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ピーアイ・ジャパン株式会社

設立日本法人:1991年 ドイツ本社:1977年
住所神奈川県川崎市幸区堀川町580番地 ソリッドスクエア西館17F
電話044-280-7676
  • 特設サイト
  • 公式サイト
最終更新日:2026/03/05
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ヘキサポッド ヘキサポッド
モータライズドポジショニング モータライズドポジショニング
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エアベアリング搭載・摩擦のない回転ステージ A-63x

薄型で、駆動面積と耐荷重の違いで4種類のサイズ違いがあり、エンコーダーも2種類対応の高精度エアベアリング回転ステージです。

エアベアリング回転ステージは、エア浮上ガイドのため一般的な メカニカルガイドによる摩擦や部品精度の影響を受けません。 そのためスティックスリップ、摩擦熱がなく、高速駆動で、 高い平坦度&わずかな偏芯のため、非常に高精度位置決めが可能です。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

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【光学向け】大開口・エアベアリング回転ステージ A-68x

薄型・高精度、光学系の調整に最適なエアベアリング回転ステージ

光学システムの調整では、光軸の精密な位置決めや角度調整が重要な要素となります。レンズやミラーなどの光学素子は、わずかな位置や角度のずれでも、システム全体の性能に大きな影響を与える可能性があります。 A-68x エアベアリング回転ステージは、エア浮上ガイドを採用した高精度回転ステージです。従来のメカニカルガイドのような摩擦の影響を受けにくく、スティックスリップや摩擦熱を抑制。滑らかで安定した回転動作により、高精度な角度位置決めを実現します。 これにより、光学系のアライメント作業の効率化と、光学システムの性能向上に貢献します。 【活用シーン】 ・レンズやミラーの角度調整 ・光学素子の位置合わせ ・光ファイバーのアライメント ・光学測定・検査装置 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる光学性能の向上 ・滑らかな回転動作による調整作業の効率化 ・非接触構造による長期的な安定性 ・低摩耗・低メンテナンス設計

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【半導体向け】ウェーハ検査・計測用エアベアリング回転ステージ

薄型・高精度。半導体製造の位置決めを高精度化

半導体製造では、ウェーハやフォトマスクの高精度な位置決めが、製品品質や歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細加工や検査工程では、高い位置決め精度と安定した動作が求められます。 A-68x エアベアリング回転ステージは、エア浮上ガイドを採用した高精度回転ステージです。従来のメカニカルガイドのような摩擦や部品精度の影響を受けにくく、スティックスリップや摩擦熱を抑制。高速かつ高精度な回転位置決めを実現します。これにより、半導体製造工程における検査・計測やアライメントの精度向上に貢献し、生産性向上と高品質なデバイス製造を支えます。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査・計測 ・ウェーハの精密位置決め ・フォトマスクアライメント ・半導体検査装置 【導入の効果】 ・高精度位置決めによる歩留まり向上 ・高速駆動による生産性向上 ・摩擦熱の抑制による安定したプロセス ・非接触構造による長寿命・低メンテナンス

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大口径エアベアリング・超高精度用途向け回転ステージ A-68x

最大260mmの大開口を備えた薄型・高精度エアベアリング回転ステージ

本製品は、最大260mmの開口を備えた薄型設計の高精度エアベアリング回転ステージです。 エア浮上ガイドを採用しているため、一般的なメカニカルガイドのような摩擦や部品精度の影響を受けません。 そのため、スティックスリップや摩擦熱が発生せず、高速駆動と高い回転精度を実現します。 さらに、優れた平面度とわずかな偏心により、高精度な回転位置決めが可能です。 特長: ・大開口260mm、厚さ113mmの薄型設計 ・エアベアリングによる無摩擦回転 ・高い平面度と低偏心による高精度位置決め ・インクリメンタル/アブソリュートエンコーダ対応 ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

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【精密加工向け】Z・チップ/チルト対応エアベアリング A-523

1枚の薄型プラットフォームで、3軸動作可能な高精度エアベアリングステージ

精密加工業界では、微細加工における高精度な位置決めが、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細な部品の組み立てや検査においては、ナノレベルの位置精度が求められます。従来のステージでは、設置スペースの制約や、微細な振動による精度の低下が課題となっていました。当社の薄型エアベアリング Z Tip/Tilt ステージは、これらの課題を解決し、精密加工の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・微細加工における位置決め ・精密部品の組み立て ・検査工程 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・薄型設計による省スペース化 ・摩擦のないスムーズな動作による製品寿命の向上

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【光学調整向け】Zチップチルト エアベアリング A-523

1枚の薄型プラットフォームで、3軸動作可能な高精度エアベアリングステージをリリース!

光学業界における調整作業では、精密な位置決めが不可欠です。特に、レンズやミラーなどの光学部品の位置調整は、システムの性能を左右する重要な要素となります。微小なズレが、画像品質の低下や測定精度の悪化につながる可能性があります。当社の薄型エアベアリング Z Tip/Tilt ステージは、3軸の超高精度位置決めを実現し、光学部品の精密な調整を可能にします。 【活用シーン】 ・光学レンズの位置調整 ・ミラーの角度調整 ・光ファイバーのアライメント 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる光学性能の向上 ・調整作業の効率化 ・製品品質の安定化

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【半導体製造向け】Z方向・チップ/チルトステージ動作 A-523

1枚の薄型プラットフォームで、3軸動作可能な高精度エアベアリングステージ

半導体製造業界では、ウェーハやマスクなどの精密な位置決めが、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細加工や検査工程においては、ナノレベルの位置精度が求められます。振動や熱の影響を受けやすい環境下では、安定した位置決め性能が不可欠です。当社の薄型エアベアリング Z Tip/Tilt ステージは、3軸の超高精度位置決めを実現し、半導体製造における位置決め精度と生産性の向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハプロービング ・マスクアライメント ・微細加工 ・検査工程 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・摩擦のないモーションプラットフォームによる高い耐久性 ・薄型設計による装置の小型化 ・3軸動作による柔軟な対応

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Z方向・チップ/チルト対応エアベアリングステージ A-523

1枚の薄型プラットフォームで、3軸動作可能な高精度エアベアリングステージをリリース!

PI社は、エアベリング位置決め製品を拡充しています! パラレルキネマティック方式設計による 「A-523型:エアベアリング Z軸、チップ/チルトの3軸駆動ステージ」をリリースしました。 薄型設計で3軸の超高精度位置決めを実現 摩擦のないモーションプラットフォーム 最高の性能、品質、寿命を提供 【特徴】 ・トラベルレンジ: Z軸±2.5 mm、θX, θY軸 ±1° ・耐荷重:8 kg ・プラットフォーム:直径 250 mm ・高さ:60 mm ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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【電子部品向け】エアベアリング A-311

エアベアリング×リニアモータによる非接触駆動。基板・部品検査の高速化と安定化に貢献

電子部品業界の基板検査や部品検査では、高い位置決め精度と高速なスキャン動作が求められます。特に、微細化が進む電子部品の検査においては、安定した繰り返し精度と滑らかな走行性能が、検査品質や処理能力に大きく影響します。 PIglide IS A-311 は、エアベアリングによる非接触支持とリニアモータ駆動を採用した高精度XYステージです。機械的摩耗やスティックスリップを排除することで、高速かつ滑らかなスキャン動作を実現し、基板検査やウェハ検査における検査時間の短縮と精度の安定化に貢献します。 【活用シーン】 ・基板検査 ・ウェハ検査・電子部品検査 ・レーザー加工・マーキング工程 【導入の効果】 ・高速スキャンによる検査時間の短縮 ・安定した位置決めによる検査精度の向上 ・検査プロセスの効率化・再現性向上

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【レーザーマーキング向け】エアベアリング A-311

エア浮上×リニアモータで摩耗ゼロ。最大速度2m/s、センサー分解能1nm

光学レンズ研磨・加工分野では、レンズの形状精度や表面品質が最終的な光学性能を大きく左右するため、極めて高い位置決め精度と安定性が求められます。特に研磨や表面加工工程では、わずかな振動や摺動摩擦が加工精度や再現性に影響を及ぼす可能性があります。 PIglide IS A-311 は、エアベアリングによる非接触支持とリニアモータ駆動を採用した高精度XYステージです。機械的摩擦やスティックスリップを排除することで、滑らかで安定した平面動作を実現し、光学用途に求められる高い位置決め精度と繰り返し性を支えます。 光学レンズの研磨工程や、精密な表面加工・評価工程において、加工品質の安定化やプロセス再現性の向上に貢献します。また、エアベアリング構造により発塵を抑えられるため、クリーンルーム環境での使用にも適しています。 【活用シーン】 ・レンズ研磨工程 ・高精度な表面加工が必要な場面 ・クリーンルーム環境での使用 【導入の効果】 ・高精度な研磨を実現 ・タクトタイムの短縮 ・製品の品質向上

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【半導体検査向け】エアベアリング A-311

エア浮上×リニアモータで高速・高精度ウェーハ検査を実現

半導体業界では、ウェーハの品質管理と歩留まり向上のため、高精度な検査が不可欠です。特に、微細な欠陥や異物の検出は、製品の信頼性を左右する重要な要素となります。従来の検査方法では、検査速度や分解能に限界があり、タクトタイムの増加や検査精度の低下を招く可能性がありました。PIglide IS A-311は、エアベアリングとリニアモータの組み合わせにより、高速かつ高精度なウェーハ検査を実現し、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・ウェーハ表面の異物検査 ・パターン寸法測定 ・欠陥検出 【導入の効果】 ・検査時間の短縮 ・検査精度の向上 ・歩留まりの改善

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300mm高速XYエアベアリングプラナースキャナ A-311

エア浮上×リニアモータで摩耗ゼロ。最大速度2m/s、センサー分解能1nm

PIglide IS A-311は、ステージ駆動面を空気で浮上させるエアベアリング式XYプラナースキャナーです。 積み重ね型より薄いフラット構造で装置設計をコンパクト化しながら、300 mm×400 mmの広い走査範囲と1 nmセンサー分解能で動作。 摩擦ゼロのリニアモータ駆動は最大2 m/sの高速応答、147 N可搬能力によりレーザー加工や半導体ウェハ検査のタクト短縮に貢献します。 発塵レス構造でクリーンルーム対応、豊富なコントローラ/APIがXY同期やエリアスキャンの統合を容易にします。 詳細は PDF をダウンロード、またはお問い合わせください。

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【フォトニクス向け】高速チップ/チルトピエゾステージS-331

共振周波数10 kHz。高速・高分解能を両立するフォトニクス向けTip/Tiltステージ

フォトニクス分野では、レーザービームの角度制御や位置安定性が、結合効率やシステム性能を大きく左右します。特に光ファイバー結合やビームステアリング、高速補正制御では、高い応答性と分解能、そして優れたダイナミクス特性が不可欠です。 S-331は、最大10 kHzの高い共振周波数を誇る高速Tip/Tiltピエゾステージです。高分解能かつ高速応答を両立し、リアルタイムでのビーム補正や精密な角度制御を実現。フォトニクスシステムにおける集光効率向上と安定動作に貢献します。 【活用シーン】 ・レーザービームステアリング ・光ファイバーへの高効率結合 ・高速ビーム補正制御 ・光学アライメント/安定化用途 【導入の効果】 ・高速かつ高精度なビーム角度制御 ・結合効率の向上と損失低減 ・リアルタイム補正による安定化 ・フォトニクス装置の性能最大化

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【光通信向け】高速チップ/チルトピエゾステージ S-331

10 kHzの高速応答。高分解能2軸Tip/Tiltで光通信のビーム制御を高度化

光通信分野では、光ファイバー結合や自由空間光通信において、ビームの角度制御精度と応答速度が通信品質を左右します。わずかなズレや振動でも結合効率の低下やリンク不安定化につながるため、高速かつ高分解能な補正機構が不可欠です。 S-331は、最大10 kHzの高い共振周波数と±5 mradの動作角を備えた2軸Tip/Tiltピエゾステージです。優れたダイナミクス性能によりリアルタイムなビーム補正を実現し、光信号の安定化と高効率な結合をサポート。次世代光通信システムの高信頼化に貢献します。 【活用シーン】 ・光ファイバー高精度アライメント ・自由空間光通信(FSO) ・レーザービームステアリング ・光リンクの安定化制御 【導入の効果】 ・高速・高精度なビーム角度制御 ・結合効率の向上と損失低減 ・リアルタイム補正による通信安定化 ・システム全体の性能向上

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【レーザー加工向け】高速チップ/チルトピエゾステージS-331

10 kHzの高速応答でビームを精密制御。レーザー加工向けTip/Tiltステージ

レーザー加工では、ビームの角度や位置のわずかな変動が、加工精度や仕上がり品質に直結します。特に微細加工や高速スキャニング工程では、高速応答性と高分解能を兼ね備えたビーム制御機構が不可欠です。 S-331は、最大10 kHzの高い共振周波数と±5 mradの動作角を備えた高速Tip/Tiltピエゾステージです。優れたダイナミクス性能によりリアルタイムでのビーム補正を実現し、焦点ずれや加工ムラを低減。高精度かつ安定したレーザー加工プロセスの構築に貢献します。 【活用シーン】 ・レーザービームの高速ステアリング ・微細穴あけ/溝加工などの精密加工 ・加工中のリアルタイムビーム補正 ・高精度アライメント制御 【導入の効果】 ・加工精度と再現性の向上 ・高速応答による加工効率の改善 ・加工ムラ低減と歩留まり向上 ・装置性能の高度化

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高速チップ/チルト ピエゾステージ S-331

動作角:±5 mrad (光学各10 mrad)、10 kHzの共振周波数により、ダイナミック&高分解能&高速動作

高速ビームステアリング向け2軸 Tip/Tiltプラットフォーム。 パラレルキネマティック設計と歪みゲージ位置センサにより、フィードバック制御を行い、高速かつ高精度な位置決めとダイナミクス動作実現します。 レーザービーム・画像安定化・衛星光通信など、高ダイナミクスが必須のアプリケーションに最適。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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【電子部品実装向け】薄型設計・最大5m/s 高速リニアステージ

電子部品実装の高速化を実現する、薄型・高精度リニアモータステージ

電子部品実装業界では、生産性の向上と品質の向上が求められています。特に、高速な部品のピックアンドプレースや、高精度な位置決めが、生産効率を左右する重要な要素です。従来のステージでは、速度や精度に限界があり、生産性のボトルネックとなることがありました。当社の132 mm幅薄型高速リニアモーターステージ V-857は、高速・高精度な位置決めを実現し、電子部品実装の高速化に貢献します。 【活用シーン】 ・高速な部品実装 ・高精度な位置決めが必要な工程 ・小型・軽量化が求められる装置 【導入の効果】 ・生産性の向上 ・品質の向上 ・装置の小型化

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  • アクチュエーター
  • 直交ロボット

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132×94mmのスリムな筐体 高速リニアステージ V-857 

132mm幅、最大速度5 m/s、0.1 µm最小動作量のリニアモータステージ

・幅132 mm、高さ94mmのコンパクト筐体 ・動作量:400mm、800mmの2タイプ ・コアレスリニアモータ駆動で、最大速度:5000mm/s ・インクリメンタルとアブソリュートエンコーダータイプ:最小動作量は0.1µm ・耐荷重は1000Nあり、”V-857.TTx”モーションプラットフォームを用いて固定 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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【計測向け】最大800mmストローク リニアステージ V-855

0.1 µm分解能と最高4 m/sの高速動作で高精度測定を実現

計測分野では、高精度な位置決めと安定した動作が求められます。特に精密部品の検査や非接触測定、微細加工プロセスにおける位置決めでは、高分解能と高速動作を両立したステージが重要です。 V-855は、リニアモータによるダイレクトドライブと高精度リニアエンコーダを備えた高速リニアステージです。0.1 µmの最小インクリメンタルモーションと最大速度4,000 mm/s(4 m/s)により、高速かつ高精度な測定位置決めを実現します。さらに最大800 mmの長ストロークと高荷重(最大600 N)に対応しており、大型ワークや高速スキャン測定を伴う計測装置にも適しています。 【活用シーン】 ・精密部品の測定 ・半導体製造における検査 ・非接触測定システム ・研究開発装置の位置決め 【導入の効果】 ・高分解能位置決めによる測定精度の向上 ・高速動作による測定時間の短縮 ・長ストロークによる大型ワーク測定への対応

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【研究開発向け】800mmリニアモーターステージ V-855

高速4 m/s×高分解能で研究開発の位置決めを高精度化

研究開発分野の実験では、高精度な位置決めと安定した動作が求められます。特に微細構造の観察や精密加工、材料評価などの実験では、位置決め精度が測定結果や実験の再現性に大きく影響します。 V-855は、リニアモータによるダイレクトドライブと高精度リニアエンコーダを備えた高速リニアステージです。0.1 µmの最小インクリメンタルモーションと最大4,000 mm/s(4 m/s)の高速動作により、精密な位置決めと高速搬送を両立します。 さらに最大800 mmの長ストロークにより、大型試料の測定やスキャン測定など、研究開発装置における幅広い実験用途に対応します。 【活用シーン】 ・精密測定 ・微細加工 ・光学実験 ・材料試験 【導入の効果】 ・実験の再現性向上 ・測定精度の向上 ・作業効率の向上 ・実験時間の短縮

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【電子部品実装向け】最大800mmリニアステージ V-855

高速・高精度搬送を実現する最大800mmストロークのリニアモーターステージ

電子部品実装分野では、生産性の向上と品質の安定化が重要です。特に実装ラインにおける部品搬送では、高速動作と高精度な位置決めの両立が求められます。搬送速度の制限や振動による位置ズレは、実装精度や生産効率に影響を与える要因となります。 V-855は、リニアモータによるダイレクトドライブを採用した高速リニアステージです。最大4,000 mm/s(4 m/s)の高速動作と高精度リニアエンコーダにより、高速搬送と高精度位置決めを同時に実現します。さらに最大800 mmの長ストロークと高荷重(最大600 N)**に対応しており、電子部品実装装置や検査装置などの高速搬送用途に適しています。 【活用シーン】 ・高速実装ライン ・部品のピック&プレース ・検査装置 【導入の効果】 ・生産性の向上 ・品質の安定化 ・不良率の低減

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最高速度4m/s・高精度位置決め用途 リニアステージ V-855

0.1 µmの最小インクリメンタルモーションで、無負荷時の最大速度4000mm/秒、最大加速度50 m/s²、耐荷重600N

磁気ダイレクトドライブを採用したV-855は、600Nを支えるクロスローラーガイドとアイアンレス3相リニアモータを組み合わせ、振動レスで滑らかな高速搬送を実現します。 200 / 400 / 800 mmの3ストロークから選択でき、アブソリュートエンコーダモデルは原点出し不要で稼働率を向上。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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ACS社製モータステージ用モーションコントロールシステム

産業機械、半導体設備など、高精度に多軸モーションコントロールを必要とするお客様に最適

・高精度 最大64ch多軸同期モーション ・高度で高速なサーボ制御アルゴリズム ・EtherCATベースのユニバーサルサーボドライブ設計 ・レーザーアプリケーションに適したトリガー機能

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F-712.PM1型 光学パワーメーター

・20KHzの信号帯域幅 ・ハイダイナミクスレンジ ・周波数レンジ:400-1550nm ・入力電流レンジ:~1mA

この光パワーメータは、光信号を高分解能かつ極めて高帯域幅の電圧信号に変換することが可能です。 ファイバ入力の代替として、外部からの電流入力も可能で、フォトダイオードを接続し、ダイオード電流を変換することができます。 光パワーメータの波長範囲が広いため、切り替えなしで可視と赤外の両方エリアで作業が可能です。 この製品は、私たちのヘキサポッドやピエゾを用いた光学アライメントシステムに最適です。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

  • その他光学部品
  • センサ
  • 光学実験部品

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小型デジタルピエゾコントローラ E-709.1C1L

24 bit DAC×20 kHzサンプリングレート、アナログ制御も対応1軸ピエゾコントローラ

E-709.1C1L型コントローラは、静電容量式センサーを備えたピエゾベースの1chナノポジショニングシステムです。 ・出力電圧 -30~ 130 V ・ダイナミックアプリケーション向けに最適化されたアンプとセンサ ・デジタルリニアリゼーション ・インターフェース:USB・SPI・RS-232、0~+10 Vアナログ入力制御 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

  • コントローラ
  • サーボ
  • アンプ

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【光学部品向け】6自由度フォトニクスアライメント F-713

高速6自由度制御でアライメント時間を大幅短縮するフォトニクスソリューション

光通信分野やフォトニクスデバイス開発では、光ファイバーとフォトニックチップ間の高精度アライメントが接続品質を大きく左右します。わずかな位置ずれが結合効率の低下や信号損失につながる場合があります。F-713.H コンパクト高速6自由度フォトニクスアライメントシステムは、Hexapodベースの6DoF制御と高速スキャン機能により、効率的な自動アライメントを実現します。マルチチャネルアプリケーションにも対応し、研究用途から量産プロセス開発まで幅広く活用可能です。コンパクト設計のため、装置組み込みや生産ラインへの統合にも適しています。 【活用シーン】 ・光ファイバーとフォトニクスデバイスの自動アライメント ・PIC(フォトニック集積回路)の結合評価 ・シリコンフォトニクス開発 ・光通信モジュールの組立・評価 【導入の効果】 ・アライメント工程の高速化 ・結合効率の安定化 ・再現性の高い光学接続 ・研究から量産プロセス開発まで対応可能

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【防衛光学向け】高速・6自由度フォトニクスアライメント

アライメント時間を99%削減する、PIの高速光学アライメントソリューション

防衛光学分野では、光学部品の高精度なアライメントが、システムの性能を左右する重要な要素です。特に、レーザーやセンサーなどの精密な光学系においては、微小なズレが性能劣化や誤作動を引き起こす可能性があります。高速かつ正確なアライメントは、これらの問題を解決し、システムの信頼性を向上させるために不可欠です。当社の高速・6自由度フォトニクスアライメント F-713.Hxxは、これらの課題に対応します。 【活用シーン】 ・光学センサーの調整 ・レーザーシステムの構築 ・光学部品の製造 【導入の効果】 ・アライメント時間の短縮 ・システムの高性能化 ・歩留まりの向上

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【研究向け】6自由度フォトニクスアライメント F-713.Hxx

ナノレベル精度と高速スキャンを両立する6DoFフォトニクスアライメント

研究・実験分野において、フォトニクスデバイスや光ファイバーの高精度アライメントは、結合効率や測定結果の再現性に大きく影響します。特にSiPhウェーハやPICを用いた評価では、ナノメートル分解能での6自由度位置決めと、高速な探索動作が求められます。F-713コンパクト高速6自由度フォトニクスアライメントシステムは、Hexapodベースの6DoF制御と高速スキャン機能を組み合わせ、効率的な自動アライメントを実現します。マルチチャネル測定にも対応し、研究室環境での柔軟な実験構成が可能です。コンパクト設計のため、光学テーブル上での使用や既存実験系への統合にも適しています。 【活用シーン】 ・SiPhウェーハおよびPICの光結合評価 ・光ファイバーとフォトニックデバイスのアライメント実験 ・シリコンフォトニクス研究 ・光学系の微調整および最適化 【導入の効果】 ・アライメント工程の高速化 ・実験時間の短縮 ・再現性の高い光学評価 ・ナノレベルの高精度位置決め

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高速・6自由度フォトニクスアライメント F-713.Hxx

アライメント時間の99%削減する、PIの高速光学アライメントソリューション

ヘキサポッド6軸モーターステージと、XYZ軸ピエゾステージを組み合わせた高速・高精度フォトニクスアライメントシステム。 SiPhウェーハ、フォトニックデバイス、PIC、および光ファイバーに最適化されたスキャン/アライメントルーチン、強力な配列アライメントアルゴリズムで、高速・高精度、かつ同時アライメントを可能にします。 ヘキサポッドは、6軸をDCサーボモータ駆動で動作、サブミクロン位置決めが可能。また様々なデバイスに合わせて、任意に回転中心の設定が可能です。 XYZ軸ピエゾステージは、ナノレベル位置決めが可能で、高い共振周波数で高速応答・スキャンを可能にします。 WindowsおよびLinux上のC#、Python、LabVIEW、MATLABなどの一般的な言語のサポートを含む、迅速なプロセス開発のための広範で深いソフトウェアサポート。

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【光学位置決め向け】小型・高精度1軸リニアステージ L-836

光学系の精密位置調整に最適。幅60mm・最大200mmストロークのコンパクト高精度リニアステージ

光学システムでは、レンズやミラーなどの光学素子の位置調整が、装置性能を左右する重要な要素です。光軸のわずかなずれや焦点位置の変化は、画像品質の低下や測定精度の悪化につながる可能性があります。 L-836は、コンパクト設計ながら高精度な位置決めを実現するリニアステージです。精密ボールねじ駆動と高精度リニアガイドにより、光学素子の微調整や光学アセンブリ工程における安定した位置決めを実現します。光学装置や検査装置、研究用途など、さまざまな光学位置決め用途に対応します。 【活用シーン】 ・レーザー加工 ・光学アセンブリ ・試験・検査 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる光学性能の向上 ・作業効率の向上 ・製品品質の安定化

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【レーザー加工向け】高精度1軸リニアステージ L-836

レーザー切断・レーザー加工に最適な高精度位置決めステージ

レーザー加工では、切断位置や照射位置の精度が製品品質や加工効率に大きく影響します。特に精密加工や微細加工では、わずかな位置ずれが切断不良や材料ロスにつながる可能性があります。 L-836は、コンパクト設計ながら高精度な位置決めを実現するリニアステージです。精密ボールねじと高精度リニアガイドを採用し、レーザー加工装置における安定した位置決めと高い再現性を提供します。レーザー切断装置や精密加工装置の位置決め用途に適しています。 【活用シーン】 ・レーザー切断加工 ・レーザー微細加工 ・ワーク位置決め ・レーザー加工装置 【導入の効果】 ・レーザー照射位置の高精度制御 ・切断品質の向上 ・材料ロスの削減 ・加工プロセスの安定化

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小型設計・高分解能・高速動作 1軸リニアステージ L-836

60 mm幅・最大動作量200 mm、オプションで折返し駆動タイプ、保持ブレーキタイプ

動作量は、25〜200 mmまで6種をラインアップ ・2相ステッピングモーター駆動で、精密ボールねじ、循環ボールベアリング内蔵 ・最大速度:80mm/s ・最小動作量:0.3µm~、再現性:2µm~ ・耐荷重:150N ・折り畳み駆動タイプは、設置面積を削減 ・垂直動作用に保持ブレーキ付モデル ・リニアエンコーダ(オプション) ・XY軸、XYZ軸などにも拡張可能 レーザー加工、試験・検査、電子機器製造、光ケーブル製造、光学アセンブリ、シリコンフォトニクスなどに好適。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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高耐荷重リニアステージ『L/V-412,L/V-417』

最大トラベルレンジは813mm!循環式ボールベアリング採用により450Nまで耐可

『L/V-412,L/V-417』は、エンコーダの高解像度により、 性能ごとのトラッキングが向上するPIMag 高耐荷重リニアステージです。 トラッキングエラーが少なくなり、整定時間が短縮。 最大限の柔軟性のために、インクリメンタルエンコーダと アブソリュートエンコーダを選択することができます。 【特長】 ■最大トラベルレンジ:813mm ■定格フォース:87N ■インクリメンタル/アブソリュートエンコーダ選択可能 ■循環式ボールベアリング採用により450Nまで耐可 ■カバーストラップ採用により、パーティクルを防塵可 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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クリアアパーチャ設計 高精度XYステージ V-738

動作量は102×102 mmで、リニアモータとリニアエンコーダで、最小動作0.02µm、最大速度500 mm/sを実現

PI Magリニアモータ駆動のV-738は、光学式インクリメンタルエンコーダによりシステム分解能1 nm。XY方向それぞれ102 mmのストロークで、最大速度500 mm/s。コアレスのため速度リップルが小さく、低速域でも滑らかな動作を実現しています。 150 mm四方の開口により、レーザ光学ヘッドや検査カメラを内部に配置でき、装置の省スペース化に貢献 非接触式の光学式リニアエンコーダにより、プラットフォーム上で位置を直接かつ高精度に測定します。非線形性、機械的バックラッシュ、弾性変形の影響を受けません。 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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【研究開発向け】自動化技術分野に適したリニアステージ V-408

アイロンコア3相リニアモータ搭載、高精度位置決めを実現するリニアステージ

研究開発分野における実験では、精密な位置決めが実験結果の正確性を左右します。特に、微細な動きを制御する必要がある場合、位置決めの精度と安定性が重要になります。精度の低い位置決めは、実験データの信頼性を損ない、研究の遅延につながる可能性があります。PIMag リニアステージ『V-408』は、高精度な位置決め性能を提供し、研究開発における実験の効率化と精度の向上に貢献します。 【活用シーン】 産業および研究分野。 高い動特性と精度が求められるオートメーション技術分野。 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによるデータの信頼性向上 ・コンパクト設計による省スペース化 ・高耐荷重対応のクロスローラーガイドで摩擦を減少 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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高い動的性能と精度の分野に リニアステージ『V-408』

アイロンコア3相リニアモータ!駆動力を摩擦プラットフォームに伝達するコンパクト設計のPIMag リニアステージ

『V-408』は、3相の磁気ダイレクトドライブはドライブトレイン内で 機械部品を使用しないため、駆動力を摩擦プラットフォームに 伝達するPIMag リニアステージです。 クロスローラーガイドにより、ボールガイドのボールの点接触ではなく 強化ローラーが線で接触するようになっています。 これにより剛性が著しく増すとともに必要なプリロードが抑えられているため、 摩擦が低減しスムーズな動作が可能。クロスローラーガイドには、 ガイド精度が高く耐荷重が大きいという特長もあります。 【特長】 ■アイロンコア3相リニアモータ ■高耐荷重のクロスローラガイド ■最小インクリメンタルモーション 20nm ■双方向繰り返し性 ±0.1μm ■コンパクト設計 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【顕微鏡向け】U-723 XY軸小型リニアステージ

顕微鏡のサンプル位置決めに。高精度、省スペース、セルフロック。

顕微鏡の分野では、サンプルの精密な位置決めが不可欠です。特に、微小な対象を観察する際には、わずかな振動や位置ずれが、観察結果に大きな影響を与える可能性があります。U-723は、高精度な位置決め性能と、電源OFF時のセルフロック機構により、顕微鏡におけるサンプルの安定した位置合わせに貢献します。 【活用シーン】 ・顕微鏡のサンプル位置決めステージ 【導入の効果】 ・高精度な試料位置決めによる、観察精度の向上 ・ピエゾモーターの駆動原理および電気的制御は低コストで、カスタマイズも可能 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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【光学調整向け】超音波ピエゾモータ搭載XYステージ U-723

光学用途の高精度位置決めに。小型・分解能 10 nm、電源OFF時セルフロック。

光学業界では、レンズやミラーなどの精密な位置調整が、システムの性能を左右します。特に、微小な調整が求められる場面では、高精度な位置決め能力が不可欠です。調整の精度が低いと、光軸のずれや焦点のズレが生じ、システムの性能低下につながります。U-723は、小型ながら22mmの動作量と10nmの分解能を実現し、光学系の精密な位置調整を可能にします。 【活用シーン】 ・顕微鏡の対物レンズ調整 ・レーザー加工機の光軸調整 ・光学測定器のサンプル位置決め 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる光学性能の向上 ・省スペース化による装置全体の小型化 ・電源OFF時の位置保持による安全性の向上

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超音波ピエゾモーター搭載 コンパクトXYステージ U-723

サイズ42x42x21mm、22 mm動作量、最大速度200 mm/s、電源オフ時はセルフロックで位置保持

U-723はPILINE超音波ピエゾモータを採用した42x42 mm×高さ21 mmのXY軸小型リニアステージです。 小型ながら、22 mmXY軸の動作量、最大速度200mm/s。 内蔵インクリメンタルリニアエンコーダーでセンサー分解能10nm、最小動作量0.1µm、双方向再現性 ±0.2µmを実現。 電源OFF時には、2Nのセルフロック保持力で位置を保持。 アプリケーション例は、マイクロマニピュレーション、オートメーション、バイオテクノロジー、サンプル操作、サンプルポジショニング、限られたスペースでの動作。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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【マイクロマニピュレーション向け】薄型回転ステージ U-651

高さ14 mmの薄型、φ36 mmの開口、顕微鏡走査に最適

顕微鏡分野では、観察対象を高精度に走査し、鮮明な画像を得ることが求められます。特に、微細構造や生体組織の観察においては、正確な位置決めと高速な動作が重要です。従来のステージでは、サイズや動作速度が課題となる場合があります。U-651は、薄型設計と高速回転性能により、顕微鏡走査におけるこれらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察における試料の走査 ・レーザー走査顕微鏡 ・共焦点顕微鏡 【導入の効果】 ・高精度な位置決めと高速動作による鮮明な画像取得 ・薄型設計による顕微鏡への組み込みやすさ ・φ36mmの開口部により、レーザー光路や配線を通すことが可能 ※詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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【光学計測向け】ピエゾモータ駆動薄型高速回転ステージ U-651

高さ14 mm、φ36 mm開口、光学系の微調整に最適

光学業界では、レーザー光路やレンズなどの精密な調整が求められます。特に、限られたスペースでの角度調整や、高精度な位置決めが重要です。調整の精度が低いと、光学系の性能が低下し、実験結果や製品の品質に悪影響を及ぼす可能性があります。U-651は、薄型設計と高精度な位置決め性能により、光学系の微調整を容易にします。 【活用シーン】 ・レーザー光路調整 ・レンズアライメント ・光学フィルターの角度調整 ・光ファイバーの接続 【導入の効果】 ・高精度な調整による光学性能の向上 ・省スペース化 ・作業効率の向上 ・実験の再現性向上 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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高さ14 mmの薄型ピエゾモータ駆動高速回転ステージ U-651

高さ14 mmの薄型、φ36 mmの開口、停止時はセルフロック

PILine(R)超音波ピエゾモータを採用した『U-651』は、わずか14 mmの高さで、>360 °の回転動作するステージです。 最大速度540 °/sで、0.3 N·mトルク、光学角度エンコーダで、12 µradの最小動作を実現。 φ36 mmの開口で、レーザ光路や配線を通すことも可能。セルフロック機構が通電ゼロでも位置保持。 クロスローラーベアリングで耐荷重は20N。 ※詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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【光学調整向け】超音波モータ駆動小型回転ステージ U-628

サイズ50x50x19mm、無限回転、最大720°/s、電源OFF時セルフロック

光学業界における調整作業では、精密な角度調整が求められます。特に、光軸調整やレンズの微調整においては、高精度な位置決めと安定した動作が不可欠です。精度の低い調整は、光学系の性能低下や測定誤差につながる可能性があります。U-628は、高精度なインクリメンタル角度センサーとセルフロック機構により、光学調整作業の効率化と精度の向上に貢献します。 【活用シーン】 ・フィルタ角度最適化 ・偏光素子調整 ・光学計測系のキャリブレーション 【導入の効果】 ・波長依存性が高いフィルタの角度調整 ・偏光子・波長板角度の精密制御 ・干渉計、顕微鏡光路の角度最適化

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超音波ピエゾモーター搭載 小型・中空ロータリーステージU-628

サイズ50x50x19mm、無限の回転量、最大速度720°/s、電源オフ時はセルフロックで位置保持

U-628はPILINE超音波ピエゾモータを採用した50x50 mm×高さ19 mm、耐荷重 5Nの小型回転ステージです。 内蔵インクリメンタル角度センサーでセンサー分解能17μrad、最小動作量51μrad、双方向再現性 ±102μradを実現。 電源OFF時には、0.03 N・mのセルフロック保持力で位置を保持。 ※詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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【顕微鏡向け】高精度位置計測を実現する小型リニアステージ

マイクロマニピュレーションに適した小型リニアステージ

顕微分野では、試料の精密な位置決めが、観察の精度を左右する重要な要素です。特に、微小な対象をナノメートルレベルでの正確な位置制御が求められます。位置決めのわずかなズレが、観察像の劣化や、正確なデータ取得の妨げになる可能性があります。U-521は、小型ながら高精度な位置決めを実現します。 【活用シーン】 ・微小対象の正確な位置決め 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる観察精度の向上 ・機械的摩擦が少ない ・熱影響が少ない 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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