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ピーアイ・ジャパン株式会社

設立日本法人:1991年 ドイツ本社:1977年
住所神奈川県川崎市幸区堀川町580番地 ソリッドスクエア西館17F
電話044-280-7676
  • 特設サイト
  • 公式サイト
最終更新日:2026/02/10
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ピエゾポジショニングシステム ピエゾポジショニングシステム
リニアアクチュエータ リニアアクチュエータ
リニアステージ リニアステージ
XYステージ XYステージ
ピエソモータ ピエソモータ
電動モータ 電動モータ
精密グラナイト製品 精密グラナイト製品
ピエゾドライブ ピエゾドライブ
6軸システム 6軸システム
モータライズドポジショニング モータライズドポジショニング
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【光学顕微鏡向け】V-308 高精度Z軸フォーカスステージ

最小10nm動作、最大7mm移動、1kg対応。微細観察を支える高精度Z軸

光学顕微鏡の分野では、観察対象の微細構造を鮮明に捉えるために、正確なフォーカス調整が不可欠です。特に、高倍率での観察や、多光子・深部組織イメージングにおいては、ナノレベルでの焦点位置の最適化が、観察の質を大きく左右します。フォーカス調整の精度が低いと、観察像がぼやけ、正確なデータ取得が困難になる可能性があります。V-308は、最小インクリメント10 nm、調整可能な7 mmストロークにより、光学系の焦点位置をナノレベルで最適化し、鮮明な観察像を提供します。 【活用シーン】 ・光学顕微鏡での微細構造観察 ・多光子・深部組織イメージング ・大口径レンズ、長作動距離レンズの使用 【導入の効果】 ・ナノレベルでの正確なフォーカス調整による鮮明な観察像の実現 ・観察データの信頼性向上 ・実験効率の向上

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最大1kgの重力補正 ボイスコイルフォーカスステージ V-308

最小動作10nmで、最大7mm移動、1kgまでの無電源保持 微細観察を支える高精度Z軸

V-308はボイスコイル直動とクロスローラーガイドを組み合わせたZ軸フォーカスステージです。 最小インクリメント10 nm、調整可能な7 mmストロークにより、光学系の焦点位置をナノレベルで最適化できます。 大口径レンズや長作動距離レンズを使用する多光子・深部組織イメージングで高い信頼性を提供します。 クロスローラーガイドの高剛性構造と10 nm分解能エンコーダが、7 mm全域で滑らかなナノポジショニングを保証。 詳細は PDF をダウンロード、またはお問い合わせください。

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【ナノテクノロジー向け】対物フォーカス P-725.xCDE2

サブナノメートル分解能、最大800 µm移動量のフォーカススキャナ P-725.xCDE2

ナノテクノロジー分野では、ナノスケール構造の観察や評価において、高分解能かつ安定したフォーカス位置制御が求められます。P-725.xCDE2 PIFOCは、最大800 µmの移動量(モデルによる)とサブナノメートル分解能(適切なコントローラ使用時)を備えた対物レンズ用フォーカススキャナです。ピエゾアクチュエータとフレクシャガイド機構により、摩擦やバックラッシュのない滑らかなZ方向動作を実現します。顕微鏡システムにおけるナノスケールでのフォーカス調整やZスキャン用途に適しています。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡におけるZスキャン ・多光子顕微鏡でのフォーカス位置制御 ・半導体ウェハ検査における高さ方向微調整 ・ナノ構造観察時の精密フォーカス制御 【導入の効果】 ・サブナノメートル分解能のフォーカス位置制御 ・バックラッシュのない高再現性動作 ・最大800 µmの広いZ移動量(モデルによる) ・摩耗部品のないフレクシャガイド構造

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【バイオテクノロジー向け】P-725.xCDE2

サブナノ分解能・Z方向最大800 µmストローク対応 フレクシャ機構搭載フォーカススキャナ

バイオテクノロジー分野の顕微鏡イメージング用途では、細胞や組織の微細構造を高精細に観察するために、正確なフォーカス制御が不可欠です。特に共焦点顕微鏡や多光子顕微鏡などの3Dイメージングでは、Z軸(フォーカス方向)の高分解能と高速応答性が観察精度に直結します。 P-725.xCDE2 PIFOC Focus Scannerは、PICMAピエゾアクチュエータと静電容量センサーを採用したフレクシャガイド機構により、サブナノメートル分解能での精密フォーカス制御を実現します。また最大800 µmのストロークに対応し、奥行き方向の広い範囲での高速・高精度な走査が可能です。こうした特性により、観察時間を短縮しつつ、フォーカス位置ズレを抑え、結果として実験の信頼性と効率向上に寄与します。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡 ・多光子顕微鏡 ・3Dイメージング ・ライブセルイメージング ・ハイスループット顕微鏡スクリーニング 【導入の効果】 ・高精度なZ方向フォーカス制御 ・広いフォーカスストロークによる対応範囲拡大 ・高速走査による観察効率向上 ・安定したイメージング品質

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【光計測向け】長ストローク対物フォーカス P-725.xCDE2

サブナノ分解能・最大800 µmストローク対応 高速・高精度PIFOCフォーカススキャナ

光計測分野では、光学イメージングや精密測定において、検出位置のフォーカス精度と安定性が結果の精度に直結します。特に微細構造の評価や高速データ取得を必要とするアプリケーションでは、高分解能フォーカス制御と応答性の高い動作性能が求められます。 P-725.xCDE2 PIFOCフォーカススキャナは、サブナノメートル分解能の位置制御と、最大800 µmのストロークを両立。PICMAピエゾアクチュエータと高精度静電容量センサー搭載のフレクシャガイド機構により、光計測装置のZ方向フォーカス調整における高い線形性と再現性を実現します。これにより、光計測におけるフォーカス位置ズレの影響を抑え、測定精度と装置の歩留まり向上に貢献します。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡による高精度計測 ・多光子顕微鏡の高速Z走査 ・高解像度イメージング評価装置 ・光干渉計・位相計測装置 【導入の効果】 ・サブナノメートル分解能のフォーカス制御 ・最大800 µmストロークでの広い測定範囲対応 ・高速応答による検査・計測時間の短縮 ・PIFOC/フレクシャ構造による長期安定性

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【半導体検査向け】P-725.xCDE2 フォーカススキャナ

サブナノ分解能・最大800 µmストローク対応 半導体検査装置向け高精度Zフォーカススキャナ

半導体検査装置では、微細な欠陥の検出や3Dフォーカス評価のために、高分解能なZ方向位置制御と迅速なステップ動作が求められます。P-725.xCDE2 PIFOCフォーカススキャナは、サブナノメートル分解能と最大800 µmのフォーカスレンジを両立した高精度アクチュエータです。 PICMAピエゾアクチュエータと静電容量センサー内蔵フレクシャガイド機構の組合せにより、高い線形性・再現性・安定性を実現します。これにより、半導体検査におけるZフォーカスの高精度制御と高速スキャンが可能になり、検査プロセスの精度向上と装置のスループット改善に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ表面欠陥検査のZフォーカス制御 ・チップ・パッケージ検査における高分解能イメージング ・光・レーザー式検査装置の高速Zスキャン ・光学検査、共焦点光学顕微鏡を用いた欠陥解析 【導入の効果】 ・高精度フォーカス制御による測定精度の向上 ・高速なZステップ動作による検査スループット改善 ・安定した長期動作と装置信頼性の向上

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最大800µm長ストローク対物フォーカス P-725.xCDE2

サブナノの分解能をもち、最大800 µm動作、高速・高精度PIFOC(R)フォーカススキャナ

P-725.xCDE2 はフレクシャガイド構造と PICMA(R) ピエゾを採用した対物レンズ用フォーカススキャナです。 静電容量センサーが サブナノメートル分解能と0.02 % リニアリティを実現し、100 / 400 / 800 µm の長ストロークでも高精度を維持します。 摩耗部ゼロ・潤滑剤不要で長寿命。共焦点・多光子顕微鏡や半導体検査の Z ステップ高速化に貢献します。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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最大8度のボイスコイル駆動TipTiltミラーステージ

衛星通信・ビーム安定化などのアプリケーションに最適な大角度駆動が可能なステージです。

※ビームの偏向角度 最大 8° ※共通の回転中心を持つ直交する2つのチップ/チルト軸 ※パラレルキネマティクスによる両軸の同一動特性 ※コンパクトなデザイン ※フレクシャーによる高耐久性と無摩擦 ※リニアエンコーダによる位置測定 Tip/tilt 動作レンジ: ± 35 (± 2°) mrad 最小移動動作量: < 1 μrad 再現性: < 2 μrad リファレンス精度: ≤ 50 μrad リニアリティ: < 0.2 % ステップ応答: < 20 ms(荷重等による) ミラー最大直径:1インチ 最大荷重:20g OEM供給用につき、複数台~数百台などカスタマイズもご相談ください。

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  • ソレノイド・アクチュエータ
  • 光学実験部品

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A-63xシリーズ 高精度エアベアリング回転ステージ

薄型で、駆動面積と耐荷重の違いで4種類のサイズ違いがあり、エンコーダーも2種類対応の高精度エアベアリング回転ステージです。

エアベアリング回転ステージは、エア浮上ガイドのため一般的な メカニカルガイドによる摩擦や部品精度の影響を受けません。 そのためスティックスリップ、摩擦熱がなく、高速駆動で、 高い平坦度&わずかな偏芯のため、非常に高精度位置決めが可能です。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

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A-688型 エアベアリング大開口回転ステージ

薄型で最大260mmの開口を持つ高精度エアベアリング回転ステージ。一般的なメカニカルガイドによる摩擦や部品精度の影響を受けません

エアベアリング回転ステージは、エア浮上ガイドのため一般的な メカニカルガイドによる摩擦や部品精度の影響を受けません。 そのためスティックスリップ、摩擦熱がなく、高速駆動で、 高い平坦度&わずかな偏芯のため、非常に高精度位置決めが可能です。 ・大開口:260mm、厚さ:113mmの薄型タイプ ・インクリメンタルまたはアブソリュートエンコーダ ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

  • アクチュエーター
  • その他産業用ロボット
  • エンコーダー

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新製品!薄型エアベアリング Z Tip/Tilt ステージ

1枚の薄型プラットフォームで、3軸動作可能な高精度エアベアリングステージをリリース!

PI社は、エアベリング位置決め製品を拡充しています! パラレルキネマティック方式設計による 「A-523型:エアベアリング Z軸、チップ/チルトの3軸駆動ステージ」をリリースしました。 薄型設計で3軸の超高精度位置決めを実現 摩擦のないモーションプラットフォーム 最高の性能、品質、寿命を提供 【特徴】 ・トラベルレンジ: Z軸±2.5 mm、θX, θY軸 ±1° ・耐荷重:8 kg ・プラットフォーム:直径 250 mm ・高さ:60 mm ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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【電子部品向け】エアベアリング A-311

エアベアリング×リニアモータによる非接触駆動。基板・部品検査の高速化と安定化に貢献

電子部品業界の基板検査や部品検査では、高い位置決め精度と高速なスキャン動作が求められます。特に、微細化が進む電子部品の検査においては、安定した繰り返し精度と滑らかな走行性能が、検査品質や処理能力に大きく影響します。 PIglide IS A-311 は、エアベアリングによる非接触支持とリニアモータ駆動を採用した高精度XYステージです。機械的摩耗やスティックスリップを排除することで、高速かつ滑らかなスキャン動作を実現し、基板検査やウェハ検査における検査時間の短縮と精度の安定化に貢献します。 【活用シーン】 ・基板検査 ・ウェハ検査・電子部品検査 ・レーザー加工・マーキング工程 【導入の効果】 ・高速スキャンによる検査時間の短縮 ・安定した位置決めによる検査精度の向上 ・検査プロセスの効率化・再現性向上

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【光学向け】エアベアリング A-311

エア浮上×リニアモータで摩耗ゼロ。最大速度2m/s、センサー分解能1nm

光学レンズ研磨・加工分野では、レンズの形状精度や表面品質が最終的な光学性能を大きく左右するため、極めて高い位置決め精度と安定性が求められます。特に研磨や表面加工工程では、わずかな振動や摺動摩擦が加工精度や再現性に影響を及ぼす可能性があります。 PIglide IS A-311 は、エアベアリングによる非接触支持とリニアモータ駆動を採用した高精度XYステージです。機械的摩擦やスティックスリップを排除することで、滑らかで安定した平面動作を実現し、光学用途に求められる高い位置決め精度と繰り返し性を支えます。 光学レンズの研磨工程や、精密な表面加工・評価工程において、加工品質の安定化やプロセス再現性の向上に貢献します。また、エアベアリング構造により発塵を抑えられるため、クリーンルーム環境での使用にも適しています。 【活用シーン】 ・レンズ研磨工程 ・高精度な表面加工が必要な場面 ・クリーンルーム環境での使用 【導入の効果】 ・高精度な研磨を実現 ・タクトタイムの短縮 ・製品の品質向上

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【半導体検査向け】エアベアリング A-311

エア浮上×リニアモータで高速・高精度ウェーハ検査を実現

半導体業界では、ウェーハの品質管理と歩留まり向上のため、高精度な検査が不可欠です。特に、微細な欠陥や異物の検出は、製品の信頼性を左右する重要な要素となります。従来の検査方法では、検査速度や分解能に限界があり、タクトタイムの増加や検査精度の低下を招く可能性がありました。PIglide IS A-311は、エアベアリングとリニアモータの組み合わせにより、高速かつ高精度なウェーハ検査を実現し、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・ウェーハ表面の異物検査 ・パターン寸法測定 ・欠陥検出 【導入の効果】 ・検査時間の短縮 ・検査精度の向上 ・歩留まりの改善

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300mm高速XYエアベアリングプラナースキャナ A-311

エア浮上×リニアモータで摩耗ゼロ。最大速度2m/s、センサー分解能1nm

PIglide IS A-311は、ステージ駆動面を空気で浮上させるエアベアリング式XYプラナースキャナーです。 積み重ね型より薄いフラット構造で装置設計をコンパクト化しながら、300 mm×400 mmの広い走査範囲と1 nmセンサー分解能で動作。 摩擦ゼロのリニアモータ駆動は最大2 m/sの高速応答、147 N可搬能力によりレーザー加工や半導体ウェハ検査のタクト短縮に貢献します。 発塵レス構造でクリーンルーム対応、豊富なコントローラ/APIがXY同期やエリアスキャンの統合を容易にします。 詳細は PDF をダウンロード、またはお問い合わせください。

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【フォトニクス向け】高速Tip/TiltピエゾステージS-331

共振周波数10 kHz。高速・高分解能を両立するフォトニクス向けTip/Tiltステージ

フォトニクス分野では、レーザービームの角度制御や位置安定性が、結合効率やシステム性能を大きく左右します。特に光ファイバー結合やビームステアリング、高速補正制御では、高い応答性と分解能、そして優れたダイナミクス特性が不可欠です。 S-331は、最大10 kHzの高い共振周波数を誇る高速Tip/Tiltピエゾステージです。高分解能かつ高速応答を両立し、リアルタイムでのビーム補正や精密な角度制御を実現。フォトニクスシステムにおける集光効率向上と安定動作に貢献します。 【活用シーン】 ・レーザービームステアリング ・光ファイバーへの高効率結合 ・高速ビーム補正制御 ・光学アライメント/安定化用途 【導入の効果】 ・高速かつ高精度なビーム角度制御 ・結合効率の向上と損失低減 ・リアルタイム補正による安定化 ・フォトニクス装置の性能最大化

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【光通信向け】高速Tip/Tiltピエゾステージ S-331

10 kHzの高速応答。高分解能2軸Tip/Tiltで光通信のビーム制御を高度化

光通信分野では、光ファイバー結合や自由空間光通信において、ビームの角度制御精度と応答速度が通信品質を左右します。わずかなズレや振動でも結合効率の低下やリンク不安定化につながるため、高速かつ高分解能な補正機構が不可欠です。 S-331は、最大10 kHzの高い共振周波数と±5 mradの動作角を備えた2軸Tip/Tiltピエゾステージです。優れたダイナミクス性能によりリアルタイムなビーム補正を実現し、光信号の安定化と高効率な結合をサポート。次世代光通信システムの高信頼化に貢献します。 【活用シーン】 ・光ファイバー高精度アライメント ・自由空間光通信(FSO) ・レーザービームステアリング ・光リンクの安定化制御 【導入の効果】 ・高速・高精度なビーム角度制御 ・結合効率の向上と損失低減 ・リアルタイム補正による通信安定化 ・システム全体の性能向上

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【レーザー加工向け】高速Tip/TiltピエゾステージS-331

10 kHzの高速応答でビームを精密制御。レーザー加工向けTip/Tiltステージ

レーザー加工では、ビームの角度や位置のわずかな変動が、加工精度や仕上がり品質に直結します。特に微細加工や高速スキャニング工程では、高速応答性と高分解能を兼ね備えたビーム制御機構が不可欠です。 S-331は、最大10 kHzの高い共振周波数と±5 mradの動作角を備えた高速Tip/Tiltピエゾステージです。優れたダイナミクス性能によりリアルタイムでのビーム補正を実現し、焦点ずれや加工ムラを低減。高精度かつ安定したレーザー加工プロセスの構築に貢献します。 【活用シーン】 ・レーザービームの高速ステアリング ・微細穴あけ/溝加工などの精密加工 ・加工中のリアルタイムビーム補正 ・高精度アライメント制御 【導入の効果】 ・加工精度と再現性の向上 ・高速応答による加工効率の改善 ・加工ムラ低減と歩留まり向上 ・装置性能の高度化

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高速Tip/Tiltピエゾステージ S-331

動作角:±5 mrad (光学各10 mrad)、10 kHzの共振周波数により、ダイナミック&高分解能&高速動作

高速ビームステアリング向け2軸 Tip/Tiltプラットフォーム。 パラレルキネマティック設計と歪みゲージ位置センサにより、フィードバック制御を行い、高速かつ高精度な位置決めとダイナミクス動作実現します。 レーザービーム・画像安定化・衛星光通信など、高ダイナミクスが必須のアプリケーションに最適。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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132 mm幅薄型高速リニアモーターステージ V-857

132mm幅、最大速度5 m/s、0.1 µm最小動作量のリニアモータステージ

・幅132 mm、高さ94mmのコンパクト筐体 ・動作量:400mm、800mmの2タイプ ・コアレスリニアモータ駆動で、最大速度:5000mm/s ・インクリメンタルとアブソリュートエンコーダータイプ:最小動作量は0.1µm ・耐荷重は1000Nあり、”V-857.TTx”モーションプラットフォームを用いて固定 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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800mm動作量のリニアモーターステージ V-855

0.1 µmの最小インクリメンタルモーションで、無負荷時の最大速度4000mm/秒、最大加速度50 m/s²、耐荷重600N

磁気ダイレクトドライブを採用したV-855は、600Nを支えるクロスローラーガイドとアイアンレス3相リニアモータを組み合わせ、振動レスで滑らかな高速搬送を実現します。 200 / 400 / 800 mmの3ストロークから選択でき、アブソリュートエンコーダモデルは原点出し不要で稼働率を向上。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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ACS社製モータステージ用モーションコントロールシステム

産業機械、半導体設備など、高精度に多軸モーションコントロールを必要とするお客様に最適

・高精度 最大64ch多軸同期モーション ・高度で高速なサーボ制御アルゴリズム ・EtherCATベースのユニバーサルサーボドライブ設計 ・レーザーアプリケーションに適したトリガー機能

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F-712.PM1型 光学パワーメーター

・20KHzの信号帯域幅 ・ハイダイナミクスレンジ ・周波数レンジ:400-1550nm ・入力電流レンジ:~1mA

この光パワーメータは、光信号を高分解能かつ極めて高帯域幅の電圧信号に変換することが可能です。 ファイバ入力の代替として、外部からの電流入力も可能で、フォトダイオードを接続し、ダイオード電流を変換することができます。 光パワーメータの波長範囲が広いため、切り替えなしで可視と赤外の両方エリアで作業が可能です。 この製品は、私たちのヘキサポッドやピエゾを用いた光学アライメントシステムに最適です。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

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小型デジタルピエゾコントローラ E-709.1C1L

24 bit DAC×20 kHzサンプリングレート、アナログ制御も対応1軸ピエゾコントローラ

E-709.1C1L型コントローラは、静電容量式センサーを備えたピエゾベースの1chナノポジショニングシステムです。 ・出力電圧 -30~ 130 V ・ダイナミックアプリケーション向けに最適化されたアンプとセンサ ・デジタルリニアリゼーション ・インターフェース:USB・SPI・RS-232、0~+10 Vアナログ入力制御 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

  • コントローラ
  • サーボ
  • アンプ

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【光学部品向け】6自由度フォトニクスアライメント F-713

高速6自由度制御でアライメント時間を大幅短縮するフォトニクスソリューション

光通信分野やフォトニクスデバイス開発では、光ファイバーとフォトニックチップ間の高精度アライメントが接続品質を大きく左右します。わずかな位置ずれが結合効率の低下や信号損失につながる場合があります。F-713.H コンパクト高速6自由度フォトニクスアライメントシステムは、Hexapodベースの6DoF制御と高速スキャン機能により、効率的な自動アライメントを実現します。マルチチャネルアプリケーションにも対応し、研究用途から量産プロセス開発まで幅広く活用可能です。コンパクト設計のため、装置組み込みや生産ラインへの統合にも適しています。 【活用シーン】 ・光ファイバーとフォトニクスデバイスの自動アライメント ・PIC(フォトニック集積回路)の結合評価 ・シリコンフォトニクス開発 ・光通信モジュールの組立・評価 【導入の効果】 ・アライメント工程の高速化 ・結合効率の安定化 ・再現性の高い光学接続 ・研究から量産プロセス開発まで対応可能

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【防衛光学向け】高速・6自由度フォトニクスアライメント

アライメント時間を99%削減する、PIの高速光学アライメントソリューション

防衛光学分野では、光学部品の高精度なアライメントが、システムの性能を左右する重要な要素です。特に、レーザーやセンサーなどの精密な光学系においては、微小なズレが性能劣化や誤作動を引き起こす可能性があります。高速かつ正確なアライメントは、これらの問題を解決し、システムの信頼性を向上させるために不可欠です。当社の高速・6自由度フォトニクスアライメント F-713.Hxxは、これらの課題に対応します。 【活用シーン】 ・光学センサーの調整 ・レーザーシステムの構築 ・光学部品の製造 【導入の効果】 ・アライメント時間の短縮 ・システムの高性能化 ・歩留まりの向上

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【研究向け】6自由度フォトニクスアライメント F-713.Hxx

ナノレベル精度と高速スキャンを両立する6DoFフォトニクスアライメント

研究・実験分野において、フォトニクスデバイスや光ファイバーの高精度アライメントは、結合効率や測定結果の再現性に大きく影響します。特にSiPhウェーハやPICを用いた評価では、ナノメートル分解能での6自由度位置決めと、高速な探索動作が求められます。F-713コンパクト高速6自由度フォトニクスアライメントシステムは、Hexapodベースの6DoF制御と高速スキャン機能を組み合わせ、効率的な自動アライメントを実現します。マルチチャネル測定にも対応し、研究室環境での柔軟な実験構成が可能です。コンパクト設計のため、光学テーブル上での使用や既存実験系への統合にも適しています。 【活用シーン】 ・SiPhウェーハおよびPICの光結合評価 ・光ファイバーとフォトニックデバイスのアライメント実験 ・シリコンフォトニクス研究 ・光学系の微調整および最適化 【導入の効果】 ・アライメント工程の高速化 ・実験時間の短縮 ・再現性の高い光学評価 ・ナノレベルの高精度位置決め

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高速・6自由度フォトニクスアライメント F-713.Hxx

アライメント時間の99%削減する、PIの高速光学アライメントソリューション

ヘキサポッド6軸モーターステージと、XYZ軸ピエゾステージを組み合わせた高速・高精度フォトニクスアライメントシステム。 SiPhウェーハ、フォトニックデバイス、PIC、および光ファイバーに最適化されたスキャン/アライメントルーチン、強力な配列アライメントアルゴリズムで、高速・高精度、かつ同時アライメントを可能にします。 ヘキサポッドは、6軸をDCサーボモータ駆動で動作、サブミクロン位置決めが可能。また様々なデバイスに合わせて、任意に回転中心の設定が可能です。 XYZ軸ピエゾステージは、ナノレベル位置決めが可能で、高い共振周波数で高速応答・スキャンを可能にします。 WindowsおよびLinux上のC#、Python、LabVIEW、MATLABなどの一般的な言語のサポートを含む、迅速なプロセス開発のための広範で深いソフトウェアサポート。

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多軸対応汎用 高精度1軸リニアステージ L-836

60 mm幅・最大動作量200 mm、オプションで折返し駆動タイプ、保持ブレーキタイプ

動作量は、25〜200 mmまで6種をラインアップ ・2相ステッピングモーター駆動で、精密ボールねじ、循環ボールベアリング内蔵 ・最大速度:80mm/s ・最小動作量:0.3µm~、再現性:2µm~ ・耐荷重:150N ・折り畳み駆動タイプは、設置面積を削減 ・垂直動作用に保持ブレーキ付モデル ・リニアエンコーダ(オプション) ・XY軸、XYZ軸などにも拡張可能 レーザー加工、試験・検査、電子機器製造、光ケーブル製造、光学アセンブリ、シリコンフォトニクスなどに最適。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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高耐荷重リニアステージ『L/V-412,L/V-417』

最大トラベルレンジは813mm!循環式ボールベアリング採用により450Nまで耐可

『L/V-412,L/V-417』は、エンコーダの高解像度により、 性能ごとのトラッキングが向上するPIMag 高耐荷重リニアステージです。 トラッキングエラーが少なくなり、整定時間が短縮。 最大限の柔軟性のために、インクリメンタルエンコーダと アブソリュートエンコーダを選択することができます。 【特長】 ■最大トラベルレンジ:813mm ■定格フォース:87N ■インクリメンタル/アブソリュートエンコーダ選択可能 ■循環式ボールベアリング採用により450Nまで耐可 ■カバーストラップ採用により、パーティクルを防塵可 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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クリアアパーチャ設計 高精度XYステージ V-738

動作量は102×102 mmで、リニアモータとリニアエンコーダで、最小動作0.02µm、最大速度500 mm/sを実現

PI Magリニアモータ駆動のV-738は、光学式インクリメンタルエンコーダによりシステム分解能1 nm。XY方向それぞれ102 mmのストロークで、最大速度500 mm/s。コアレスのため速度リップルが小さく、低速域でも滑らかな動作を実現しています。 150 mm四方の開口により、レーザ光学ヘッドや検査カメラを内部に配置でき、装置の省スペース化に貢献 非接触式の光学式リニアエンコーダにより、プラットフォーム上で位置を直接かつ高精度に測定します。非線形性、機械的バックラッシュ、弾性変形の影響を受けません。 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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【研究開発向け】自動化技術分野に適したリニアステージ V-408

アイロンコア3相リニアモータ搭載、高精度位置決めを実現するリニアステージ

研究開発分野における実験では、精密な位置決めが実験結果の正確性を左右します。特に、微細な動きを制御する必要がある場合、位置決めの精度と安定性が重要になります。精度の低い位置決めは、実験データの信頼性を損ない、研究の遅延につながる可能性があります。PIMag リニアステージ『V-408』は、高精度な位置決め性能を提供し、研究開発における実験の効率化と精度の向上に貢献します。 【活用シーン】 産業および研究分野。 高い動特性と精度が求められるオートメーション技術分野。 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによるデータの信頼性向上 ・コンパクト設計による省スペース化 ・高耐荷重対応のクロスローラーガイドで摩擦を減少 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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高い動的性能と精度の分野に リニアステージ『V-408』

アイロンコア3相リニアモータ!駆動力を摩擦プラットフォームに伝達するコンパクト設計のPIMag リニアステージ

『V-408』は、3相の磁気ダイレクトドライブはドライブトレイン内で 機械部品を使用しないため、駆動力を摩擦プラットフォームに 伝達するPIMag リニアステージです。 クロスローラーガイドにより、ボールガイドのボールの点接触ではなく 強化ローラーが線で接触するようになっています。 これにより剛性が著しく増すとともに必要なプリロードが抑えられているため、 摩擦が低減しスムーズな動作が可能。クロスローラーガイドには、 ガイド精度が高く耐荷重が大きいという特長もあります。 【特長】 ■アイロンコア3相リニアモータ ■高耐荷重のクロスローラガイド ■最小インクリメンタルモーション 20nm ■双方向繰り返し性 ±0.1μm ■コンパクト設計 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【顕微鏡向け】U-723 XY軸小型リニアステージ

顕微鏡のサンプル位置決めに。高精度、省スペース、セルフロック。

顕微鏡の分野では、サンプルの精密な位置決めが不可欠です。特に、微小な対象を観察する際には、わずかな振動や位置ずれが、観察結果に大きな影響を与える可能性があります。U-723は、高精度な位置決め性能と、電源OFF時のセルフロック機構により、顕微鏡におけるサンプルの安定した位置合わせに貢献します。 【活用シーン】 ・顕微鏡のサンプル位置決めステージ 【導入の効果】 ・高精度な試料位置決めによる、観察精度の向上 ・ピエゾモーターの駆動原理および電気的制御は低コストで、カスタマイズも可能 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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超音波ピエゾモーター搭載 コンパクトXYステージ U-723

サイズ42x42x21mm、22 mm動作量、最大速度200 mm/s、電源オフ時はセルフロックで位置保持

U-723はPILINE超音波ピエゾモータを採用した42x42 mm×高さ21 mmのXY軸小型リニアステージです。 小型ながら、22 mmXY軸の動作量、最大速度200mm/s。 内蔵インクリメンタルリニアエンコーダーでセンサー分解能10nm、最小動作量0.1µm、双方向再現性 ±0.2µmを実現。 電源OFF時には、2Nのセルフロック保持力で位置を保持。 アプリケーション例は、マイクロマニピュレーション、オートメーション、バイオテクノロジー、サンプル操作、サンプルポジショニング、限られたスペースでの動作。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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高さ14 mmの薄型ピエゾモータ駆動高速回転ステージ U-651

高さ14 mmの薄型、φ36 mmの開口、停止時はセルフロック

PILine(R)超音波ピエゾモータを採用した『U-651』は、わずか14 mmの高さで、>360 °の回転動作するステージです。 最大速度540 °/sで、0.3 N·mトルク、光学角度エンコーダで、12 µradの最小動作を実現。 φ36 mmの開口で、レーザ光路や配線を通すことも可能。セルフロック機構が通電ゼロでも位置保持。 クロスローラーベアリングで耐荷重は20N。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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【光学調整向け】超音波モータ駆動小型回転ステージ U-628

サイズ50x50x19mm、無限回転、最大720°/s、電源OFF時セルフロック

光学業界における調整作業では、精密な角度調整が求められます。特に、光軸調整やレンズの微調整においては、高精度な位置決めと安定した動作が不可欠です。精度の低い調整は、光学系の性能低下や測定誤差につながる可能性があります。U-628は、高精度なインクリメンタル角度センサーとセルフロック機構により、光学調整作業の効率化と精度の向上に貢献します。 【活用シーン】 ・フィルタ角度最適化 ・偏光素子調整 ・光学計測系のキャリブレーション 【導入の効果】 ・波長依存性が高いフィルタの角度調整 ・偏光子・波長板角度の精密制御 ・干渉計、顕微鏡光路の角度最適化

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超音波ピエゾモーター搭載 小型・中空ロータリーステージU-628

サイズ50x50x19mm、無限の回転量、最大速度720°/s、電源オフ時はセルフロックで位置保持

U-628はPILINE超音波ピエゾモータを採用した50x50 mm×高さ19 mm、耐荷重 5Nの小型回転ステージです。 内蔵インクリメンタル角度センサーでセンサー分解能17μrad、最小動作量51μrad、双方向再現性 ±102μradを実現。 電源OFF時には、0.03 N・mのセルフロック保持力で位置を保持。 ※詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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【顕微鏡向け】高精度位置計測を実現する小型リニアステージ

マイクロマニピュレーションに適した小型リニアステージ

顕微分野では、試料の精密な位置決めが、観察の精度を左右する重要な要素です。特に、微小な対象をナノメートルレベルでの正確な位置制御が求められます。位置決めのわずかなズレが、観察像の劣化や、正確なデータ取得の妨げになる可能性があります。U-521は、小型ながら高精度な位置決めを実現します。 【活用シーン】 ・微小対象の正確な位置決め 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる観察精度の向上 ・機械的摩擦が少ない ・熱影響が少ない 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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超音波ピエゾモータ搭載の小型リニアステージ U-521

サイズ35x35x15mm、18 mm動作量、最大速度200 mm/s、電源オフ時はセルフロックで位置保持

U-521は超音波ピエゾモータを搭載した、小型リニア動作ステージです(省スペース設計:幅35 mm、高さ15 mm)。 小型ながら、18 mm動作量、最大速度200mm/s。 内蔵インクリメンタルリニアエンコーダーで、高精度位置計測を実現。 電源OFF時には、2Nのセルフロック保持力で機械的に安定した状態で位置を保持します。そのため、消費電力および発熱を大幅に低減できます。 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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【顕微鏡走査向け】S-335チップ/チルトピエゾプラットフォーム

±35 mradの高角度制御と高速応答を実現するピエゾチップ/チルトプラットフォーム

S-335 チップ/チルトピエゾプラットフォームは、大型偏向角と高ダイナミック応答を両立する高性能ステージです。ピエゾ素子により摩擦・バックラッシュのない高精度角度制御を可能とし、2軸の平行キネマティクス設計で同等の高性能を実現します。顕微鏡走査や高速イメージング、ビームステアリング用途に最適で、安定した高精度動作をサポートします。詳細な性能はカタログをご覧ください。 【活用シーン】 ・レーザー走査顕微鏡 ・高速試料走査・光学イメージング ・ビームステアリング/走査制御 ・画像処理・ビーム安定化装置 【導入の効果】 ・±35 mrad 高角度制御で広い走査範囲を実現 ・高ダイナミック性能により高速ステップ&セトルを可能 ・摩擦・バックラッシュなしの高精度角度制御で高信頼性

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~70mradのチップ/チルトピエゾプラットフォーム S-335

±5 mrad×3 ms収束、10 kHz共振――0.1 µrad分解能の高速ビームステア

0.7kHz (1インチミラー時)の共振周波数により、ダイナミックな動きと高速なステップ&セトリングを実現。 パラレルキネマティック設計:1つの共通のピボットポイントで、2軸直交プラットフォーム ミラーなし、1/2インチミラー、1インチミラータイプ。 画像安定化、レーザービーム制御、光学通信など高速・高精度偏向が求められるアプリケーションに最適です。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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【顕微鏡向け】XYZ軸ピエゾステージ P-616

高倍率観察をナノメートル分解能で支える、100 µm × 3軸コンパクトXYZピエゾステージ

高倍率顕微鏡観察では、わずかな位置ずれが像の鮮明さや再現性に大きく影響します。特に共焦点顕微鏡や蛍光顕微鏡、ライブセル観察では、サブミクロン以下の精密なXYZ制御が不可欠です。P-616 NanoCubeは、各軸100 µmの動作範囲を持つコンパクトなXYZピエゾナノポジショナーです。高剛性フレクシャガイド構造によりバックラッシュのない滑らかな動作を実現し、ナノメートル分解能での微細位置決めが可能です。 Z軸フォーカス制御やXYスキャン用途にも対応し、研究用途から装置組込みまで幅広く活用できます。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡のZ軸フォーカス制御 ・蛍光顕微鏡での多点観察 ・ライブセルイメージング ・高倍率対物レンズ下での微動位置決め ・ナノスケール材料観察 【導入の効果】 ・ナノメートル分解能による高精度フォーカス制御 ・バックラッシュレス構造による高再現性 ・高剛性設計による安定したスキャン動作 ・コンパクト設計で既存顕微鏡への組込みが容易

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【レーザー加工向け】XYZ軸ピエゾステージ P-616

微細レーザー加工の焦点・位置制御を支える、100 µm × 3軸ナノポジショナー

レーザー微細加工では、ビーム位置や焦点のわずかなずれが加工品質に直結します。特にマイクロ加工や高アスペクト比加工では、サブミクロンレベルでの精密な位置制御が不可欠です。P-616 NanoCubeは、各軸100 µmストロークを備えたコンパクトなXYZピエゾナノポジショナーです。高剛性フレクシャガイド構造によりバックラッシュのない高直線性動作を実現し、ナノメートル分解能での微細位置調整が可能です。 レーザー加工装置に組み込むことで、 ・ビーム位置の微調整 ・焦点位置の高精度制御 ・加工位置の補正用途 に対応し、微細加工の安定性向上をサポートします。 【活用シーン】 ・レーザー微細加工装置への組込み ・フォーカス位置の精密制御 ・マイクロ穴あけ加工の位置補正 ・薄膜加工・精密パターニング 【導入の効果】 ・ナノメートル分解能による焦点位置の高精度制御 ・バックラッシュレス構造による高再現性 ・コンパクト設計で装置内組込みが容易 ・微細加工品質の安定化

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【ナノテクノロジー向け】XYZ軸ピエゾステージ P-616

ナノスケール位置制御を支える、100 µm × 3軸コンパクトXYZピエゾステージ

ナノテクノロジー分野では、試料やプローブの位置制御精度が実験結果の再現性を左右します。走査型プローブ顕微鏡(SPM)やナノリソグラフィー用途では、ナノメートル分解能での安定したXYZ制御が求められます。P-616 NanoCubeは、各軸100 µmのストロークを備えたコンパクトなXYZピエゾナノポジショナーです。高剛性フレクシャガイド構造によりバックラッシュのない滑らかな動作を実現し、ナノメートル分解能での高精度位置決めが可能です。 研究用途から装置組込みまで対応し、ナノスケール計測・加工・評価を支える位置制御プラットフォームとして活用されています。 【活用シーン】 ・走査型プローブ顕微鏡(SPM/AFM/STM) ・ナノリソグラフィー装置 ・ナノ材料評価 ・ナノデバイス研究開発 ・高精度試料位置決め 【導入の効果】 ・ナノメートル分解能による高精度位置制御 ・バックラッシュレス構造による高再現性 ・高剛性設計による安定したスキャン ・コンパクト設計で真空装置や研究装置への組込みが容易

  • アクチュエーター
  • 直交ロボット
  • 圧電デバイス

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