ピーアイ・ジャパンの製品ラインアップ

PICMA(R)多層ピエゾアクチュエータ P-882・P-888は、セラミック絶縁構造により湿度や電解腐食に強く、温度安定性に優れています。 カスタムにより、最大200度までの耐高温度性を持たせたり、最大20 Aの大電流対応や、穴あき、円形、長方形など形状変更にも対応。 さらにUHV 10⁻⁹ hPa対応し、アウトガスがなく、高いベーク温度にも耐えられ、真空装置や極低温環境など過酷環境下でも動作。 多彩なサイズ・形状バリエーションに加え、カスタム仕様やセンサ内蔵型も選択可能です。 ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

P-840は、高荷重・高いプッシュフォースに対応したコンパクトなピエゾアクチュエータです。最大1000Nのプッシュフォースと最大50Nのプルフォースを備えています。 PI独自のPICMA(R)ピエゾアクチュエータを採用し、完全セラミック絶縁構造により湿度の影響やリーク電流の増加による故障リスクを低減。従来のポリマー絶縁型アクチュエータと比較して最大10倍の長寿命を実現しています。 この製品は、ポリマー絶縁がなく、キュリー温度が高いため、超高真空用に最適です。

P-841はPICMA(R)積層スタックをプリロード付金属ケースに入れたピエゾアクチュエータです。 最大90 µmの変位をナノレベルで動作し、押力1000 N／引力50 Nを発揮。 変位レンジは15〜90 µmまでバリエーションを用意。 内部ピエゾのセラミック絶縁技術がリーク電流と水分侵入を抑え、長期連続駆動でも性能を維持します。 歪みゲージ位置センサ（SGS）付きのため、ヒステリシス、ドリフトを高精度に補正します。 ファイバ・光学素子のアライメント、レーザー波長チューニング、ナノテク試験治具など高剛性と高応答が求められる用途で威力を発揮します。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

PICMA(R)多層スタックをプリロード付金属ケースに入れたP-844/P-845は、最大90 µmストロークをサブナノメートルで動作し、最大3000 Nの押力と700 Nの引力を可能にする高荷重ピエゾアクチュエータです。 P-845タイプは、歪みゲージセンサー（SGS）を内蔵し、ピエゾの動きを直接計測しフィードバックするため、ヒステリシスやドリフトを最小化にします。P-844はセンサーなしタイプ。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

P-216は、1000V駆動の高電圧型ピエゾアクチュエータで、オプションで真空対応も可能です。 ストロークは、15µm～最大180µmタイプで、4500NのPush力と500NのPull力を持ち、内部に歪みゲージセンサー内蔵し、クローズドループ制御にでナノレベル位置決めを可能にします。 用途例 ・アクティブ振動吸収 ・アダプティブメカニクス ・光学・計測技術・干渉計 ・スイッチ ・レーザーチューニングなど ドイツ本社50年以上の実績と、日本法人30年の経験で培ってきた精密制御技術をもとに、世界中の研究機関・装置メーカーに採用されるピエゾステージおよびアクチュエータを提供しています。豊富なラインアップと技術力で、お客様のニーズに最適なソリューションをご提案します。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

P-235は、1000V駆動の高電圧型ピエゾアクチュエータで、オプションで真空対応、防水対応も可能です。 ストロークは、15µm～最大180µmタイプで、30,000NのPush力と3,500NのPull力を持ち、内部に歪みゲージセンサー内蔵し、クローズドループ制御にでナノレベル位置決めを可能にします。 用途例は、アクティブ振動吸収、アダプティブメカニクス、光学・計測技術・干渉計、スイッチ、レーザーチューニングなど ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

半導体製造業界では、ウェーハやマスクの位置決めなど、極めて高い精度が求められます。微細加工技術の進歩に伴い、位置決めの精度は製品の品質を左右する重要な要素となっています。従来の技術では対応が難しい、サブナノレベルでの精密な位置決めが、歩留まり向上、製造プロセスの効率化に不可欠です。 【活用シーン】 ・ウェーハプロービング ・マスクアライメント ・半導体製造装置 【導入の効果】 ・サブナノメートルレベルの高精度な位置決め ・製造プロセスの効率化 ・歩留まりの向上

顕微鏡の分野では、観察対象を高精度にフォーカスすることが、鮮明な画像を得るために不可欠です。特に、高倍率での観察や、動的な観察においては、ピントの微調整が重要になります。ピントがずれると、観察対象の詳細を見ることができず、正確な分析や研究の妨げになります。PICMA(R)多層ピエゾアクチュエータ P-882・P-888は、サブナノメートルの分解能と超高剛性により、顕微鏡のフォーカス制御を精密に行い、鮮明な画像を提供します。 【活用シーン】 ・顕微鏡のフォーカス調整 ・細胞観察 ・材料分析 ・半導体検査 【導入の効果】 ・高精度なフォーカス制御による鮮明な画像取得 ・観察時間の短縮 ・研究・分析の効率化

ライフサイエンス分野では、細胞・組織・微小試料を対象とした高精度な操作や計測が求められます。特に、顕微鏡下での微細操作や計測系では、わずかな位置誤差や振動が実験結果の再現性や信頼性に影響を与えます。PICMA積層ピエゾアクチュエータ P-882・P-888は、サブナノメートル分解能と超高剛性により、安定した精密制御を実現し、ライフサイエンス研究を強力にサポートします。 【活用シーン】 ・顕微鏡下での細胞・試料の精密操作 ・マイクロマニピュレーターやステージ制御 ・バイオ計測・干渉計システムへの組み込み 【導入の効果】 ・実験・計測の再現性向上 ・微細操作の安定化 ・研究効率の向上

光学分野では、高精度な位置決めと微調整が求められます。特に、レンズやミラーの位置調整は、光学系の性能を左右する重要な要素です。わずかなズレが、画像品質の低下や測定精度の悪化につながる可能性があります。多層PICMA(R)ピエゾアクチュエータ P-882・P-888は、サブナノメートルの分解能と超高剛性により、光学系の精密な位置決めと微調整を実現します。 【活用シーン】 ・光学系の波面補正 ・レンズ・ミラーの微調整 ・干渉計用参照ミラー制御 ・レーザー光学系の安定化 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる、光学性能の向上 ・サブナノメートル分解能による、微細な調整 ・長寿命と高い信頼性 ・過酷な環境下での安定動作

ナノテクノロジー分野では、ナノスケールでの精密な操作が求められます。特に、原子レベルでの物質の操作や、微細構造の製造においては、正確な位置決めと安定した動作が不可欠です。従来の技術では、環境変化による影響を受けやすく、精度の維持が難しいという課題がありました。多層PICMA(R)ピエゾアクチュエータ P-882・P-888は、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・走査型プローブ顕微鏡（SPM） ・ナノインデンテーション ・微細加工 ・光学系の精密調整 ・半導体製造装置 【導入の効果】 ・サブナノメートルの分解能による高精度な操作 ・過酷な環境下での安定した動作 ・長寿命化によるメンテナンスコストの削減 ・多様な形状とカスタム対応による柔軟なシステム構築 ・高スループット化の実現

精密測定の分野では、ナノレベルの精度が求められる測定や、過酷な環境下での測定が不可欠です。温度変化や振動、真空環境下など、様々な外的要因が測定精度に影響を与えるため、安定した動作と高い耐久性が重要になります。PICMA(R)多層ピエゾアクチュエータ P-882・P-888は、これらの課題に対し、高い剛性と耐環境性能で応えます。 【活用シーン】 ・走査型プローブ顕微鏡（SPM） ・半導体製造装置 ・光学素子の精密位置決め 【導入の効果】 ・サブナノメートルの分解能による高精度な位置決め ・過酷な環境下での安定した動作 ・長寿命化によるメンテナンスコスト削減

光学業界では、光ファイバーやレーザーなどの精密な調整が求められます。特に、微細な位置調整は、システムの性能を左右する重要な要素です。従来の調整方法では、調整に時間がかかったり、精度の限界がありました。P-841は、サブナノメートルの分解能とµs応答により、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・ファイバ・光学素子のアライメント ・レーザー波長チューニング 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによるシステム性能の向上 ・調整時間の短縮 ・実験の効率化

光学システムにおけるレンズ位置の精密調整は、性能を左右する重要な要素です。特に高精度な位置決めが求められる用途では、わずかなズレが画像品質や測定精度に大きな影響を与える可能性があります。PICMA技術を採用したサブナノメートルクラスの分解能と高い力性能を備え、高速応答（µsオーダー）と高い信頼性により、レンズなどの精密位置制御を実現します。 【活用シーン】 ・顕微鏡用精密位置調整 ・光学測定装置のアラインメント ・レーザー光学系チューニング ・光通信・フォトニクス機器の微小位置決め（ナノポジショニング全般） 【導入の効果】 ・光学性能の向上：微小位置調整による最適焦点・高解像度化 ・高速・高精度位置決め：サブナノ調整とµs応答でプロセス改善 ・信頼性向上：PICMA技術による長寿命化と安定稼働 ・幅広い用途対応：微細調整から高荷重ポジショニングまで対応

製造業の分野では、高荷重・高精度・高速応答が求められます。最大90 µmのストロークとサブナノメートル分解能により、微細位置決めや高精度制御が必要な工程で安定した動作を実現します。また、PICMAピエゾ素子を採用することで、長寿命かつ信頼性の高い性能を提供します。これにより、製品品質の向上やプロセスの効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体製造工程での精密位置決め ・光ファイバやレーザー光学系の高精度アライメント ・MEMS・微細デバイス製造での微小動作制御 ・高精度組み立て・検査装置の駆動部 【導入の効果】 ・サブナノメートル精度による高精度位置決め ・高荷重対応（最大押力3000 N / 引張力700 N）による頑健な動作 ・マイクロ秒応答による高速制御 ・長寿命で信頼性の高い駆動特性

ナノテクノロジー分野では、微細な構造の操作や位置決めにおいて、高い精度と安定性が求められます。特に、原子レベルでの操作や、微小な距離の移動が必要となる場合、従来の技術では対応が難しいことがあります。P-841は、サブナノメートルの分解能と最大90 µmのストロークを提供し、これらの課題に対応します。これにより、ナノテクノロジー研究における実験の精度向上と効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・ファイバ・光学素子のアライメント ・レーザー波長チューニング ・ナノテク試験治具 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる実験の再現性向上 ・微細構造の正確な操作 ・実験時間の短縮 ・従来のポリマー絶縁アクチュエータと比較して最大10倍の寿命

精密測定業界では、測定器の正確な較正が求められます。特に、ナノレベルの精度が要求される場合、位置決めの微細なズレが測定結果に大きな影響を与える可能性があります。P-841は、サブナノメートルの分解能と最大90µmのストロークにより、高精度な位置決めを実現し、測定器の正確な較正を支援します。 【活用シーン】 ・精密測定器の較正 ・光学素子の位置調整 ・ナノテクノロジー研究 【導入の効果】 ・高精度な測定結果の実現 ・測定器の性能向上 ・研究開発の効率化