ピーアイ・ジャパンの製品ラインアップ

フォトニクス分野のアライメント作業では、光ファイバーやレンズなどの精密な位置調整が求められます。特に、光軸のずれは、測定精度や効率を大きく左右するため、ナノレベルでの精密な位置決めが重要です。Z・チップ・チルト開口部付ピエゾステージ P-5x8は、これらの課題に対し、高精度な位置決めと広い開口部による透過光測定の実現で貢献します。 【活用シーン】 ・光ファイバーアライメント ・レンズアライメント ・干渉計測 ・透過光アプリケーション 【導入の効果】 ・ナノレベルでの精密な位置決めによるアライメント精度の向上 ・66mm×66mmの開口部による透過光測定の効率化 ・高信頼性PICMAピエゾセラミックスによる長寿命化 ・静電容量センサーによる高いリニアリティ

半導体プロセスや検査装置では、サブミクロンレベルでの位置補正や焦点調整が品質安定化の鍵となります。特に検査工程や微細加工工程では、ナノメートル分解能での高精度位置制御が求められます。P-616 NanoCubeは、各軸100 µmのストロークを備えたコンパクトなXYZピエゾナノポジショナーです。高剛性フレクシャガイド構造によりバックラッシュのない滑らかな動作を実現し、ナノメートル分解能での微細位置調整が可能です。 半導体製造装置内の微動補正ステージや検査装置への組込み用途に適しています。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査装置の微細位置補正 ・マスク検査工程 ・レーザーアニール装置の焦点調整 ・プロービング装置の微動制御 ・半導体研究開発用途 【導入の効果】 ・ナノメートル分解能による高精度位置補正 ・バックラッシュレス構造による高再現性 ・コンパクト設計で装置組込みが容易 ・微細工程の安定化に貢献

光学システムにおいて、ビーム位置や光軸のわずかなずれは、結合効率や測定精度に大きく影響します。特に干渉計測、レーザー集光、ファイバーアライメントなどの用途では、サブミクロン以下の位置制御が不可欠です。 P-616 NanoCubeは、各軸100 µmの動作範囲を備えたコンパクトなXYZピエゾナノポジショナーです。フレクシャガイド構造によりバックラッシュのない高直線性動作を実現。ナノメートル分解能での微細位置決めと高い機械的安定性により、光学系の精密アライメントを高い再現性でサポートします。 研究用途から装置組込みまで対応可能な設計で、フォトニクス分野の高度な位置制御ニーズに応えます。 【活用シーン】 ・光ファイバーアライメント（結合効率最適化） ・レーザー集光位置の微調整 ・干渉計・ホログラフィー装置 ・顕微鏡ステージ微動制御 ・フォトニクス研究装置への組込み 【導入の効果】 ・ナノ分解能による光軸調整精度向上 ・バックラッシュレス構造による高再現性 ・高剛性フレクシャ設計によるドリフト低減 ・コンパクト設計による装置内組込み容易化

ナノテクノロジー分野では、試料やプローブの位置制御精度が実験結果の再現性を左右します。走査型プローブ顕微鏡（SPM）やナノリソグラフィー用途では、ナノメートル分解能での安定したXYZ制御が求められます。P-616 NanoCubeは、各軸100 µmのストロークを備えたコンパクトなXYZピエゾナノポジショナーです。高剛性フレクシャガイド構造によりバックラッシュのない滑らかな動作を実現し、ナノメートル分解能での高精度位置決めが可能です。 研究用途から装置組込みまで対応し、ナノスケール計測・加工・評価を支える位置制御プラットフォームとして活用されています。 【活用シーン】 ・走査型プローブ顕微鏡（SPM／AFM／STM） ・ナノリソグラフィー装置 ・ナノ材料評価 ・ナノデバイス研究開発 ・高精度試料位置決め 【導入の効果】 ・ナノメートル分解能による高精度位置制御 ・バックラッシュレス構造による高再現性 ・高剛性設計による安定したスキャン ・コンパクト設計で真空装置や研究装置への組込みが容易

レーザー微細加工では、ビーム位置や焦点のわずかなずれが加工品質に直結します。特にマイクロ加工や高アスペクト比加工では、サブミクロンレベルでの精密な位置制御が不可欠です。P-616 NanoCubeは、各軸100 µmストロークを備えたコンパクトなXYZピエゾナノポジショナーです。高剛性フレクシャガイド構造によりバックラッシュのない高直線性動作を実現し、ナノメートル分解能での微細位置調整が可能です。 レーザー加工装置に組み込むことで、 ・ビーム位置の微調整 ・焦点位置の高精度制御 ・加工位置の補正用途 に対応し、微細加工の安定性向上をサポートします。 【活用シーン】 ・レーザー微細加工装置への組込み ・フォーカス位置の精密制御 ・マイクロ穴あけ加工の位置補正 ・薄膜加工・精密パターニング 【導入の効果】 ・ナノメートル分解能による焦点位置の高精度制御 ・バックラッシュレス構造による高再現性 ・コンパクト設計で装置内組込みが容易 ・微細加工品質の安定化

高倍率顕微鏡観察では、わずかな位置ずれが像の鮮明さや再現性に大きく影響します。特に共焦点顕微鏡や蛍光顕微鏡、ライブセル観察では、サブミクロン以下の精密なXYZ制御が不可欠です。P-616 NanoCubeは、各軸100 µmの動作範囲を持つコンパクトなXYZピエゾナノポジショナーです。高剛性フレクシャガイド構造によりバックラッシュのない滑らかな動作を実現し、ナノメートル分解能での微細位置決めが可能です。 Z軸フォーカス制御やXYスキャン用途にも対応し、研究用途から装置組込みまで幅広く活用できます。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡のZ軸フォーカス制御 ・蛍光顕微鏡での多点観察 ・ライブセルイメージング ・高倍率対物レンズ下での微動位置決め ・ナノスケール材料観察 【導入の効果】 ・ナノメートル分解能による高精度フォーカス制御 ・バックラッシュレス構造による高再現性 ・高剛性設計による安定したスキャン動作 ・コンパクト設計で既存顕微鏡への組込みが容易

電子顕微鏡（SEM / TEM）による高分解能観察では、試料の位置決め精度が画像品質を左右します。わずかな振動やクロストークが測定精度に影響を与えるため、高剛性かつ高応答なポジショニングステージが不可欠です。 P-561・P-562・P-563・PIMars Nanopositioning Stages は、静電容量式センサーにより高精度と位置決め安定性を実現。動作量は、XYZ 各100／200／300 µm（モデル別）で再現性は±2nm、リニアリティ：0.03％をもちます。 【活用シーン】 ・電子顕微鏡観察における試料の位置決め ・半導体検査 ・超解像顕微鏡 ・フォトニクス調整 【導入の効果】 ・ナノオーダーでの精密な位置決めにより、観察精度が向上 ・高分解能と高速応答により、効率的な観察が可能 ・高信頼性と長寿命により、安定した運用を実現

高精度計測において、プローブの位置決め精度は測定結果の信頼性を左右します。わずかな振動やクロストークが誤差要因となるため、高剛性かつクローズドループ制御による安定したナノポジショニングが求められます。 P-561・P-562・P-563 PIMars Nanopositioning Stages は、パラレルキネマティクス構造と静電容量式センサを採用したXYZ多軸ピエゾフレクシャステージです。再現性±2 nm、リニアリティ0.03％を実現し、低クロストークで高精度なプローブ位置決めを可能にします。 高共振周波数と優れた動的特性により、高速スキャン計測や微小変位測定にも対応。半導体検査やナノ材料解析など、精密計測用途に最適です。 【活用シーン】 ・半導体検査 ・超解像顕微鏡 ・フォトニクス調整 【導入の効果】 ・高精度な測定結果の実現 ・測定時間の短縮 ・製品品質の向上

光学業界のアライメント作業では、レーザービームや光学素子の精密な位置調整が求められます。特に、高精度なアライメントは、光学システムの性能を左右する重要な要素です。位置ずれは、測定精度の低下やシステムの誤作動を引き起こす可能性があります。S-335 チップ/チルトピエゾプラットフォームは、高速かつ高精度なビームステアリングを実現し、光学アライメント作業の効率化と精度向上に貢献します。 【活用シーン】 ・レーザービームの精密な位置調整 ・光学素子の角度調整 ・画像安定化 ・レーザービーム制御 ・光学通信 【導入の効果】 ・アライメント時間の短縮 ・システムの性能向上 ・測定精度の向上 ・作業効率の改善

S-335 チップ/チルトピエゾプラットフォームは、大型偏向角と高ダイナミック応答を両立する高性能ステージです。ピエゾ素子により摩擦・バックラッシュのない高精度角度制御を可能とし、2軸の平行キネマティクス設計で同等の高性能を実現します。顕微鏡走査や高速イメージング、ビームステアリング用途に最適で、安定した高精度動作をサポートします。詳細な性能はカタログをご覧ください。 【活用シーン】 ・レーザー走査顕微鏡 ・高速試料走査・光学イメージング ・ビームステアリング／走査制御 ・画像処理・ビーム安定化装置 【導入の効果】 ・最大35 mrad 高角度制御で広い走査範囲を実現 ・高ダイナミック性能により高速ステップ＆セトルを可能 ・摩擦・バックラッシュなしの高精度角度制御で高信頼性

レーザー加工では、ビームの位置・角度制御の精度と応答速度が、加工品質と生産性を大きく左右します。特に微細加工や高速スキャンでは、わずかなビームの揺らぎや遅れが加工精度の低下や不良の原因となります。 『S-335』は、最大35 mrad（光学偏向角70 mrad）の大偏向角と、高速応答を両立したチップ／チルト型ピエゾプラットフォームです。パラレルキネマティクス構造により、高速かつ高精度な2軸制御を実現し、ビームステアリングやスキャン用途に最適です。さらに、ゼロバックラッシュのフレクシャガイドとストレインセンサーにより、高い直線性と優れた再現性を確保。高速動作時でも安定したビーム制御が可能です。 【活用シーン】 ・レーザービームの精密な位置決め ・画像安定化 ・レーザービーム制御 ・光学通信 【導入の効果】 ・加工精度と効率の向上 ・高速・高精度な加工の実現 ・多様な加工ニーズへの対応

半導体製造業界では、製造プロセスの高度化に伴い、ウェーハやマスクの位置決めにおける高精度な制御が不可欠です。特に、微細加工や検査工程においては、ナノメートルレベルでの正確な位置決めが製品の品質と歩留まりを左右します。位置決めの精度が低いと、不良品の発生や製造効率の低下につながる可能性があります。N-331 PICMAWalkは、最大50 Nの高推力とサブナノメートル分解能を両立した組込み型リニアアクチュエータです。最大12 mm/sの高速動作に対応し、検査装置のタクトタイム短縮にも貢献します。 摩擦駆動方式により電源オフ時でも位置保持が可能。さらに真空対応仕様により、半導体検査装置やクリーン環境下での使用にも適しています。 【活用シーン】 ・半導体製造装置におけるウェーハ位置決め ・マスクアライナーにおける位置決め ・検査装置における高精度位置決め 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルでの高精度な位置決めを実現 ・製造プロセスの品質向上と歩留まり向上に貢献 ・真空環境下での使用が可能 推力特性、その他仕様、真空対応オプションなどの詳細はカタログをご確認ください。

光学業界では、精密な光学系の調整において、ナノメートルレベルでの正確な位置決めが求められます。特に、光軸調整やレンズの位置決めなど、わずかなズレがシステムの性能に大きな影響を与える場面では、高精度な位置決め能力が不可欠です。不正確な調整は、画像の歪みや測定精度の低下を引き起こす可能性があります。高推力PICMAWalkアクチュエータ N-331は、ナノメートル精度で位置決めを実現し、光学系の性能を最大限に引き出します。 【活用シーン】 ・光学顕微鏡の対物レンズ調整 ・レーザー加工機の光軸調整 ・半導体製造装置におけるウェーハ位置決め 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルでの高精度な位置決め ・光学系の性能向上 ・作業効率の向上

ライフサイエンスおよびバイオテクノロジー分野において、顕微鏡観察時の安定したフォーカシングは、取得データの再現性や解析精度に大きく影響します。特にライブセルイメージングや3D観察では、高速かつ高分解能なZ方向制御が求められます。 P-737 PIFOC Zステージは、対物レンズを直接駆動するピエゾフレクシャー機構を採用し、ナノメートル分解能での高速Z位置決めを実現します。型式により十分なストロークを確保でき、Zスタック取得や長時間観察にも対応可能です。コンパクト設計のため、既存の顕微鏡システムへの組込みも容易です。 【活用シーン】 ・ライブセルイメージング ・共焦点顕微鏡による3D観察 ・細胞培養・組織観察 【導入の効果】 ・高速Zスキャンによる測定時間の短縮 ・ナノメートル分解能による精密フォーカシング ・再現性の高いイメージング ・顕微鏡システムへの容易な統合

顕微鏡を用いた研究分野では、高速かつ高精度なフォーカシングが観察結果の品質や取得データの再現性に大きく影響します。特に、共焦点顕微鏡や蛍光顕微鏡による3DイメージングやZスタック取得では、ナノメートル分解能での高速Z位置決めが求められます。P-737 PIFOC Zステージは、対物レンズを直接駆動するピエゾフレクシャー構造を採用し、高速応答かつ高精度なZ軸制御を実現します。コンパクト設計のため既存の顕微鏡システムにも統合しやすく、研究用途における高度なフォーカシング要求に対応します。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡による3Dイメージング ・蛍光顕微鏡のZスタック取得 ・ライブセルイメージング ・ナノスケール構造の観察 【導入の効果】 ・高速Zスキャンによる測定時間短縮 ・ナノメートル分解能の高精度フォーカシング ・再現性の高いイメージング ・顕微鏡システムへの容易な統合

ナノテクノロジー分野では、ナノスケール構造の観察や評価において、高分解能かつ安定したフォーカス位置制御が求められます。P-725.xCDE2 PIFOCは、最大800 µmの移動量（モデルによる）とサブナノメートル分解能（適切なコントローラ使用時）を備えた対物レンズ用フォーカススキャナです。ピエゾアクチュエータとフレクシャガイド機構により、摩擦やバックラッシュのない滑らかなZ方向動作を実現します。顕微鏡システムにおけるナノスケールでのフォーカス調整やZスキャン用途に適しています。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡におけるZスキャン ・多光子顕微鏡でのフォーカス位置制御 ・半導体ウェハ検査における高さ方向微調整 ・ナノ構造観察時の精密フォーカス制御 【導入の効果】 ・サブナノメートル分解能のフォーカス位置制御 ・バックラッシュのない高再現性動作 ・最大800 µmの広いZ移動量（モデルによる） ・摩耗部品のないフレクシャガイド構造

半導体製造分野では、ウェーハやマスクの位置決めにおいて極めて高い精度と安定性が求められます。微細化の進展により、ナノレベルの位置決め誤差がデバイス性能や歩留まりに直接影響する時代となっています。特に露光装置や検査装置では、再現性と安定性を兼ね備えた精密制御が不可欠です。 P-733.2は、再現性±1nmの高精度XYナノポジショニングを実現。100µmストロークと高剛性パラレルキネマティクス構造により、半導体製造装置への組込み用途にも適しています。高精度位置決めにより、工程安定化と歩留まり向上に貢献します。 【活用シーン】 ・露光装置 ・マスク／ウェーハ位置決め ・検査・計測装置 【導入の効果】 ・再現性±1nmによる工程安定化 ・高精度位置決めによる歩留まり向上 ・安定動作による装置性能の最大化

光学分野における精密な光軸調整や位置決めは、システム性能を最大化するための重要な要素です。特に高分解能顕微鏡や精密計測装置では、わずかな位置ずれが測定精度や再現性に大きく影響します。 高精度パラレルキネマティクス構造を採用した P-733.2 は、再現性±1nm のナノレベル位置決めを実現し、XY軸100µmのストロークで透過光アプリケーションに対応します。研究開発から装置組込みまで、光学系の高精度化や調整作業の効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・高精度顕微鏡 ・マスク/ウェーハの位置決め ・干渉計・光学計測装置 【導入の効果】 ・再現性±1nmの高精度位置決め ・透過光光学系へのスムーズな組込み ・光軸調整時間の短縮と開発効率向上

光計測分野では、光学イメージングや精密測定において、検出位置のフォーカス精度と安定性が結果の精度に直結します。特に微細構造の評価や高速データ取得を必要とするアプリケーションでは、高分解能フォーカス制御と応答性の高い動作性能が求められます。 P-725.xCDE2 PIFOCフォーカススキャナは、サブナノメートル分解能の位置制御と、最大800 µmのストロークを両立。PICMAピエゾアクチュエータと高精度静電容量センサー搭載のフレクシャガイド機構により、光計測装置のZ方向フォーカス調整における高い線形性と再現性を実現します。これにより、光計測におけるフォーカス位置ズレの影響を抑え、測定精度と装置の歩留まり向上に貢献します。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡による高精度計測 ・多光子顕微鏡の高速Z走査 ・高解像度イメージング評価装置 ・光干渉計・位相計測装置 【導入の効果】 ・サブナノメートル分解能のフォーカス制御 ・最大800 µmストロークでの広い測定範囲対応 ・高速応答による検査・計測時間の短縮 ・PIFOC/フレクシャ構造による長期安定性

半導体検査装置では、微細な欠陥の検出や3Dフォーカス評価のために、高分解能なZ方向位置制御と迅速なステップ動作が求められます。P-725.xCDE2 PIFOCフォーカススキャナは、サブナノメートル分解能と最大800 µmのフォーカスレンジを両立した高精度アクチュエータです。 PICMAピエゾアクチュエータと静電容量センサー内蔵フレクシャガイド機構の組合せにより、高い線形性・再現性・安定性を実現します。これにより、半導体検査におけるZフォーカスの高精度制御と高速スキャンが可能になり、検査プロセスの精度向上と装置のスループット改善に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ表面欠陥検査のZフォーカス制御 ・チップ・パッケージ検査における高分解能イメージング ・光・レーザー式検査装置の高速Zスキャン ・光学検査、共焦点光学顕微鏡を用いた欠陥解析 【導入の効果】 ・高精度フォーカス制御による測定精度の向上 ・高速なZステップ動作による検査スループット改善 ・安定した長期動作と装置信頼性の向上

フォトニクス分野では、レーザービームの角度制御や位置安定性が、結合効率やシステム性能を大きく左右します。特に光ファイバー結合やビームステアリング、高速補正制御では、高い応答性と分解能、そして優れたダイナミクス特性が不可欠です。 S-331は、最大10 kHzの高い共振周波数を誇る高速Tip/Tiltピエゾステージです。高分解能かつ高速応答を両立し、リアルタイムでのビーム補正や精密な角度制御を実現。フォトニクスシステムにおける集光効率向上と安定動作に貢献します。 【活用シーン】 ・レーザービームステアリング ・光ファイバーへの高効率結合 ・高速ビーム補正制御 ・光学アライメント／安定化用途 【導入の効果】 ・高速かつ高精度なビーム角度制御 ・結合効率の向上と損失低減 ・リアルタイム補正による安定化 ・フォトニクス装置の性能最大化

光学システムでは、光ビームの微細な角度調整や光軸制御が性能を左右する重要な要素です。特に、レーザー加工や光通信、ビーム制御などの分野では、高速かつ高精度な角度制御が求められます。 S-330 ピエゾチップ／チルトプラットフォームは、ピエゾアクチュエータによる高速応答と高分解能を実現したTip/Tiltステージです。サブミリ秒の応答と優れた位置安定性により、高速ステアリングミラー用途や精密な光学アライメントに最適です。 【活用シーン】 ・レーザービームの精密な角度制御 ・光ファイバーアライメント ・光学顕微鏡の光軸調整 ・ビームステアリング／ビーム安定化 【導入の効果】 ・高速応答による調整時間の短縮 ・高分解能による光学システムの高精度化 ・ダイナミック制御による装置性能の向上

光学業界では、レンズやミラーなどの精密な位置調整が、システムの性能を左右します。特に、微小な調整が求められる場面では、高精度な位置決め能力が不可欠です。調整の精度が低いと、光軸のずれや焦点のズレが生じ、システムの性能低下につながります。U-723は、小型ながら22mmの動作量と10nmの分解能を実現し、光学系の精密な位置調整を可能にします。 【活用シーン】 ・顕微鏡の対物レンズ調整 ・レーザー加工機の光軸調整 ・光学測定器のサンプル位置決め 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる光学性能の向上 ・省スペース化による装置全体の小型化 ・電源OFF時の位置保持による安全性の向上

顕微鏡の分野では、サンプルの精密な位置決めが不可欠です。特に、微小な対象を観察する際には、わずかな振動や位置ずれが、観察結果に大きな影響を与える可能性があります。U-723は、高精度な位置決め性能と、電源OFF時のセルフロック機構により、顕微鏡におけるサンプルの安定した位置合わせに貢献します。 【活用シーン】 ・顕微鏡のサンプル位置決めステージ 【導入の効果】 ・高精度な試料位置決めによる、観察精度の向上 ・ピエゾモーターの駆動原理および電気的制御は低コストで、カスタマイズも可能 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

顕微鏡分野では、試料の精密な走査が求められます。特に、高倍率での観察や微細構造の解析においては、正確な位置決めが不可欠です。位置ずれは、観察像の劣化や測定精度の低下につながる可能性があります。PIHera P-620.1/629.1 シリーズは、0.1 nm分解能と高精度な位置決めにより、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・顕微鏡試料走査 ・光学アライメント ・干渉計測 【導入の効果】 ・高精度な観察と測定 ・微細構造の正確な解析 ・実験効率の向上 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

光学分野における調整作業では、光軸の精密な位置決めが、システムの性能を左右する重要な要素となります。特に、ファイバーアライメントや光学素子の配置においては、サブミクロン単位の正確な調整が求められます。従来のステージでは、調整の自由度が限られ、高精度な位置決めが難しい場合がありました。NanoCube 6軸ピエゾシステムP-616.65Sは、6自由度のナノ制御により、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・ファイバーアライメント ・光学素子の位置調整 ・顕微鏡などの精密機器 【導入の効果】 ・ナノメートル単位の微細位置決めが可能 ・高剛性・低クロストークにより安定した調整を実現 ・長期安定運用によるメンテナンスコスト削減

バイオテクノロジー分野、とくに細胞操作やライブセル観察では、試料の微小な位置ずれが観察結果に大きな影響を与えます。細胞へのダメージを最小限に抑えながら、滑らかで高精度な位置決めを行うためには、サブナノメートル分解能と高い再現性が不可欠です。本製品は、1nm以下の高分解能と±0.2nmの双方向再現性を提供し、細胞操作における高い信頼性と効率性を実現します。 【活用シーン】 ・バイオセンサ評価 ・マイクロ流体デバイスへの組み込み 【導入の効果】 ・実験の再現性向上 ・研究効率の向上 ・詳細な製品仕様については、カタログよりご確認ください。

顕微鏡分野では、観察対象を高精度に走査し、鮮明な画像を得ることが求められます。特に、微細構造の観察や、細胞などの生体試料の観察においては、位置決めの精度が観察結果を大きく左右します。位置決め精度が低いと、ピントが合わず、正確な観察が困難になる可能性があります。小型XY軸ピエゾステージは、1nm以下の高分解能と±0.2nmの双方向再現性により、高精度な走査を実現します。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察における試料の走査 ・高倍率観察時の微調整 ・細胞イメージング 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる鮮明な画像取得 ・観察時間の短縮 ・実験の再現性向上

光学分野における調整作業では、光軸のわずかなずれがシステム性能に大きく影響します。特に微細な位置調整が求められる場面では、高分解能に加え、優れた直線性と再現性が不可欠です。不正確な位置決めは、光学性能の低下や測定誤差の原因となります。 本ナノポジショナは、最大0.1nmの高分解能と0.02%の優れた直線性を実現。さらに、可変ストロークおよびX・XY・Z・XYZの多軸構成に対応し、用途に応じた柔軟なシステム構築が可能です。非接触センサによる直接位置計測とゼロバックラッシュのフレクシャガイドにより、高い安定性と再現性を実現し、光学系の性能を最大限に引き出します。 【活用シーン】 ・顕微鏡試料走査 ・光学アライメント ・干渉計測 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる、光学系の性能向上 ・測定精度の向上 ・作業効率の改善

半導体製造工程では、ウェーハ加工や検査工程においてナノメートルレベルの精密な位置決めが求められます。特に微細化が進む半導体プロセスでは、位置決め精度が製品品質や歩留まりに大きく影響します。 P-611.XZ / P-611.2は、44 mm × 44 mmのコンパクトな設計ながら、最大120 µmの動作量と0.2 nmの高分解能を実現するピエゾナノポジショナーです。高精度フレクシャガイド機構とPICMA(R)ピエゾアクチュエータにより、半導体製造装置や検査装置における安定したナノポジショニングを可能にします。 【活用シーン】 ・半導体製造装置 ・ウェーハ検査装置 ・ナノ加工・微細加工装置 ・光学アライメント装置 【導入の効果】 ・ナノレベルの位置決めによる歩留まり向上 ・高精度ポジショニングによる検査精度向上 ・コンパクト設計による装置組込みの容易化 ・高い再現性による安定したプロセス制御

光学分野における調整作業では、光軸の高精度な位置決めが求められます。特に、微細な調整が必要な光学素子の配置では、わずかな位置ずれが光損失や測定誤差を引き起こし、最終製品の性能や品質に影響を与えます。 本XZ・XYZナノポジショナーは、44mm角のコンパクト設計ながら、最大120µmのストロークと0.2nmの高分解能を実現。ゼロバックラッシュのフレクシャガイド機構により、再現性の高い精密位置決めが可能です。さらに、PICMA(R)ピエゾアクチュエータの採用により、高い信頼性と長寿命を兼ね備えています。 【活用シーン】 ・顕微鏡の対物レンズ調整 ・ファイバーアライメント ・光学素子の位置決め 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる測定精度の向上 ・作業効率の向上 ・製品品質の安定化

光学業界では、高精度な焦点調整が求められます。特に、顕微鏡やレーザー加工機など、微細な操作が要求される場面では、正確な位置決めが不可欠です。わずかなズレが、測定結果の誤差や加工精度の低下につながる可能性があります。当社の小型Z軸ピエゾステージ P-611.Zは、2nm分解能での精密な焦点調整を実現し、光学系の性能を最大限に引き出します。 【活用シーン】 ・顕微鏡の対物レンズの焦点調整 ・レーザー加工機の焦点調整 ・光学測定器の精密位置決め 【導入の効果】 ・高精度な焦点調整による測定精度向上 ・微細加工における歩留まり向上 ・装置の性能向上と安定化

精密測定の分野では、正確な高さ計測が不可欠です。特に、微細な構造物の測定や、表面形状の精密なプロファイリングにおいては、ナノレベルの精度が求められます。従来の測定方法では、振動や温度変化の影響を受けやすく、正確な測定が困難な場合があります。P-611.Zは、最大0.2nmの分解能と0.1%のリニアリティを実現し、高さ計測における課題を解決します。 【活用シーン】 ・半導体デバイスの高さ測定 ・MEMSデバイスの形状測定 ・光学部品の厚さ測定 ・表面粗さ測定 【導入の効果】 ・ナノレベルでの高さ測定が可能 ・測定時間の短縮 ・測定精度の向上 ・製品品質の向上

半導体業界では、製造プロセスの高度化に伴い、ウェーハやマスクの位置決めにおける高い精度が求められます。特に、微細加工や検査工程においては、ナノメートルレベルの位置決め精度が製品の品質を左右します。従来のシステムでは、大型化や高コストが課題となっていました。P-611.1ピエゾナノポジショナーは、設置面積わずか44 x 44mmのコンパクト設計でありながら、最大120μmのストロークと0.2nmの分解能を実現し、半導体製造における精密位置決めを低コストで実現します。 【活用シーン】 ・ウェーハプロービング ・マスクアライメント ・微細加工 ・検査工程 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる歩留まり向上 ・装置の小型化による省スペース化 ・低コスト化による投資対効果の向上

顕微鏡の走査用途では、高精度な位置決めと安定性が求められます。特に、微細構造の観察や画像取得においては、ナノレベルの正確な位置制御が不可欠です。位置決めの精度が低いと、観察対象を見逃したり、画像の解像度が低下する可能性があります。P-611.1ピエゾナノポジショナーは、コンパクト設計と高精度な位置決め性能により、顕微鏡の走査用途に最適です。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察 ・走査型顕微鏡 ・試料の精密位置決め 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる観察精度の向上 ・コンパクト設計による設置スペースの有効活用 ・低コストでの導入

精密機械組立の現場では、部品の正確な位置決めが製品の品質を左右します。特に、微細な部品の組み立てにおいては、高精度な位置決めが求められます。位置決めの精度が低いと、製品の不良や組み立て時間の増加につながる可能性があります。P-611.1ピエゾナノポジショナーは、低価格でありながら、44 x 44mmのコンパクト設計ながら、0.2 nmの分解能と最大120 µmのストロークを実現。ピエゾアクチュエータによる高速応答により、ナノスケールでの高精度かつ安定した位置決めを可能にし、微細組立工程の高度化に貢献します。 【活用シーン】 ・微細部品の精密な位置決め ・小型部品の高速組立 ・高精度な検査工程 【導入の効果】 ・組立精度の向上 ・不良率の低減 ・組立時間の短縮

顕微鏡観察の分野では、試料の正確な位置決めと微細な動きの制御が、鮮明な画像を得るために不可欠です。特に、高倍率での観察や、微小な構造の解析においては、ナノレベルの精度が求められます。位置決めのわずかなずれや振動は、観察結果に大きな影響を与え、正確なデータ取得を妨げる可能性があります。P-734は、このような課題に対し、高精度な位置決めと高速動作で応えます。 【活用シーン】 ・光学顕微鏡 ・走査型顕微鏡 ・表面形状解析 【導入の効果】 ・高精度な観察画像の取得 ・微細構造の正確な解析 ・観察時間の短縮 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。