ・高速実装ライン ・部品のピック&プレース ・検査装置 【導入の効果】 ・生産性の向上 ・品質の安定化 ・不良率の低減

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【研究開発向け】800mmリニアモーターステージ V-855

高速4 m/s×高分解能で研究開発の位置決めを高精度化

研究開発分野の実験では、高精度な位置決めと安定した動作が求められます。特に微細構造の観察や精密加工、材料評価などの実験では、位置決め精度が測定結果や実験の再現性に大きく影響します。 V-855は、リニアモータによるダイレクトドライブと高精度リニアエンコーダを備えた高速リニアステージです。0.1 µmの最小インクリメンタルモーションと最大4,000 mm/s(4 m/s)の高速動作により、精密な位置決めと高速搬送を両立します。 さらに最大800 mmの長ストロークにより、大型試料の測定やスキャン測定など、研究開発装置における幅広い実験用途に対応します。 【活用シーン】 ・精密測定 ・微細加工 ・光学実験 ・材料試験 【導入の効果】 ・実験の再現性向上 ・測定精度の向上 ・作業効率の向上 ・実験時間の短縮

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【計測向け】最大800mmストローク リニアステージ V-855

0.1 µm分解能と最高4 m/sの高速動作で高精度測定を実現

計測分野では、高精度な位置決めと安定した動作が求められます。特に精密部品の検査や非接触測定、微細加工プロセスにおける位置決めでは、高分解能と高速動作を両立したステージが重要です。 V-855は、リニアモータによるダイレクトドライブと高精度リニアエンコーダを備えた高速リニアステージです。0.1 µmの最小インクリメンタルモーションと最大速度4,000 mm/s(4 m/s)により、高速かつ高精度な測定位置決めを実現します。さらに最大800 mmの長ストロークと高荷重(最大600 N)に対応しており、大型ワークや高速スキャン測定を伴う計測装置にも適しています。 【活用シーン】 ・精密部品の測定 ・半導体製造における検査 ・非接触測定システム ・研究開発装置の位置決め 【導入の効果】 ・高分解能位置決めによる測定精度の向上 ・高速動作による測定時間の短縮 ・長ストロークによる大型ワーク測定への対応

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最高速度4m/s・高精度位置決め用途 リニアステージ V-855

0.1 µmの最小インクリメンタルモーションで、無負荷時の最大速度4000mm/秒、最大加速度50 m/s²、耐荷重600N

磁気ダイレクトドライブを採用したV-855は、600Nを支えるクロスローラーガイドとアイアンレス3相リニアモータを組み合わせ、振動レスで滑らかな高速搬送を実現します。 200 / 400 / 800 mmの3ストロークから選択でき、アブソリュートエンコーダモデルは原点出し不要で稼働率を向上。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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クリアアパーチャ設計 高精度XYステージ V-738

動作量は102×102 mmで、リニアモータとリニアエンコーダで、最小動作0.02µm、最大速度500 mm/sを実現

PI Magリニアモータ駆動のV-738は、光学式インクリメンタルエンコーダによりシステム分解能1 nm。XY方向それぞれ102 mmのストロークで、最大速度500 mm/s。コアレスのため速度リップルが小さく、低速域でも滑らかな動作を実現しています。 150 mm四方の開口により、レーザ光学ヘッドや検査カメラを内部に配置でき、装置の省スペース化に貢献 非接触式の光学式リニアエンコーダにより、プラットフォーム上で位置を直接かつ高精度に測定します。非線形性、機械的バックラッシュ、弾性変形の影響を受けません。 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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【研究向け】高精度・高剛性・長寿命の回転ステージ V-62x

開口付で高剛性と1µm未満の偏心と平坦度を持つ高速・高精度動作を実現

研究・実験分野では、精密な位置決めと回転制御が、実験の精度と再現性を左右する重要な要素です。従来の回転ステージでは、精度や速度が不足し、実験結果に影響を与える可能性がありました。ダイレクトドライブ高精度回転ステージ V-62xシリーズは、優れた回転精度と微小なティルトエラーを実現し、高度なアライメントや回転制御を可能にします。 【活用シーン】 ・光学系の調整 ・半導体製造装置 ・バイオメディカル分野での実験 【導入の効果】 ・実験精度の向上 ・再現性の高い実験結果 ・幅広い分野での活用

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【計測・検査向け】高精度回転ステージ V-62xシリーズ

開口付で高剛性と1µm未満の偏心と平坦度を持つ高速・高精度動作を実現

計測や測定、検査では正確な精度が求められます。誤差を減らしたり、正確な位置決めが不可欠です。ダイレクトドライブ高精度回転ステージ V-62xシリーズは、1µm未満の偏心と平坦度により、正確な校正作業をサポートします。 【活用シーン】 ・光学計測・検査 ・半導体・電子部品の精密検査 ・センサー・計測機器の校正 【導入の効果】 ・測定誤差の低減と再現性の向上 ・高精度かつ安定した角度位置決め ・長期安定運用による測定信頼性の向上

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ダイレクトドライブ高精度回転ステージ V-62xシリーズ

開口付で高剛性と1µm未満の偏心と平坦度を持つ高速・高精度動作を実現

ダイレクトドライブ高精度回転ステージ V-62xは、高分解能エンコーダを搭載したフリクションレスのトルクモーター駆動ステージです。 優れた回転精度(偏心および平坦度 <1 µm)と、微小なティルトエラー(±20 µrad)を実現し、高度なアライメントや回転制御が求められるアプリケーションに最適です。 プラットフォーム径は85 mm〜210 mm、任意方向設置に対応。光学系、半導体、バイオメディカルなど幅広い分野で活用できます。

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【半導体向け】V-62xシリーズ 高精度回転ステージ

開口付、高剛性、1µm未満の偏心と平坦度を実現

半導体製造業界では、ウェーハやマスクなどの精密な位置決めが、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細加工技術の進展に伴い、より高い精度と安定性が求められています。位置決めの精度が低いと、加工不良やデバイスの性能低下につながる可能性があります。ダイレクトドライブ高精度回転ステージ V-62xシリーズは、優れた回転精度と微小なティルトエラーを実現し、高度なアライメントや回転制御を可能にします。 【活用シーン】 ・ウェーハプロービング ・マスクアライメント ・レーザー加工 ・検査装置 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる歩留まり向上 ・高速・高精度動作による生産性向上 ・幅広い分野への対応

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【電子機器実装向け】高精度XY多軸モーションシステム X-417

用途に合わせて軸構成や仕様を柔軟に組み合わせ可能

電子機器実装分野では、電子部品の正確な配置と組み立てが製品の品質と信頼性を左右します。特に小型化・高密度化が進む電子機器では、高精度な位置決めが不可欠です。位置ずれは回路の短絡や断線につながり、不良発生の原因となる可能性があります。 多軸モーションシステム X-417 は、高荷重リニアステージによる XY位置決めシステムをベースとした統合モーションプラットフォームです。サーボモータ+ボールねじステージ、またはリニアモーターステージを選択でき、用途に応じて Z軸の追加など柔軟なシステム構成が可能です。 さらに ACSベース G-901コントローラにより、モーション制御・I/O・安全機能を統合。EtherCAT(R)接続によって装置PLCとのスムーズな連携を実現します。 【活用シーン】 ・電子部品の実装 ・基板への部品配置 ・電子部品検査装置 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる実装品質の向上 ・EtherCAT(R)接続による装置PLCとの連携 ・柔軟な軸構成による装置設計の自由度向上

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【光学調整向け】XY多軸モーションシステム X-417

XY+Z構成に対応する高精度多軸システム。用途に合わせて最適な構成が可能

光学機器の調整作業では、高精度な位置決めと安定した動作が求められます。特にレンズやミラーなどの光学部品の配置調整では、微小な位置ズレが光軸のずれや焦点誤差につながり、最終的な装置性能に大きな影響を与える可能性があります。 多軸モーションシステム X-417 は、高荷重リニアステージによる XY位置決めシステムをベースとした統合モーションプラットフォームです。サーボモータ+ボールねじステージ、またはリニアモーターステージを選択でき、用途に応じて Z軸の追加など柔軟な構成が可能です。高精度な位置決め性能と安定した動作により、光学部品の精密調整や光学系の組み立て工程をサポートします。 【活用シーン】 ・レンズやミラーの位置調整 ・光学系の組み立て ・精密検査 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・作業時間の短縮 ・歩留まりの向上

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高精度・高速制御を実現するXY多軸システム X-417

用途に合わせて、必要な軸数や動作仕様に合った組合せで構成が可能

■Performance 1:サーボモータとボールねじステージ構成 ■Performance 2:高精度向け、サーボモータとボールねじ駆動ステージ構成 ■Performance 3:高速・高精度向け、リニアモーターステージ構成 Z軸は、保持ブレーキ付きタイプで対応します。 ACSベースG-901コントローラはモーション+I/O+安全機能を統合し、装置PLCとのEtherCAT(R)接続を即完了。 レーザー加工、超短パルスレーザー加工、テストや精密検査、電子機器製造に最適。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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【研究開発向け】柔軟に構成可 多軸モーションシステム X-417

用途に応じて軸数や仕様を自由に構成できる多軸モーションシステム

研究開発分野の実験では、高精度な位置決めと安定した動作制御が求められます。特に微細な調整や高い繰り返し精度が必要な実験では、モーションシステムの性能が実験結果や再現性に大きく影響します。 多軸モーションシステム X-417 は、高荷重リニアステージによる XY位置決めシステムをベースに、用途に応じて軸構成を自由に選択できる統合モーションプラットフォームです。サーボモータ+ボールねじステージ、またはリニアモーターステージを選択でき、Z軸の追加など柔軟なシステム構成に対応します。高精度な位置決め性能と安定した制御により、研究開発における実験装置や試験システムの構築をサポートします。 【活用シーン】 ・レーザー加工実験 ・超短パルスレーザー加工 ・試験・評価装置 ・精密検査 ・電子機器製造プロセス研究 【導入の効果】 ・高精度位置決めによる実験の再現性向上 ・柔軟な軸構成による装置設計の自由度向上 ・EtherCAT(R)対応コントローラによるシステム統合の容易化 ・Z軸保持ブレーキ対応による安全性向上

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【光学調整向け】真空環境対応有り・小型リニアステージ M-11x

サイズ60mm四方、XYZ軸対応のコンパクトリニアステージ

光学業界における調整作業では、精密な位置決めが求められます。特に、レンズやミラーの位置調整は、光学系の性能を左右する重要な要素です。微小なズレが、画像品質の低下や測定精度の悪化につながる可能性があります。リニアステージ M-11x型は、小型ながらも高精度な位置決めを実現し、光学系の調整作業を効率化します。 【活用シーン】 ・レンズやミラーの位置調整 ・ファイバーアライメント ・光学部品の精密位置決め 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる光学性能の向上 ・作業時間の短縮 ・調整作業の効率化

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【研究開発向け】小型リニアステージ・真空対応有り M-11x

サイズ60mm四方、XYZ軸対応のコンパクトリニアステージ

研究開発分野における実験では、精密な位置決めが不可欠です。特に、微細な調整が求められる実験や、限られたスペースでのセットアップが必要な場合に、小型で高精度なリニアステージが求められます。M-11x型リニアステージは、コンパクトながらも高い精度と多様な軸構成を実現し、研究開発の効率化と精度の向上に貢献します。真空(10-6hPa)に適したタイプもあります。 【活用シーン】 ・光学実験 ・顕微鏡観察 ・精密測定 ・微細加工 【導入の効果】 ・実験のセットアップ時間の短縮 ・実験精度の向上 ・省スペース化 ・多様な実験への対応

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小型で25mmまでの動作量:リニアステージ M-11x型

サイズ60mm四方で、XYZ軸の組合わせが可能なコンパクトリニアステージ

【DCモータ、ステッピングモータを使用したリニアステージ】 ■トラベルレンジ:5~25mm ■最小移動量:0.2µm ■耐荷重:30N ■サイズ:60×62×20mm~ ■XY軸、XYZ軸にセットアップ可能で、真空にも対応(10^-6hPa) 【コンパクトなリニアステージ、多用途】 ■ベルト駆動が折り重なったコンパクトサイズのリニアステージです ■開口部は10 mm Øです ■XYセットアップをアダプタープレートなしで直接マウントできます 【位置計測】 ■DCギヤモーター搭載の別タイプ:モーター軸にロータリーエンコーダーを搭載 ■非接触ホール効果基準点スイッチとリミットスイッチ 【駆動】 ■2相ステッパーモーターまたはクローズドループDCギヤモーター ■バックラッシュ補正のリードネジやボールネジ ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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小型設計・多軸システム構築に対応した高精度Zステージ L-306

13mmストロークのコンパクト高精度Zステージ

L-306は、小型設計ながら高精度な位置決めを実現するZステージです。ベルトギアを用いた折り返し駆動構造によりコンパクトサイズを実現(設置面積が63×63mm)。XYステージと組むことが容易です。 駆動方式には2相ステッピングモータまたはクローズドループDCモータを採用し、用途や制御システムに応じた構成が可能です。また、クロスローラーガイドを採用しており、高い剛性、低い予圧による摩擦の低減、滑らかな動作を実現。さらに、高い案内精度と耐荷重性能を備えています。 強制保持式ローリングエレメントケージによりケージクリープを防止します。

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【光学調整・光学アライメント向け】高精度Zステージ L-310

光学アライメント・フォーカス調整に。高剛性クロスローラーガイド採用の精密Zステージ

光学装置では、レンズやセンサーの位置ずれが光学性能に大きく影響します。特に光軸調整やフォーカス制御では、サブミクロンレベルでの安定した位置決めが求められます。L-310は、ボールねじ駆動とクロスローラーガイドを採用した高精度Zステージです。高いガイド精度と剛性に加え、インクリメンタルエンコーダによる高精度位置測定により、光学機器における精密なZ軸位置制御を実現します。 【活用シーン】 ・光学レンズの位置調整 ・光学アライメント装置 ・センサー位置調整 ・顕微鏡フォーカス制御 ・レーザー光学系の位置調整 【導入の効果】 ・高精度なZ軸位置決めによる光学性能向上 ・安定した動作による測定精度の向上 ・スムーズな位置調整による作業効率向上 ・装置の安定性向上による歩留まり改善

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【研究開発向け】高精度Zステージ L-310

顕微鏡・光学実験・精密測定のZ軸位置決めに。高剛性クロスローラーガイド採用の精密Zステージ

研究開発分野の実験では、ナノ~ミクロンレベルの位置決め精度が実験結果の信頼性や再現性を左右します。特に顕微鏡観察や光学実験、材料評価などの分野では、安定したZ方向の精密ポジショニングが不可欠です。 L-310は、ボールねじ駆動とクロスローラーガイドを採用した高精度Zステージです。高いガイド精度と剛性に加え、インクリメンタルエンコーダによる高精度位置測定により、研究開発用途における安定したZ軸位置制御を実現します。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察装置 ・精密測定装置 ・材料試験装置 ・光学実験装置 ・研究開発用実験装置 【導入の効果】 ・高精度なZ軸位置決めによる実験精度の向上 ・安定した動作による実験データの再現性向上 ・滑らかな動作による精密調整の容易化 ・研究用途での高い信頼性 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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【半導体検査装置向け】最大荷重10kg・Zステージ L-310

ウェーハ検査・チップ検査のZ軸位置決めに。高剛性クロスローラーガイド採用の精密Zステージ

半導体検査工程では、ウェーハやチップの微細な欠陥を正確に検出するため、ナノレベルでの精密な位置制御が求められます。特に検査カメラやセンサーのフォーカス調整、ウェーハ高さ位置の制御では、安定したZ方向の位置決めが検査精度を左右します。 L-310は、ボールねじ駆動とクロスローラーガイドを採用した高精度Zステージです。高いガイド精度と剛性により、半導体検査装置における安定したZ方向ポジショニングを実現します。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査装置 ・半導体チップ検査装置 ・画像処理検査装置 ・検査カメラのフォーカス調整 ・プローブ高さ調整 【導入の効果】 ・高精度なZ軸位置制御による検査精度の向上 ・安定した動作による検査データの信頼性向上 ・高デューティサイクル対応による長時間運転 ・不良検出精度向上による歩留まり改善

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【精密測定装置向け】耐荷重10 kg・高精度ZステージL-310

高剛性クロスローラーガイド採用。精密測定・研究用途のZ方向位置決めに最適

精密測定や分析装置では、Z方向のわずかな位置ずれが測定精度や再現性に大きく影響します。特に微細構造の測定やナノスケールの分析では、高精度かつ安定した位置決め機構が不可欠です。 L-310は、ボールねじ駆動とクロスローラーガイドを採用した高精度Zステージです。高いガイド精度と剛性を実現し、精密測定装置や研究用途における安定したZ方向位置決めを可能にします。 【活用シーン】 ・精密測定機器 ・検査装置 ・研究開発 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる測定精度の向上 ・安定した動作による信頼性の向上 ・スムーズな動作による作業効率の向上 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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リニア・回転ステージと組み合わせ可 高精度Zステージ L-310

工業、研究分野の精密ポジショニングに!高デューティサイクルのZステージ

『L-310』は、ボールネジとクロスローラーガイドにより、 高いガイド精度と剛性を実現する製品です。 高い安定性を可能にする応力緩和アルミニウムベースを使用。 また、真空対応バージョン可能非接触リミットスイッチと基準点スイッチを備え、 基準点スイッチには、トラベルレンジの中央に方位センシングが搭載されています。 【特長】 ■高いガイド精度と剛性を実現 ■応力緩和アルミニウムベース使用 ■スムーズな動作と低摩擦で長寿命を実現 ■インクリメンタルエンコーダーによる高精度の位置測定 ■小インクリメンタルモーションと低速モーション ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【半導体製造向け】ウェハ加工および検査に 高負荷リニアステージ

リニアモータ×エンコーダで高荷重600N(最大)でも滑らか&高速応答

半導体製造業界では、ウェーハやマスクの位置決めにおいて、高い精度と安定性が求められます。特に、微細加工や検査工程においては、位置決めのわずかなズレが製品の品質に大きく影響します。V-817は、高精度な位置決めと長期安定性を提供し、歩留まり向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ加工 ・精密検査 ・レーザー加工 【導入の効果】 ・2 µmレベルの位置決め再現性 ・非接触駆動による発塵抑制 ・長期安定性の実現

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【ウェーハ検査向け】摩擦レス・高精度XYステージ V-P01

高速・高精度なウェーハ検査をV-P01が実現

半導体業界のウェーハ検査では、微細な欠陥を高精度に検出することが求められます。検査の精度は、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、ウェーハの大型化と高密度化が進む中、より高速かつ正確な位置決めが不可欠です。V-P01は、リニアモータ駆動により、高精度な位置決めと高速スキャンを実現し、ウェーハ検査の効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハの自動光学検査(AOI) ・ウェーハ表面の精密スキャニング ・微細パターンの位置決め 【導入の効果】 ・検査時間の短縮 ・検査精度の向上 ・歩留まりの改善

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【レーザー加工向け】滑らか動作の高精度XYステージ V-P01

レーザー加工の切断工程に。高精度位置決めと高速移動を実現

レーザー加工業界では、精密な切断が求められます。特に、材料の無駄を減らし、高品質な製品を効率的に製造するためには、レーザーヘッドの位置決め精度と移動速度が重要です。位置精度の低いステージでは、切断面の品質が低下し、歩留まりが悪化する可能性があります。また、移動速度が遅いと、生産性が低下し、コスト増につながります。V-P01は、リニアモータ駆動により、高精度な位置決めと高速移動を実現し、レーザー加工における切断工程の課題を解決します。 【活用シーン】 ・レーザーカッター ・レーザーマーキング ・レーザー彫刻 【導入の効果】 ・高精度な切断による製品品質の向上 ・高速移動による生産性の向上 ・材料の無駄を削減し、コスト削減に貢献

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【光学向け】低速域でも滑らか動作・高精度XYステージ V-P01

レンズ調整の精度と効率を向上させるXYステージ

光学業界のレンズ調整においては、高精度な位置決めと安定性が求められます。レンズの性能を最大限に引き出すためには、ミクロン単位での微調整が不可欠です。位置ずれは、画像の歪みや解像度の低下を引き起こし、製品の品質に直接影響します。V-P01は、リニアモータ駆動により、これらの課題に対応します。 【活用シーン】 ・レンズ研磨・組立工程 ・光学測定器 ・検査装置 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・高速・高加速度による作業効率アップ ・安定した動作による歩留まり向上

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【計測機器向け】高精度XYステージ V-P01

校正作業の効率化と精度向上に貢献するXYステージ

計測機器業界における校正作業では、高精度な位置決めが不可欠です。測定器の正確な校正には、微小な動きを正確に制御できるステージが求められます。位置精度の低いステージでは、校正結果に誤差が生じ、製品の品質に影響を与える可能性があります。V-P01は、リニアモータ駆動により、±1µmの位置精度と0.1µmの最小インクリメンタルモーションを実現し、校正作業の精度向上に貢献します。 【活用シーン】 ・精密測定器の校正 ・センサのキャリブレーション ・検査装置の位置決め 【導入の効果】 ・校正作業の効率化 ・校正精度の向上 ・製品品質の安定化

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【研究開発向け】滑らかで安定制御・高精XYステージ V-P01

高速・高精度な実験をサポートするXYステージ

研究開発分野における実験では、精密な位置決めと安定した動作が不可欠です。特に、微細な構造の観察や、精密な加工を行う際には、位置精度の高いステージが求められます。位置精度の低いステージでは、実験結果の再現性が損なわれたり、正確なデータが得られない可能性があります。V-P01は、リニアモータ駆動により、高精度な位置決めと安定した動作を実現し、研究開発における実験の質を向上させます。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察 ・精密加工 ・AOI検査 ・スキャニング 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる実験精度の向上 ・高速・高加速度による実験効率の向上 ・安定した動作による再現性の確保

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