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ピーアイ・ジャパン株式会社

設立日本法人:1991年 ドイツ本社:1977年
住所神奈川県川崎市幸区堀川町580番地 ソリッドスクエア西館17F
電話044-280-7676
  • 特設サイト
  • 公式サイト
最終更新日:2026/03/05
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リニアアクチュエータ リニアアクチュエータ
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ヘキサポッド ヘキサポッド
モータライズドポジショニング モータライズドポジショニング
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小型XY軸ピエゾステージ P-620.2~P-629.2

最大1800µmの長ストロークとナノ精度で、微細な位置決めを実現

P-620.2〜P-629.2 PIHera(R)シリーズは、長寿命のPICMA(R)アクチュエータを採用したXY軸ピエゾナノポジショニングステージです。 静電容量式センサーを用いたクローズドループ制御により、優れた直線性と安定性を両立。 1nm以下の高分解能、±0.2nmの双方向再現性を提供し、品質保証試験や半導体検査など高信頼性が要求される現場でも安心して利用可能。 筐体は極めて小型で、装置組込みにも最適です。

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エアベアリングボイスコイルリニアステージA-142PIglide

5nm分解能・200mm/sで高速・滑らかなサブミクロン動作を実現

A-142は、10mmの移動範囲で最大200mm/sの速度と10m/s²の加速度を実現する、ボイスコイルモータ駆動の小型リニアステージです。 5nmのセンサ分解能、±0.2µmの位置精度、最小50nmのインクリメンタル動作が可能。 摩耗ゼロのエアベアリング構造により、潤滑剤不要・クリーンルーム対応で、半導体検査や光学調整、計測アプリケーションに最適です。

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クリーンルーム環境でも使用可能・摩擦レス・3軸方向 A-65x

3軸回転を摩擦ゼロで実現する半球型エアベアリング

A-65x PIglide HBは、半球形エアベアリングを採用した高精度モーションモジュールです。エアベアリングによる非接触支持構造により摩擦が発生せず、3軸(θX・θY・θZ)方向の回転運動を極めて滑らかに実現します。 高い剛性と耐荷重性能を持ちながら低慣性を実現しており、研究用途から産業用途まで幅広いポジショニングおよびシミュレーション用途に対応します。 また、パーティクルを発生しない構造のためクリーンルーム環境でも使用可能で、光学アライメントや精密接触装置、宇宙関連研究などの高度なアプリケーションに適しています。

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エアベアリング回転ステージ PIglideA-62x高精度モデル

摩擦ゼロの回転精度。平面度200nm以下で光学検査に最適

PIglide A-62xシリーズは、光学アライメントや精密検査用途に求められる高精度・高安定性を追求したエアベアリング回転ステージです。 摩擦のない非接触回転により、ウォブルや偏心を極限まで抑制。平面度・偏心率は200nm以下と、ナノメートル単位の制御を実現します。 トルクモーターとオプションの絶対値エンコーダにより、位置決めも迅速かつ安全。クリーンルーム対応、水平・垂直どちらの設置にも対応し、実験環境に応じた柔軟なシステム構築が可能です。

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モーションコントローラ A-81x PIglide 1〜4軸対応

1台で1~4軸、卓越した拡張性と省スペース性能を実現

A-81x PIglide モーションコントローラは、エアベアリングステージ用に設計された多軸対応の超精密モーション制御ソリューションです。 最大4軸までの制御を1台で可能とし、真空・非磁性環境下での運用にも対応。 ナノメートルスケールでの位置決めを可能とする高精度制御と、柔軟な構成が特長です。 EtherCATやアナログ信号による高速インターフェースに対応し、半導体リソグラフィ、顕微鏡ステージ、計測装置などの高度な産業用途にも適応。 安全機能や温度センサ入力も搭載し、信頼性の高い長時間運用を実現します。

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E-881 BIX モーションコントローラ

多様な制御環境に対応!装置組込みに最適な制御ソリューション

E-881 BIX モーションコントローラは、装置組み込み用途に適したモジュール式のピエゾモーションコントローラです。 Ethernet/USBによる柔軟な接続対応。Python、C++、LabVIEWなど、各種開発環境との互換性があり、システム開発をスムーズに進められます。 高性能ながらコンパクトな筐体により、省スペース化と制御の高性能化を両立。装置開発の効率向上をサポートします。

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小型・高分解能・小型ピエゾ駆動リニアステージ B-421

最大33mmの移動量!超小型で高精度ピエゾ駆動リニアステージ

「B-421 BIX」は、筐体幅25mmで厚さ11mmと小型で、最大33mmの移動量を実現。 ピエゾ慣性ドライブにより、比較的高い保持力、高い分解能と位置再現性を発揮します。多軸に組合せも容易に可能で、装置設計におけるスペース制限を解決しつつ、ナノメートルスケールの動作を可能にします。

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小型リニアエアベアリングステージ A-143 高精度タイプ

摩擦ゼロ。25 mmの移動範囲で±0.2 µmの高精度位置決めを実現

A-143 PIglideは、25 mmの移動範囲を持つ小型リニアエアベアリングステージで、非接触構造により摩耗や潤滑の必要がなく、長寿命かつクリーンルーム対応を実現。 最小インクリメント0.025 µm、位置精度±0.2 µm、真直度±0.05 µmとナノメートルレベルの精度を誇り、計測・検査・光学機器のステージングに最適。 リニアモーターと32ビットBiSS-Cエンコーダを内蔵し、最大速度390 mm/s、加速度10 m/s²の高性能モーションが可能です。

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高性能・省スペース設計 直動エアベアリングステージ A-121

非接触・無摩耗で長寿命、ナノメートル単位の滑らかな動作を実現

PIglide A-121は、磁気ダイレクトドライブとエアベアリング技術を融合した直動リニアステージです。 摩擦やバックラッシュが一切なく、優れた真直度(最大±50nm)と繰返し精度(最大±10nm)を実現します。 非接触構造により長寿命でメンテナンスも最小限。 最大行程500mm、最大速度500mm/sまで対応。高精度な位置決めや速度制御が求められる半導体検査装置や精密測定装置に理想的な構成です。

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リニアモーターコントローラ PIMagC-891 高速制御モデル

USB制御&マルチ言語対応で、セットアップも操作もスムーズ

C-891は、PI製PIMag(R)リニアモーター専用に設計された高性能モーションコントローラです。 最大20kHzの制御周波数と5A出力により、高速・高精度な位置決めを可能にします。 リミットスイッチや温度・過電流保護など安全性も確保。 USB、RS-232のほか、アナログ入力やTTL入出力も搭載しており、外部センサーとの連携も容易です。 コンパクトながら機能性に優れ、研究開発・生産現場など多様な場面で活躍します。

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ボイスコイルモーターコントローラ C-414 小型制御ユニット

最大5A出力×豊富なI/O×PID制御で、ボイスコイル駆動を自在にコントロール

ボイスコイルアクチュエータの動作を精密に制御する高性能モーションコントローラです。 最大20kHzのサーボ制御サイクルとPID制御を備え、精緻な位置決めと速度制御を実現します。 最大5Aの出力電流を提供し、24~48Vの範囲で動作します。豊富なインターフェース(TCP/IP、USB)に対応し、LabVIEWやMATLAB、Pythonといった一般的なプログラミング環境での制御が可能です。 加えて、自動調整機能を持つオートゼロ機能や、データレコーダー機能を内蔵し、動作記録も簡単に行えます。 小型で軽量なデザインは、OEM機器への組み込みや研究開発用途に最適です。

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ダイレクトドライブ高精度回転ステージ V-62xシリーズ

開口付で高剛性と1µm未満の偏心と平坦度を持つ高速・高精度動作を実現

ダイレクトドライブ高精度回転ステージ V-62xは、高分解能エンコーダを搭載したフリクションレスのトルクモーター駆動ステージです。 優れた回転精度(偏心および平坦度 <1 µm)と、微小なティルトエラー(±20 µrad)を実現し、高度なアライメントや回転制御が求められるアプリケーションに最適です。 プラットフォーム径は85 mm〜210 mm、任意方向設置に対応。光学系、半導体、バイオメディカルなど幅広い分野で活用できます。

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高精度XY軸リニアモーターステージV-P01(精密位置決め対応)

高速・高加速度を実現する3相リニアモータ搭載。高精度スキャンに対応

V-P01は、リニアモータ駆動による高精度・高安定性を誇るXYステージです。 最大100Nの負荷に対応し、高速・高加速度での移動を実現。 ±1µmの位置精度と0.1µmの最小インクリメンタルモーションで、AOI自動光学検査やスキャニング用途にも適しています。

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高精度Z軸ボイスコイルモーターステージ V-Z03|精密高剛駆動

高速応答&高剛性ガイドで、サブミクロンの精密Z軸制御を実現

V-Z03は、ボイスコイルモータによるダイレクトドライブ方式で、高速かつ高精度なZ軸制御を実現。 高剛性クロスローラーガイドとリニアエンコーダにより、最小0.035µmの微細動作が可能。 最大荷重150Nに対応し、セルフロック機能や空圧カウンターバランスを搭載。 半導体製造や精密測定など、要求の厳しい分野で優れた性能を発揮します。

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高負荷リニアモーターステージ V-D07|1000N耐荷&高精度

長寿命・高剛性設計|高負荷環境でも精密でスムーズな動作を実現

高精度な産業オートメーション向けリニアステージ。 V-D07高負荷リニアモーターステージは、産業オートメーションやレーザー加工、精密検査装置に最適な高性能プラットフォームです。 アイアンコアリニアモータによるダイレクトドライブで、摩擦レスの高速・高加速度駆動を実現。最大3000mm/sの移動速度と1000Nの耐荷重を誇り、高精度リニアエンコーダによりナノメートル単位の位置決めが可能です。 高負荷環境での精密動作を求める製造業に、新たな選択肢を提供します。

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PICMAWalkingドライブ用デジタルコントローラ

1~3軸 インクリメンタルセンサ付きPICMAWalk ドライブ用

PICMAWalk ウォーキングドライブ用 ・ PI独自のコントローラ技術によるプラグアンドプレイ ・ インターフェース:TCP/IP, USB, RS-232, SPI ・波形発生機能 ・データレコーダ

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高発生力&高精度ピエゾリニアステージ N-332

ピエゾWalk駆動による、ストローク25mm以上のリニアステージ

・トラベルレンジ:25mmと50mmタイプ ・75 N のアクティブフォース ・3 nm ミニマムインクリメンタルモーション ・電源オフ時のセルフロッキング ・多軸セットアップ対応:XY、XZ、XYZ ・真空対応

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PI社 ヘキサポッド一覧カタログ

PI社:ヘキサポッド位置決めシステムのグローバルカンパニー・高精度ヘキサポッド位置決めステージ一覧

PI社のヘキサポッド6軸ステージは、40年以上前から、ピエゾステージ同様に独自開発・自主生産をしており、ピエゾ位置決め製品と同様にヘキサポッドでもマーケットリーダーです。 <ヘキサポッドの特徴> ・回転中心を任意位置に簡単設定 ・パラレル駆動で累積誤差がない ・コンパクトで高剛性で高安定性 ・設置向きが任意でも可能 など ※製品につきましてはカタログや弊社HPをご参考にしてください。 ヘキサポッドの動画もございます。

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【7つの応用事例】ヘキサポッド6軸位置決めシステム

積み重ね多軸ステージとの比較解説・7つの応用事例・ヘキサポッドの簡易比較表

PI社のヘキサポッド6軸ステージは、40年以上前から、ピエゾステージ同様に独自開発・自主生産をしており、ピエゾ位置決め製品と同様にヘキサポッドでもマーケットリーダーです。 <ヘキサポッドの特徴> ・回転中心を任意位置に簡単設定 ・パラレル駆動で累積誤差がない ・コンパクトで高剛性で高安定性 ・設置向きが任意でも可能 など ※製品につきましてはカタログや弊社HPをご参考にしてください。 ヘキサポッドの動画もございます。

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グラナイト専門メーカのピー・ヂー・ダブリューがPIグループに!

極めて高い石の研磨技術を有し、大型で高精度なグラナイトを必要とするFPD業界を中心に、装置の土台や定盤、治具等を製造しています。

ピー・ヂー・ダブリュー株式会社(以下PGW)は、 1997年に石(グラナイト)を用いた石定盤や治具など石材加工の専業メーカとして創業。 極めて高い石の研磨技術を有し、大型で高精度なグラナイトを必要とする FPD業界を中心に、装置の土台や定盤、治具等を製造。 また、お客様のご要求仕様に合わせ、グラナイトベースに、 ステージやリニアモータ、ガイド、エンコーダなどを組み合わせた 高精度ユニット装置も設計開発しています。 2021年に、ピエゾを用いた超精密位置決め品において マーケットリーダであるピーアイ・ジャパン株式会社の一員となりました。 日本国内はもちろん、アジア圏にあるPI(Physik Instrumente)社の 子会社から依頼された、お客様向けの装置設計や開発、製造など、 これまで以上のソリューションがご提供できるようになります。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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  • その他計測・記録・測定器
  • その他機械要素

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パラレルキネマティック・小型ヘキサポッド H-811.I2

コンパクトながら高精度なリファレンスクラスの6軸位置決めシステム

6軸自由度を持つパラレルキネマティックデザインで、単軸キネマティックシステムよりもコンパクトで剛性が強いヘキサポッド。 大きなダイナミックレンジで、作動ケーブルがなく、高い信頼性を提供。 また、ソフトウェアによるユーザー定義のピボットポイント設定が可能。 本体寸法:φ136×115mmの超コンパクト設計、ブラシレスDCモータ(BLDC)と長寿命ボールねじによるダイレクトドライブ式。 真空対応(10^-6hPa)バージョンも用意している。光位置合わせ、オートメーション、品質保証試験、試験機器での利用に。 【特長】 ■最小ヘキサポッド(真空オプションあり) ■トラベルレンジ:34mm/42° ■耐荷重:5kg ■アクチュエーター分解能:40nm ■最小インクリメンタルモーション:0.2μm ■再現性:±0.1μm ■ファイバー光学アライメント用スキャンアルゴリズム含む ■ピボットポイント(回転中心)の任意設定が可能 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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小型で25mmまでの動作量:リニアステージ M-11x型

サイズ60mm四方で、XYZ軸の組合わせが可能なコンパクトリニアステージ

【DCモータ、ステッピングモータを使用したリニアステージ】 ■トラベルレンジ:5~25mm ■最小移動量:0.2µm ■耐荷重:30N ■サイズ:60×62×20mm~ ■XY軸、XYZ軸にセットアップ可能で、真空にも対応(10^-6hPa) 【コンパクトなリニアステージ、多用途】 ■ベルト駆動が折り重なったコンパクトサイズのリニアステージです ■開口部は10 mm Øです ■XYセットアップをアダプタープレートなしで直接マウントできます 【位置計測】 ■DCギヤモーター搭載の別タイプ:モーター軸にロータリーエンコーダーを搭載 ■非接触ホール効果基準点スイッチとリミットスイッチ 【駆動】 ■2相ステッパーモーターまたはクローズドループDCギヤモーター ■バックラッシュ補正のリードネジやボールネジ ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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最大600Nの連続荷重のリニアステージ V-817

リニアモータ×エンコーダで高荷重600Nでも滑らか&高速応答

PI Mag(R)リニアモータとダイレクトエンコーダを組み合わせたV-817は、非接触駆動で発塵を抑え、長期安定性を実現します。 最大負荷600 Nまで対応し、2 µmレベルの位置決め再現性を実現。 動作量は、204, 407, 610, 813 mmの4タイプをラインアップし、ドラッグチェーンや75〜150 mm角M6取付プレートなど豊富なアクセサリで迅速にシステム化できます。 センサーやカメラの組立、精密検査&測定、ウェハー加工&検査、レーザー加工など幅広い産業アプリをサポートします。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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【光学調整向け】XY多軸モーションシステム X-417

XY+Z構成に対応する高精度多軸システム。用途に合わせて最適な構成が可能

光学機器の調整作業では、高精度な位置決めと安定した動作が求められます。特にレンズやミラーなどの光学部品の配置調整では、微小な位置ズレが光軸のずれや焦点誤差につながり、最終的な装置性能に大きな影響を与える可能性があります。 多軸モーションシステム X-417 は、高荷重リニアステージによる XY位置決めシステムをベースとした統合モーションプラットフォームです。サーボモータ+ボールねじステージ、またはリニアモーターステージを選択でき、用途に応じて Z軸の追加など柔軟な構成が可能です。高精度な位置決め性能と安定した動作により、光学部品の精密調整や光学系の組み立て工程をサポートします。 【活用シーン】 ・レンズやミラーの位置調整 ・光学系の組み立て ・精密検査 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・作業時間の短縮 ・歩留まりの向上

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【研究開発向け】柔軟に構成可 多軸モーションシステム X-417

用途に応じて軸数や仕様を自由に構成できる多軸モーションシステム

研究開発分野の実験では、高精度な位置決めと安定した動作制御が求められます。特に微細な調整や高い繰り返し精度が必要な実験では、モーションシステムの性能が実験結果や再現性に大きく影響します。 多軸モーションシステム X-417 は、高荷重リニアステージによる XY位置決めシステムをベースに、用途に応じて軸構成を自由に選択できる統合モーションプラットフォームです。サーボモータ+ボールねじステージ、またはリニアモーターステージを選択でき、Z軸の追加など柔軟なシステム構成に対応します。高精度な位置決め性能と安定した制御により、研究開発における実験装置や試験システムの構築をサポートします。 【活用シーン】 ・レーザー加工実験 ・超短パルスレーザー加工 ・試験・評価装置 ・精密検査 ・電子機器製造プロセス研究 【導入の効果】 ・高精度位置決めによる実験の再現性向上 ・柔軟な軸構成による装置設計の自由度向上 ・EtherCAT(R)対応コントローラによるシステム統合の容易化 ・Z軸保持ブレーキ対応による安全性向上

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【電子機器実装向け】高精度XY多軸モーションシステム X-417

用途に合わせて軸構成や仕様を柔軟に組み合わせ可能

電子機器実装分野では、電子部品の正確な配置と組み立てが製品の品質と信頼性を左右します。特に小型化・高密度化が進む電子機器では、高精度な位置決めが不可欠です。位置ずれは回路の短絡や断線につながり、不良発生の原因となる可能性があります。 多軸モーションシステム X-417 は、高荷重リニアステージによる XY位置決めシステムをベースとした統合モーションプラットフォームです。サーボモータ+ボールねじステージ、またはリニアモーターステージを選択でき、用途に応じて Z軸の追加など柔軟なシステム構成が可能です。 さらに ACSベース G-901コントローラにより、モーション制御・I/O・安全機能を統合。EtherCAT(R)接続によって装置PLCとのスムーズな連携を実現します。 【活用シーン】 ・電子部品の実装 ・基板への部品配置 ・電子部品検査装置 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる実装品質の向上 ・EtherCAT(R)接続による装置PLCとの連携 ・柔軟な軸構成による装置設計の自由度向上

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高精度・高速制御を実現するXY多軸システム X-417

用途に合わせて、必要な軸数や動作仕様に合った組合せで構成が可能

■Performance 1:サーボモータとボールねじステージ構成 ■Performance 2:高精度向け、サーボモータとボールねじ駆動ステージ構成 ■Performance 3:高速・高精度向け、リニアモーターステージ構成 Z軸は、保持ブレーキ付きタイプで対応します。 ACSベースG-901コントローラはモーション+I/O+安全機能を統合し、装置PLCとのEtherCAT(R)接続を即完了。 レーザー加工、超短パルスレーザー加工、テストや精密検査、電子機器製造に最適。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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【光学向け】ヘキサポッド H-840.G2IHP

ナノメートル分解能で6自由度アライメントを実現する高剛性ヘキサポッド

光学システムや精密測定分野では、サブミクロンレベルでの位置合わせと6自由度制御が、装置性能や測定精度に大きく影響します。特にレーザー光学系や干渉計、フォトニクス評価装置では、高剛性かつ高分解能なアライメント機構が求められます。H-840.G2IHP ヘキサポッドは、パラレルキネマティクス構造による高い剛性とダイナミクスを備え、ナノメートル分解能での6自由度位置決めを実現します。コンパクト設計により、光学ベンチや検査装置への統合にも適しています。 【活用シーン】 ・光学系の高精度アライメント ・レーザー光学システムの位置調整 ・干渉計および精密測定装置 ・フォトニクスデバイス評価 【導入の効果】 ・6自由度同時制御による効率的なアライメント ・ナノメートル分解能での精密位置決め ・高剛性構造による安定した測定環境 ・光学装置への容易な統合

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【ライフサイエンス向け】ヘキサポッド H-840.G2IHP

6自由度制御で高度バイオイメージングを支える高精度ヘキサポッド

ライフサイエンス分野における高度なイメージングや解析では、サンプルの3次元位置決めと安定したアライメントが、取得データの再現性や解析精度に大きく影響します。特に多光子顕微鏡やライトシート顕微鏡などの先端バイオイメージング装置では、6自由度での精密制御が求められます。H-840.G2IHP ヘキサポッドは、パラレルキネマティクス構造による高剛性設計を採用し、ナノメートル分解能での6自由度位置決めを実現します。高速応答性能により、複雑なアライメント動作や3D位置調整にも対応可能です。研究用途や高度なバイオ解析装置への統合にも適しています。 【活用シーン】 ・多光子顕微鏡における試料位置決め ・ライトシート顕微鏡の3Dアライメント ・バイオイメージング装置の高精度調整 ・生体試料の6自由度ポジショニング 【導入の効果】 ・ナノメートル分解能による高精度位置決め ・6自由度同時制御による柔軟なアライメント ・高剛性構造による安定した観察環境 ・複雑な光学系への容易な統合

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【長いトラベルレンジを実現】ヘキサポッド H-840.G2IHP

製造技術や測定技術におけるアライメントおよび位置決め用途の最も厳しい要件に対処

20年以上も前からヘキサポッドステージをご提供していますが、 お客様の声を元に、駆動精度を高めたヘキサポッドをリリースしました! XY軸は40 nm、Z軸は20 nmのステップ動作を可能にします。 生産および測定技術における位置合わせおよび位置決めアプリケーションの最高の要求を満たすことが可能です。 <仕様> ・駆動軸 6軸 ・トラベルレンジ  XY=±50mm、Z=±25mm、θxθy=±15度、θz=±30度 ・最小移動量:XY=40nm、Z=20nm、θxθy=0.2µrad、θz=0.4µrad ・最大速度:2.5mm/秒、30mrad/秒 ・耐荷重:40Kg(水平時) ・任意回転中心設定 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

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検査システム向け 高荷重対応ヘキサポッド

放射線治療のための患者様を正確に6軸位置決めが可能

長方形のベッド型ヘキサポッドデザイン。 PIの多軸モーションおよびポジショニングソリューション ヘキサポッド(ギリシャ語で6本の脚に由来)は、6つのアクチュエータ(支柱)によって制御されるモーションプラットフォームです。それらはすべて1つのプラットフォームで同時動作し、6自由軸の移動を可能にします。

  • その他機械要素

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事例紹介:ALMA望遠鏡の副反射鏡の背面へのヘキサポッド活用

ALMA天文台の50基のアンテナに採用!低気圧、最大50度の温度差、強風、埃、雨、海抜5000メートルという過酷な環境条件に適合

ピーアイ・ジャパン株式会社が取り扱う製品を応用した事例をご紹介します。 ALMA天文台の50基のアンテナは、当社の「高精度ヘキサポッド」を使用。 アタカマ砂漠の過酷な環境条件の下、電波望遠鏡の副反射鏡を高精度に位置合わせするため採用されました。 低気圧、最大50度の温度差、強風、埃、雨、海抜5000メートルという過酷な環境条件に適合。数ミリメートルまで高い精度で副反射鏡の位置を調節できます。 【事例】 <ALMA望遠鏡配列用50のヘキサポッドシステム> ■高精度精度ヘキサポッドを使用 ■アタカマ砂漠の過酷な環境条件の下、電波望遠鏡の副反射鏡を高精度に位置合わせするため採用 ■サブミクロン秒角の分解能で位置決めが可能 ■過酷な環境条件に適合し、高剛性で頑丈なジョイントをALMA向けヘキサポッド用に開発 ※詳しくは公式サイトの製品ページから、詳細をご確認ください

  • その他計測・記録・測定器

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【バイオテクノロジー向け】V-308フォーカスステージ

細胞観察・深部イメージングの精度を高める — ナノ精度Z軸フォーカスステージ

バイオテクノロジー分野、特に顕微鏡観察や深部組織イメージングでは、対象領域を高精度にZ軸方向へ位置決めし、焦点を最適化することが重要です。V-308 Voice Coil PIFOCは、対物レンズや試料位置を 最小10 nmステップで微調整 可能な高精度フォーカスステージです。最大7 mmの調整範囲と高剛性ガイドにより、長作動距離レンズを含む多様な観察条件下でも 安定したナノポジショニング を提供します。さらに、最大1 kgまでの重量補償機能を内蔵し、対物レンズやアダプタなど重い光学系にも対応できます。 【活用シーン】 ・高倍率顕微鏡による 焦点調整 ・多光子蛍光・深部組織イメージングの Z方向スキャン ・自動化顕微鏡システムでの 高速オートフォーカス 【導入の効果】 ・ナノレベルの焦点制御による高精細画像取得 ・高剛性構造による 安定した動作と再現性向上 ・重力補償で 対物レンズ重量の影響を軽減

  • その他機械要素
  • アクチュエーター
  • ソレノイド・アクチュエータ

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【半導体製造向け】ボイスコイルフォーカスステージ V-308

最小10 nm分解能、最大7 mmストローク。半導体装置の高精度Z軸フォーカス制御を実現

半導体製造分野では、微細化の進展に伴い、検査・計測・露光工程におけるZ軸方向の高精度位置制御がますます重要になっています。焦点位置のわずかな変動が、検査精度やプロセス安定性に影響を及ぼす可能性があります。V-308 Voice Coil PIFOCは、最小10 nm分解能と最大7 mmの移動範囲を備えたZ軸フォーカスドライブです。最大1 kgまでの重力補償機能により、重量のある光学系や対物レンズでも安定した位置決めを実現。ダイレクトドライブ方式により、滑らかで高速な応答性と高い再現性を提供し、半導体製造装置の精密フォーカス制御をサポートします。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査装置のオートフォーカス制御 ・光学計測装置のZ軸位置決め ・マスク検査装置のフォーカス補正 ・微細パターン検査工程 【導入の効果】 ・ナノレベルのフォーカス制御による検査精度向上 ・重量補償機能による光学系の安定保持 ・高速応答による検査スループット改善 ・プロセス安定性の向上

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【レーザー加工向け】V-308 高精度Z軸フォーカスステージ

最小10 nm分解能。レーザー加工ヘッドの高精度Z軸フォーカス制御

レーザー加工分野では、焦点位置の精密な制御が加工品質を大きく左右します。特に微細加工や高精度マーキングにおいては、Z軸方向のわずかな焦点変動が加工幅やエネルギー密度に影響を及ぼします。 V-308 Voice Coil PIFOCは、最小10 nm分解能と最大7 mmの移動範囲を備えたZ軸フォーカスドライブです。ダイレクトドライブ方式により滑らかで高速な応答を実現し、レーザー加工ヘッドや光学系の精密なフォーカス制御をサポートします。さらに、最大1 kgまでの重力補償機能により、重量のある光学モジュールにも対応可能です。 【活用シーン】 ・レーザーマーキング装置のフォーカス制御 ・レーザー微細加工装置のZ軸位置決め ・ガルバノスキャナ光学系の焦点補正 ・研究開発用レーザー加工システム 【導入の効果】 ・焦点制御精度の向上による加工品質安定化 ・高速応答による加工プロセスの最適化 ・重量補償機能による安定した光学系制御 ・微細加工における再現性向上

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【光学顕微鏡向け】V-308 高精度Z軸フォーカスステージ

最小10nm動作、最大7mm移動、1kg対応。微細観察を支える高精度Z軸

光学顕微鏡の分野では、観察対象の微細構造を鮮明に捉えるために、正確なフォーカス調整が不可欠です。特に、高倍率での観察や、多光子・深部組織イメージングにおいては、ナノレベルでの焦点位置の最適化が、観察の質を大きく左右します。フォーカス調整の精度が低いと、観察像がぼやけ、正確なデータ取得が困難になる可能性があります。V-308は、最小インクリメント10 nm、調整可能な7 mmストロークにより、光学系の焦点位置をナノレベルで最適化し、鮮明な観察像を提供します。 【活用シーン】 ・光学顕微鏡での微細構造観察 ・多光子・深部組織イメージング ・大口径レンズ、長作動距離レンズの使用 【導入の効果】 ・ナノレベルでの正確なフォーカス調整による鮮明な観察像の実現 ・観察データの信頼性向上 ・実験効率の向上

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最大1kgの重力補正 ボイスコイルフォーカスステージ V-308

最小動作10nmで、最大7mm移動、1kgまでの無電源保持 微細観察を支える高精度Z軸

V-308はボイスコイル直動とクロスローラーガイドを組み合わせたZ軸フォーカスステージです。 最小インクリメント10 nm、調整可能な7 mmストロークにより、光学系の焦点位置をナノレベルで最適化できます。 大口径レンズや長作動距離レンズを使用する多光子・深部組織イメージングで高い信頼性を提供します。 クロスローラーガイドの高剛性構造と10 nm分解能エンコーダが、7 mm全域で滑らかなナノポジショニングを保証。 詳細は PDF をダウンロード、またはお問い合わせください。

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【ナノテクノロジー向け】対物フォーカス P-725.xCDE2

サブナノメートル分解能、最大800 µm移動量のフォーカススキャナ P-725.xCDE2

ナノテクノロジー分野では、ナノスケール構造の観察や評価において、高分解能かつ安定したフォーカス位置制御が求められます。P-725.xCDE2 PIFOCは、最大800 µmの移動量(モデルによる)とサブナノメートル分解能(適切なコントローラ使用時)を備えた対物レンズ用フォーカススキャナです。ピエゾアクチュエータとフレクシャガイド機構により、摩擦やバックラッシュのない滑らかなZ方向動作を実現します。顕微鏡システムにおけるナノスケールでのフォーカス調整やZスキャン用途に適しています。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡におけるZスキャン ・多光子顕微鏡でのフォーカス位置制御 ・半導体ウェハ検査における高さ方向微調整 ・ナノ構造観察時の精密フォーカス制御 【導入の効果】 ・サブナノメートル分解能のフォーカス位置制御 ・バックラッシュのない高再現性動作 ・最大800 µmの広いZ移動量(モデルによる) ・摩耗部品のないフレクシャガイド構造

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【バイオテクノロジー向け】P-725.xCDE2

サブナノ分解能・Z方向最大800 µmストローク対応 フレクシャ機構搭載フォーカススキャナ

バイオテクノロジー分野の顕微鏡イメージング用途では、細胞や組織の微細構造を高精細に観察するために、正確なフォーカス制御が不可欠です。特に共焦点顕微鏡や多光子顕微鏡などの3Dイメージングでは、Z軸(フォーカス方向)の高分解能と高速応答性が観察精度に直結します。 P-725.xCDE2 PIFOC Focus Scannerは、PICMAピエゾアクチュエータと静電容量センサーを採用したフレクシャガイド機構により、サブナノメートル分解能での精密フォーカス制御を実現します。また最大800 µmのストロークに対応し、奥行き方向の広い範囲での高速・高精度な走査が可能です。こうした特性により、観察時間を短縮しつつ、フォーカス位置ズレを抑え、結果として実験の信頼性と効率向上に寄与します。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡 ・多光子顕微鏡 ・3Dイメージング ・ライブセルイメージング ・ハイスループット顕微鏡スクリーニング 【導入の効果】 ・高精度なZ方向フォーカス制御 ・広いフォーカスストロークによる対応範囲拡大 ・高速走査による観察効率向上 ・安定したイメージング品質

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【光計測向け】長ストローク対物フォーカス P-725.xCDE2

サブナノ分解能・最大800 µmストローク対応 高速・高精度PIFOCフォーカススキャナ

光計測分野では、光学イメージングや精密測定において、検出位置のフォーカス精度と安定性が結果の精度に直結します。特に微細構造の評価や高速データ取得を必要とするアプリケーションでは、高分解能フォーカス制御と応答性の高い動作性能が求められます。 P-725.xCDE2 PIFOCフォーカススキャナは、サブナノメートル分解能の位置制御と、最大800 µmのストロークを両立。PICMAピエゾアクチュエータと高精度静電容量センサー搭載のフレクシャガイド機構により、光計測装置のZ方向フォーカス調整における高い線形性と再現性を実現します。これにより、光計測におけるフォーカス位置ズレの影響を抑え、測定精度と装置の歩留まり向上に貢献します。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡による高精度計測 ・多光子顕微鏡の高速Z走査 ・高解像度イメージング評価装置 ・光干渉計・位相計測装置 【導入の効果】 ・サブナノメートル分解能のフォーカス制御 ・最大800 µmストロークでの広い測定範囲対応 ・高速応答による検査・計測時間の短縮 ・PIFOC/フレクシャ構造による長期安定性

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【半導体検査向け】P-725.xCDE2 フォーカススキャナ

サブナノ分解能・最大800 µmストローク対応 半導体検査装置向け高精度Zフォーカススキャナ

半導体検査装置では、微細な欠陥の検出や3Dフォーカス評価のために、高分解能なZ方向位置制御と迅速なステップ動作が求められます。P-725.xCDE2 PIFOCフォーカススキャナは、サブナノメートル分解能と最大800 µmのフォーカスレンジを両立した高精度アクチュエータです。 PICMAピエゾアクチュエータと静電容量センサー内蔵フレクシャガイド機構の組合せにより、高い線形性・再現性・安定性を実現します。これにより、半導体検査におけるZフォーカスの高精度制御と高速スキャンが可能になり、検査プロセスの精度向上と装置のスループット改善に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ表面欠陥検査のZフォーカス制御 ・チップ・パッケージ検査における高分解能イメージング ・光・レーザー式検査装置の高速Zスキャン ・光学検査、共焦点光学顕微鏡を用いた欠陥解析 【導入の効果】 ・高精度フォーカス制御による測定精度の向上 ・高速なZステップ動作による検査スループット改善 ・安定した長期動作と装置信頼性の向上

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最大800µm長ストローク対物フォーカス P-725.xCDE2

サブナノの分解能をもち、最大800 µm動作、高速・高精度PIFOC(R)フォーカススキャナ

P-725.xCDE2 はフレクシャガイド構造と PICMA(R) ピエゾを採用した対物レンズ用フォーカススキャナです。 静電容量センサーが サブナノメートル分解能と0.02 % リニアリティを実現し、100 / 400 / 800 µm の長ストロークでも高精度を維持します。 摩耗部ゼロ・潤滑剤不要で長寿命。共焦点・多光子顕微鏡や半導体検査の Z ステップ高速化に貢献します。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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【光学向け】最大8°チップチルトミラーステージ V-931

光通信・光学システムのビーム制御に最適な大角度駆動ステージ

光通信や光学システムでは、光ビームの正確な制御と安定性が、システム性能を左右する重要な要素です。特に、光ファイバー通信や光学アライメントでは、ビームのわずかなずれや揺らぎが信号の減衰やノイズ増加を引き起こし、通信品質や測定精度に影響を与える可能性があります。 V-931は、最大8°の大角度駆動が可能なボイスコイル駆動Tip/Tiltミラーステージです。光ビームの角度を高精度かつ高速に制御し、光学システムにおけるビーム偏向や安定化を実現します。 【活用シーン】 ・光通信システムにおけるビーム調整 ・光ファイバーアライメント ・光ファイバーセンサシステム 【導入の効果】 ・ビーム安定化による通信品質の向上 ・高精度位置決めによるアライメント効率の向上 ・システム信頼性の向上

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【レーザー加工向け】最大8°のチップチルトミラーステージ

レーザービームの精密制御を実現する高速ミラーステージ

レーザー加工において、精密なビーム制御は加工精度と生産効率を左右する重要な要素です。特に、微細加工や高精度な切断・溶接では、レーザービームの正確な位置決めと安定した制御が不可欠です。わずかなビームのずれや揺らぎでも、加工品質の低下や歩留まり悪化につながる可能性があります。 本製品は、最大8°の大角度駆動が可能なボイスコイル駆動のTip/Tiltミラーステージです。レーザービームの角度を高精度かつ高速に制御し、安定したビーム操作を実現します。 【活用シーン】 ・レーザー加工におけるビームの角度調整 ・精密な位置決めが求められるレーザーアプリケーション ・レーザービーム安定化が求められるレーザーシステム 【導入の効果】 ・高精度なレーザー加工の実現 ・加工品質の向上 ・歩留まりの改善

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高速ビーム制御チップチルトステージ V-931

ビーム安制御・レーザー加工・光学などのアプリケーションに最適。リニアエンコーダによる非接触の直接位置計測が可能

※ビームの偏向角度 最大 8° ※共通の回転中心を持つ直交する2つのチップ/チルト軸 ※パラレルキネマティクスによる両軸の同一動特性 ※コンパクトなデザイン ※フレクシャーによる高耐久性と無摩擦 ※リニアエンコーダによる位置測定 Tip/tilt 動作レンジ: ± 35 (± 2°) mrad 最小移動動作量: < 1 μrad 再現性: < 2 μrad リファレンス精度: ≤ 50 μrad リニアリティ: < 0.2 % ステップ応答: < 20 ms(荷重等による) ミラー最大直径:1インチ 最大荷重:20g OEM供給用につき、複数台~数百台などカスタマイズもご相談ください。

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