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ピーアイ・ジャパン株式会社

設立日本法人:1991年 ドイツ本社:1977年
住所神奈川県川崎市幸区堀川町580番地 ソリッドスクエア西館17F
電話044-280-7676
  • 特設サイト
  • 公式サイト
最終更新日:2026/02/10
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ピエゾポジショニングシステム ピエゾポジショニングシステム
リニアアクチュエータ リニアアクチュエータ
リニアステージ リニアステージ
XYステージ XYステージ
ピエソモータ ピエソモータ
電動モータ 電動モータ
精密グラナイト製品 精密グラナイト製品
ピエゾドライブ ピエゾドライブ
6軸システム 6軸システム
モータライズドポジショニング モータライズドポジショニング
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【光学向け】XYZ軸ピエゾステージ P-616

100 µm × 3軸。光学アライメントをナノ精度で実現するコンパクトXYZピエゾステージ

光学システムにおいて、ビーム位置や光軸のわずかなずれは、結合効率や測定精度に大きく影響します。特に干渉計測、レーザー集光、ファイバーアライメントなどの用途では、サブミクロン以下の位置制御が不可欠です。 P-616 NanoCubeは、各軸100 µmの動作範囲を備えたコンパクトなXYZピエゾナノポジショナーです。フレクシャガイド構造によりバックラッシュのない高直線性動作を実現。ナノメートル分解能での微細位置決めと高い機械的安定性により、光学系の精密アライメントを高い再現性でサポートします。 研究用途から装置組込みまで対応可能な設計で、フォトニクス分野の高度な位置制御ニーズに応えます。 【活用シーン】 ・光ファイバーアライメント(結合効率最適化) ・レーザー集光位置の微調整 ・干渉計・ホログラフィー装置 ・顕微鏡ステージ微動制御 ・フォトニクス研究装置への組込み 【導入の効果】 ・ナノ分解能による光軸調整精度向上 ・バックラッシュレス構造による高再現性 ・高剛性フレクシャ設計によるドリフト低減 ・コンパクト設計による装置内組込み容易化

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【半導体製造向け】XYZ軸ピエゾステージ P-616

半導体装置の微細位置補正に。100 µm × 3軸ナノポジショナー

半導体プロセスや検査装置では、サブミクロンレベルでの位置補正や焦点調整が品質安定化の鍵となります。特に検査工程や微細加工工程では、ナノメートル分解能での高精度位置制御が求められます。P-616 NanoCubeは、各軸100 µmのストロークを備えたコンパクトなXYZピエゾナノポジショナーです。高剛性フレクシャガイド構造によりバックラッシュのない滑らかな動作を実現し、ナノメートル分解能での微細位置調整が可能です。 半導体製造装置内の微動補正ステージや検査装置への組込み用途に適しています。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査装置の微細位置補正 ・マスク検査工程 ・レーザーアニール装置の焦点調整 ・プロービング装置の微動制御 ・半導体研究開発用途 【導入の効果】 ・ナノメートル分解能による高精度位置補正 ・バックラッシュレス構造による高再現性 ・コンパクト設計で装置組込みが容易 ・微細工程の安定化に貢献

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XYZ軸ピエゾステージ 100×100×100 µm P-616

各40mmサイズで、XYZ軸100µm動作のコンパクトXYZピエゾステージ

P-616 は、パラレルキネマティクスを採用した XYZ ピエゾナノポジショナです。 高信頼性PICMAピエゾセラミックス、フレクシャーガイド、静電容量センサを各軸に内蔵した、再現性10nm、0.4 nm システム再現性を提供します。 ファイバーの位置決めとアライメント、顕微鏡、ナノ位置決め、フォトニクス、マイクロマニピュレーションなどに最適。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。 【特長】 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【光学調整向け】高推力PICMAWalkアクチュエータ

最大12 mm/s・50 N高推力。光学調整に最適なサブナノ分解能PICMAWalkアクチュエータ

光学業界では、精密な光学系の調整において、ナノメートルレベルでの正確な位置決めが求められます。特に、光軸調整やレンズの位置決めなど、わずかなズレがシステムの性能に大きな影響を与える場面では、高精度な位置決め能力が不可欠です。不正確な調整は、画像の歪みや測定精度の低下を引き起こす可能性があります。高推力PICMAWalkアクチュエータ N-331は、ナノメートル精度で位置決めを実現し、光学系の性能を最大限に引き出します。 【活用シーン】 ・光学顕微鏡の対物レンズ調整 ・レーザー加工機の光軸調整 ・半導体製造装置におけるウェーハ位置決め 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルでの高精度な位置決め ・光学系の性能向上 ・作業効率の向上

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【半導体検査向け】50N高推力・真空仕様有りのアクチュエータ

最大12 mm/s・50 N高推力。半導体検査工程に最適なサブナノ分解能PICMAWalkアクチュエータ。

半導体製造業界では、製造プロセスの高度化に伴い、ウェーハやマスクの位置決めにおける高精度な制御が不可欠です。特に、微細加工や検査工程においては、ナノメートルレベルでの正確な位置決めが製品の品質と歩留まりを左右します。位置決めの精度が低いと、不良品の発生や製造効率の低下につながる可能性があります。N-331 PICMAWalkは、最大50 Nの高推力とサブナノメートル分解能を両立した組込み型リニアアクチュエータです。最大12 mm/sの高速動作に対応し、検査装置のタクトタイム短縮にも貢献します。 摩擦駆動方式により電源オフ時でも位置保持が可能。さらに真空対応仕様により、半導体検査装置やクリーン環境下での使用にも適しています。 【活用シーン】 ・半導体製造装置におけるウェーハ位置決め ・マスクアライナーにおける位置決め ・検査装置における高精度位置決め 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルでの高精度な位置決めを実現 ・製造プロセスの品質向上と歩留まり向上に貢献 ・真空環境下での使用が可能 推力特性、その他仕様、真空対応オプションなどの詳細はカタログをご確認ください。

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高推力PICMAWalkアクチュエータ N-331

最大速度12 mm/s、50 Nの駆動力、ナノ位置決め動作の組込みアクチュエータ

N-331 PICMAWalkは、ピエゾ素子のナノ分解能とステッピング動作を融合したウォーキングドライブ・リニアアクチュエータです。 動作量は、25mm、50mm、100mmタイプがあり、駆動力50N、保持力60Nをもちます。 PiezoWalk(R)ウォーキングドライブは、複数のピエゾアクチュエータが歩行運動を行い、ランナーの送り動作につながります。 アクチュエータの制御により、1ナノメートル未満の分解能で最小のステップおよびフォワードフィードモーションが可能になります。 インクリメンタルリニアエンコーダによる高精度な位置測定を行います。また、10⁻9 hPa真空対応アクチュエータも対応します。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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PIMag リニアモータXY軸ステージ『L-731/V-731』

産医療産業、レーザー切断、走査などに!高精度位置決め可能なリニアモータステージ

『L-731/V-731』は、クロスローラーガイドケージのクリープを防ぐ PIMag(R)リニアモータXY軸ステージです。 高剛性が必用な環境下では「L-731」、速度安定性が重要な アプリケーションには「V-731」が好適です。 産医療産業、レーザー切断、走査、バイオテクノロジーなどにご使用いただけます。 【特長】 ■トラベルレンジ:205x205mm(8インチ) ■インクリメンタルリニアエンコーダ(分解能1nm) ■クロスローラーガイドケージのクリープを防ぐ ■高剛性が必用な環境下ではL-731が好適 ■速度安定性が重要なアプリケーションにはV-731が好適 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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小型リニアステージ『L-505』

リミットスイッチ内蔵!DCステッピングモータ付きコンパクトリニアステージ

『L-505』は、DC/ステッピングモータ選択可能な小型リニアステージです。 リニアステージには、フランジモーターを備えた細長いタイプと、 ベルトドライブ(折り畳み式ドライブトレイン)を備えた幅広くコンパクトな タイプ2つのデザインバリエーションをご用意。 また、インクリメンタルエンコーダによる高精度位置測定が可能です。 【特長】 ■トラベルレンジ:13mmまたは26mm ■ギヤヘッドなしのステッピングモータあるいはDCサーボモータ選択可能 ■速度:15mm/s ■最大荷重:30N ■リファレンスポイント・リミットスイッチ内蔵 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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高精度Zステージ『L-310』

工業、研究分野の精密ポジショニングに!高デューティサイクルのZステージ

『L-310』は、ボールネジとクロスローラーガイドにより、 高いガイド精度と剛性を実現する製品です。 高い安定性を可能にする応力緩和アルミニウムベースを使用。 また、真空対応バージョン可能非接触リミットスイッチと基準点スイッチを備え、 基準点スイッチには、トラベルレンジの中央に方位センシングが搭載されています。 【特長】 ■高いガイド精度と剛性を実現 ■応力緩和アルミニウムベース使用 ■スムーズな動作と低摩擦で長寿命を実現 ■インクリメンタルエンコーダーによる高精度の位置測定 ■小インクリメンタルモーションと低速モーション ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【手術支援向け】L-239型 高耐荷重リニアアクチュエータ

手術支援における精密な位置決めを実現する高耐荷重リニアアクチュエータ

医療分野、特に手術支援においては、精密な機器制御が患者の安全と手術の成功に不可欠です。微細な動きが求められる場面では、高い精度と安定性が求められます。L-239型は、高分解能と高フィードフォースにより、手術支援ロボットや精密機器の正確な位置決めを可能にします。これにより、手術の精度向上に貢献します。 【活用シーン】 ・手術支援ロボット ・内視鏡検査 ・顕微鏡手術 【導入の効果】 ・手術の精度向上 ・患者への負担軽減 ・医療従事者の負担軽減

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高耐荷重リニアアクチュエータ『L-239型』

研究、光学アライメントなどの使用に!高分解能でハイパワーなリニアアクチュエータ

『L-239型』は、真空対応でカスタマイズ可能な高耐荷重リニアアクチュエータです。 センサー内蔵で、センサー分解能、設計分解能などの機能を搭載。 研究をはじめ、光学アライメント、オートメーションでの使用に適しています。 【特長】 ■高フィードフォース:300N ■トラベルレンジ:52mm ■速度~50mm/s ■真空対応(10-9hPa)カスタマイズ可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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PIMag リニアモーターコントローラ『C-413』

PIMagボイスコイル駆動のためのデジタルモーションコントローラ。幅広いサポート機能が搭載

PIMag リニアモーターコントローラ『C-413』は、 PIMag ボイスコイル駆動のためのデジタルモーションコントローラです。 1モーターチャンネル、2センサーチャンネルで、 V-275およびV-275リニアアクチュエータに対応可能です。 モーター電流、速度、位置、位置誤差など移動データを 記録するデーターレコーダーなど、幅広いサポート機能が搭載されています。 また、PIMag リニアモーターコントローラには、 最大平均電流消費3Aタイプの「C-891」もございます。 【特長】 ■力×2、位置×2センサーの最大4センサーチャンネル ■構成やコマンド送信のためにTCP/IPまたはUSBインターフェイス採用  (バージョンによる) ■コマンド送信用リアルタイムSPIインターフェイス(バージョンによる) ■オプションのアナログ入出力 ■保持電流の自動ゼロ機能 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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PIglide 直動エアベアリングステージ『A-110』

スキャニングまたは高分解能ポジショニングに最適なエアベアリングステージ

『PIglide 直動エアベアリングシリーズ』は、磁気的にプリロードされた空気ベアリング および内蔵光学リニアエンコーダーによるリニアサーボモーター駆動です。 これらの非接触部品を組み合わせることにより、最高のパフォーマンス、品質、 製品寿命を持つ無摩擦モーションプラットフォームが実現しました。 エアベアリングステージシリーズには、「XY軸小型エアベアリングステージ」、 「XY軸大型エアベアリングステージ」、「エアベアリングロータリーステージ」などもございます。 【特長】 ■非接触完全プリロード空気ベアリング ■スキャニングまたは高分解能ポジショニングに最適 ■クリーンルームに対応 ■カスタマイズ可能 ■内蔵光学リニアエンコーダー 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他機械要素
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【製造業向け】H-840 ヘキサポッドシステム

±50 mm / ±30°対応・高速6軸制御ヘキサポッド

H-840 ヘキサポッドは、製造装置や検査工程への組込みに適した6自由度パラレルキネマティクス位置決めシステムです。±50 mm / ±30°の広い動作範囲と高ダイナミック性能を備え、高速かつ高精度な6軸同時制御を実現。光学アライメントや精密検査、微細加工工程における位置調整を高精度にサポートします。詳細な仕様・構成例はカタログをご覧ください。 【活用シーン】 ・半導体/電子部品の高精度検査 ・光学部品の6軸アライメント ・レーザー加工装置への組込み ・精密組立・調整工程 【導入の効果】 ・6軸同時制御による高精度位置合わせ ・高速応答によるタクトタイム短縮 ・広い可動範囲で多様なワークに対応 ・装置組込みに適したコンパクト設計

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【研究向け】H-840 ヘキサポッドシステム

高速6軸制御を実現するコンパクトヘキサポッド

H-840 ヘキサポッドは、研究用途向けに設計された6自由度パラレルキネマティクス位置決めシステムです。コンパクト設計ながら高ダイナミック性能を備え、高速かつ高精度な位置決めを実現。光学アライメントや精密実験、レーザー制御など、サブミクロンレベルの調整が求められる用途に適しています。高い繰返し精度と安定性により、研究環境での再現性向上を支援します。詳細仕様はカタログをご覧ください。 【活用シーン】 ・光学・レーザーアライメント ・精密計測/評価装置 ・バイオテクノロジー実験 ・マイクロマニピュレーション ・大学・研究機関での位置制御実験 【導入の効果】 ・6軸同時制御による高精度アライメント ・高速応答による実験時間の短縮 ・高い繰返し精度による実験再現性の向上 ・コンパクト設計で限られた実験スペースにも対応

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ピーアイ・ジャパン株式会社 6軸ステージ

摩擦を抑えながら信頼性の高い動作を実現!マイクロ製造、医療技術、工具制御に使用可能!

ピーアイ・ジャパン株式会社では、6軸ステージを多数取り扱っています。 高速・高精度の小型ヘキサポッドの「H-811.I2」をはじめ、 高速動作・中程度耐荷重が特長のパラレルキネマティック・ヘキサポッド「H-840」、 高精度ファイバーアライメントシステム「F-712」などをラインアップ。 研究および工業用途、マイクロ製造、医療技術、工具制御に応用されています。 【特長】 〈小型ヘキサポッド「H-811.I2」〉 ■トラベルレンジ:±17mm/±21° ■負荷容量:5kg ■再現性:±0.06μm ■最大速度:20mm/s ■きわめて長寿命 ■真空対応バージョンあり ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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  • その他産業用ロボット
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【ナノポジショニング向け】高精度Zステージ 0.1nm分解能

0.1nm分解能と0.02%リニアリティ。サブナノZ軸制御で製造・計測精度を向上

ナノテクノロジー製造業界では、微細加工や精密測定において、サブナノレベルの位置決め精度が不可欠です。特に、半導体製造やMEMSデバイスの製造プロセスでは、わずかな位置ずれが製品の品質に大きな影響を与える可能性があります。P-620.Z~P-622.Zは、摩擦のないフレクシャガイドシステムとPICMAピエゾアクチュエータの組み合わせにより、高い信頼性と長寿命を実現し、製造プロセスの安定化に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体製造におけるウェーハ検査 ・MEMSデバイス製造における微細加工 ・干渉計、共焦点顕微鏡などの精密測定 【導入の効果】 ・製造プロセスの歩留まり向上 ・製品の品質向上 ・測定精度の向上 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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【半導体向け】PIHera高精度Z軸ステージ 0.1 nm分解能

サブナノメートルの分解能を提供。0.1nm分解能・高リニアリティ垂直ポジショニング

半導体業界では、高精度な位置決めが求められます。特に、ウェーハ検査や微細構造の計測においては、サブナノレベルの安定性と高速な制御が不可欠です。位置決めの誤差は、計測結果の信頼性を損ない、歩留まりの低下につながる可能性があります。本製品は、0.1 nmの分解能と0.02 %の直線性により、半導体計測における高精度な位置決めを実現します。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査 ・微細構造計測 ・干渉計 ・共焦点顕微鏡 【導入の効果】 ・計測精度の大幅な向上 ・歩留まりの改善 ・高速かつ高精度な位置決め ・サブナノレベルの安定性 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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PIHera 高精度Z軸ステージ P-620.Z~P-622.Z

0.1 nm分解能×0.02 %直線性。50-250 µmを摩擦ゼロで高速サーボ制御

PIHera P-620.Z/P-621.Z/P-622.Zは、垂直ストローク50・100・250 µmを0.1 nm分解能で駆動するZ軸ピエゾステージです。 静電容量センサが移動プラットフォームを直接計測し、リニア誤差を0.02 %に抑制。 ゼロバックラッシのフレクシャガイドは潤滑不要・発塵レスで、1 kHz級共振周波数とサブミリ秒応答を実現します。 アクチュエータはオールセラミック絶縁PICMA(R)で1000億サイクルの長寿命を実証済み。 干渉計、共焦点顕微鏡、半導体検査などサブナノ安定性と高速性を同時に求める装置のZ制御に最適です。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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【光学向け】高荷重対物レンズフォーカススキャナ P-726

100 µmストローク・0.4nm分解能 高荷重対物レンズ対応 高速・高精度PIFOCフォーカススキャナ

光学機器や計測装置における対物レンズのフォーカス制御では、高精度なZ位置決めと高速応答が求められます。特に対物レンズが大型・高開口数(NA)の場合、従来機構では動作レスポンスや安定性が課題となり、測定精度や観察品質に影響を及ぼす可能性があります。 P-726 PIFOC高荷重対物レンズフォーカススキャナは、最大100 µmのストロークと、静電容量センサーによる直接測定で得られる サブナノメートル分解能の高精度フォーカス制御を実現します。また、フレクシャガイド構造により摩擦・バックラッシュがなく、高荷重条件でも高い剛性と安定性を維持します。これにより、光学計測装置の精度とスループットを向上させ、測定・観察の信頼性を高めます。 【活用シーン】 ・対物レンズの精密フォーカス制御 ・共焦点顕微鏡・超解像顕微鏡のZスキャン ・3D光学イメージング装置 ・高精度光学計測装置(干渉計・オートフォーカス系) 【導入の効果】 ・高精度なZ位置制御による光学測定精度の向上 ・高速な動作レスポンスによる検査・観察時間の短縮 ・大重量レンズ対応の高荷重性能 ・長期安定性・低メンテナンス性

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【ナノテクノロジー向け】レンズフォーカススキャナ P-726

ナノ構造解析を支える 高荷重対応・サブナノ分解能フォーカススキャナ

ナノテクノロジー分野の構造解析では、ナノスケールでの高精度なZ方向フォーカス制御が不可欠です。 P-726 PIFOCは、100 µmストロークとサブナノメートル分解能(約0.3 nmクラス)を実現した高荷重対応フォーカススキャナです。 静電容量センサーによる直接フィードバックとフレクシャガイド構造により、高い位置決め精度と再現性を提供。約6msの高速セットリング性能により、Zスキャンを伴うナノ構造観察や3Dイメージングの効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡によるナノ構造観察 ・超解像光学顕微鏡のZスキャン ・光学式ナノ構造解析装置 ・3Dイメージング評価装置 【導入の効果】 ・サブナノ分解能による高精度フォーカス制御 ・高速セットリングによる測定効率向上 ・高荷重対応による光学系設計自由度向上 ・長期安定動作による再現性向上

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【バイオテクノロジー向け】対物レンズピエゾステージ P-726

100 µmストローク、サブナノ分解能、210 g負荷時560 Hzの高応答フォーカススキャナ

バイオテクノロジー分野における細胞観察では、微小なフォーカス変動が画像品質に影響を与えます。P-726 PIFOCは、100 µmのZストロークとサブナノメートル分解能を備えた高荷重対応フォーカススキャナです。静電容量センサーによる直接位置フィードバックとフレクシャガイド構造により、高い位置決め精度と再現性を実現します。 さらに、210 g負荷時で560 Hzの共振周波数を持ち、高NA対物レンズ搭載時でも高い動的性能を維持。高速セットリング(約6ms)により、Zスタック取得やフォーカススキャンを効率化します。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡 ・超解像顕微鏡 ・ライブセルイメージング ・Zスタック取得を伴う3Dイメージング 【導入の効果】 ・高精度フォーカス制御による画像安定性向上 ・高速Z応答による測定効率改善 ・高荷重対応による光学系設計自由度向上 ・再現性の高いフォーカス位置決め

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【半導体ウェーハ検査向け】レンズフォーカススキャナ P-726

ウェーハ検査の高スループット化を支える 高荷重対応・高精度Zフォーカススキャナ

半導体ウェーハ検査では、微細欠陥を安定して検出するために、高分解能なZ方向フォーカス制御と高速応答性が求められます。特に高NA対物レンズを用いた光学検査システムでは、フォーカス精度と再現性が検査結果の信頼性に直結します。P-726 PIFOC高荷重対物レンズフォーカススキャナは、最大100 µmのZストロークとサブナノメートル分解能の位置制御を実現。静電容量センサーによる直接位置フィードバックとフレクシャガイド構造により、高い線形性・繰り返し精度・長期安定性を提供。 さらに、約6msの高速セットリング性能により、Zステップ動作を伴う検査プロセスの最適化に貢献します。高荷重設計のため、高NA対物レンズや付加光学部品搭載時でも安定した動作が可能。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハ表面の光学検査におけるZフォーカス制御 ・高NA対物レンズを用いた欠陥解析装置 ・共焦点光学系を用いた三次元検査 ・レーザー・光干渉式検査装置のZスキャン 【導入の効果】 ・高精度フォーカス制御による測定安定性向上 ・高速セットリングによるZステップ時間の短縮 ・高荷重対応による光学系設計の自由度向上

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高荷重対物レンズフォーカススキャナ P-726

100 µmのストローク、システム分解能0.4nm、荷重210g時でも560Hzの共振周波数

P-726は重い高NA対物レンズを高速・高精度で駆動するPIFOC(R)ハイロードフォーカススキャナです。 フレクシャガイドと静電容量センサを内蔵し、0.3 nmのOpenLoop分解能、0.02 %リニアリティエラーを実現。 共振周波数は無負荷で1120Hz、210 g負荷でも560 Hzを維持し、半導体ウェハ検査や共焦点・超解像顕微鏡のZスキャンを高速化。 QuickLockアダプタでM32/M27など主要スレッドサイズに対応。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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【光学調整向け】高精度パラレルキネマティクス P-733.2

再現性±1nm、XY軸100µmストローク。透過光光学系に最適な高精度ナノポジショナー

光学分野における精密な光軸調整や位置決めは、システム性能を最大化するための重要な要素です。特に高分解能顕微鏡や精密計測装置では、わずかな位置ずれが測定精度や再現性に大きく影響します。 高精度パラレルキネマティクス構造を採用した P-733.2 は、再現性±1nm のナノレベル位置決めを実現し、XY軸100µmのストロークで透過光アプリケーションに対応します。研究開発から装置組込みまで、光学系の高精度化や調整作業の効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・高精度顕微鏡 ・マスク/ウェーハの位置決め ・干渉計・光学計測装置 【導入の効果】 ・再現性±1nmの高精度位置決め ・透過光光学系へのスムーズな組込み ・光軸調整時間の短縮と開発効率向上

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【半導体製造向け】高精度パラレルキネマティクス P-733.2

再現性±1nm、XY軸100µmストローク。半導体製造装置向け高精度ナノポジショナー

半導体製造分野では、ウェーハやマスクの位置決めにおいて極めて高い精度と安定性が求められます。微細化の進展により、ナノレベルの位置決め誤差がデバイス性能や歩留まりに直接影響する時代となっています。特に露光装置や検査装置では、再現性と安定性を兼ね備えた精密制御が不可欠です。 P-733.2は、再現性±1nmの高精度XYナノポジショニングを実現。100µmストロークと高剛性パラレルキネマティクス構造により、半導体製造装置への組込み用途にも適しています。高精度位置決めにより、工程安定化と歩留まり向上に貢献します。 【活用シーン】 ・露光装置 ・マスク/ウェーハ位置決め ・検査・計測装置 【導入の効果】 ・再現性±1nmによる工程安定化 ・高精度位置決めによる歩留まり向上 ・安定動作による装置性能の最大化

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高精度・高動特性を実現するパラレルキネマティクス P-733.2

再現性 ±1nm、XY軸100 µm+Z軸10 µmストローク、50 mm開口で透過光にも最適

高信頼性のPICMAピエゾセラミック駆動、静電容量センサによるダイレクト計測を行うXYZ軸ナノポジショニングステージです。 XY軸動作量は、30x30µmと100 × 100 µmタイプで、Z軸は10 µmストロークになります。 開口 50 × 50 mmを持つため透過光アプリケーションにも最適。 高精度顕微鏡、マスク/ウェーハの位置決め、計測技術などに使われます。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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【計測向け】XYZ軸精密位置決めステージ P-561~563

プローブ位置決めをサブナノ精度で実現するPIMars精密ナノステージ

高精度計測において、プローブの位置決め精度は測定結果の信頼性を左右します。わずかな振動やクロストークが誤差要因となるため、高剛性かつクローズドループ制御による安定したナノポジショニングが求められます。 P-561・P-562・P-563 PIMars Nanopositioning Stages は、パラレルキネマティクス構造と静電容量式センサを採用したXYZ多軸ピエゾフレクシャステージです。再現性±2 nm、リニアリティ0.03%を実現し、低クロストークで高精度なプローブ位置決めを可能にします。 高共振周波数と優れた動的特性により、高速スキャン計測や微小変位測定にも対応。半導体検査やナノ材料解析など、精密計測用途に最適です。 【活用シーン】 ・半導体検査 ・超解像顕微鏡 ・フォトニクス調整 【導入の効果】 ・高精度な測定結果の実現 ・測定時間の短縮 ・製品品質の向上

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【顕微鏡向け】PIMars XYZ軸開口部付ピエゾステージ

顕微鏡の試料位置決めをナノ精度で実現するPIMars XYZナノステージ

電子顕微鏡(SEM / TEM)による高分解能観察では、試料の位置決め精度が画像品質を左右します。わずかな振動やクロストークが測定精度に影響を与えるため、高剛性かつ高応答なポジショニングステージが不可欠です。 P-561・P-562・P-563・PIMars Nanopositioning Stages は、静電容量式センサーにより高精度と位置決め安定性を実現。動作量は、XYZ 各100/200/300 µm(モデル別)で再現性は±2nm、リニアリティ:0.03%をもちます。 【活用シーン】 ・電子顕微鏡観察における試料の位置決め ・半導体検査 ・超解像顕微鏡 ・フォトニクス調整 【導入の効果】 ・ナノオーダーでの精密な位置決めにより、観察精度が向上 ・高分解能と高速応答により、効率的な観察が可能 ・高信頼性と長寿命により、安定した運用を実現

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XYZ軸300µm動作 精密位置決めステージ P-561~563

66 mm開口×XYZ軸最大300 µmをナノオーダーで精密位置決め

P-561〜563シリーズは、パラレルキネマティクス構造と静電容量式センサを採用したXYZ軸動作ピエゾナノポジショナ。 動作量は、XYZ 各100/200/300 µm(モデル別)で再現性は±2nm、リニアリティ:0.03%をもちます。 開口は、66×66 mmで透過光・レーザ光路を確保します。 ダイレクト駆動タイプは、XY軸45µm、Z軸15µm動作で、1000Hzの無負荷時共振周波数を持ち、高分解能で高速応答が実現します。 また、PICMAピエゾセラミックスは、オールセラミックスで絶縁されており対湿度性をもち、高信頼性、長寿命を確保します。半導体検査、超解像顕微鏡、フォトニクス調整などに最適です。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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【計測向け】開口50mm ピエゾスキャナ P-517/527

摩擦ゼロのフレクシャガイド一体構造。高再現性ナノポジショニングで校正精度を向上

計測分野における校正や微細位置調整では、高い再現性と安定した位置決め性能が不可欠です。特にナノスケールでの測定やアライメントでは、わずかなバックラッシュや摩擦が測定結果の信頼性に影響を与えます。 P-517/P-527 マルチ軸ピエゾスキャナは、摩擦ゼロのフレクシャガイドによる一体型構造を採用し、ヒステリシスや機械的遊びを最小化。ナノレベルの分解能と高再現性により、校正作業や精密計測の精度向上に貢献します。安定した動作特性は、長期的な測定信頼性の確保にも寄与します。 【活用シーン】 ・光学検査装置 ・ウェーハ検査・計測装置 ・ナノポジショニング用途 ・精密計測システム ・顕微鏡・走査系装置 【導入の効果】 ・高再現性による校正精度の向上 ・摩擦ゼロ構造による安定した測定環境 ・測定データの信頼性向上と品質管理強化

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【精密加工向け】開口50mm ピエゾスキャナ P-517/527

摩擦ゼロのフレクシャガイド一体構造。ナノ精度で微細加工を支える高性能スキャナ

精密加工分野では、さらなる微細化と高品質化が進み、ナノレベルでの位置決め精度が製品性能を左右する重要な要素となっています。特にレーザ加工やマイクロパターニングでは、振動や摩擦によるわずかな誤差が加工品質に直結します。 P-517/P-527 マルチ軸ピエゾスキャナは、摩擦ゼロのフレクシャガイド一体構造を採用し、バックラッシュや摩耗を排除。PICMAピエゾセラミックと高分解能静電容量センサーにより、ナノレベルの再現性と高ダイナミクスを実現します。安定した高速応答により、微細加工における高精度な位置制御を可能にし、加工品質と歩留まり向上に貢献します。 【活用シーン】 ・レーザ微細加工装置 ・マイクロパターニング ・ウェーハ加工・検査装置 ・ナノポジショニング用途 ・精密計測・加工システム 【導入の効果】 ・ナノレベルの高精度加工制御 ・安定動作による加工品質向上 ・加工時間短縮と生産性向上 ・歩留まり改善によるコスト削減

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【光学分野向け】開口50mmピエゾスキャナ P-517/527

ナノレベルの位置決めを実現する、摩擦ゼロのマルチ軸ピエゾスキャナ

光学分野における位置決めは、高精度な測定や検査、微細加工において、非常に重要な要素です。特に、レンズやミラーなどの光学部品の位置調整は、システムの性能を左右する重要な課題です。従来の機械的な位置決め方法では、摩擦やバックラッシュによる精度の限界があり、高精度な位置決めが困難な場合がありました。P-517/527マルチ軸ピエゾスキャナは、ナノレベルの分解能と再現性により、光学部品の位置決めにおける課題を解決します。 【活用シーン】 ・光学検査 ・ウェハー検査 ・ナノポジショニング ・計測 ・顕微鏡 【導入の効果】 ・サブナノメートルの分解能による高精度な位置決め ・摩擦ゼロのフレクシャガイドによる安定した動作 ・静電容量センサーによる高いリニアリティ ・50 x 50mmの開口による透過光測定への対応

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開口50 mmマルチ軸ピエゾスキャナ P-517/527

摩擦ゼロのフレクシャガイドによる一体型構造—XY軸、XYZ軸、XYθz軸動作が可能

P-517/527マルチ軸ピエゾスキャナは、摩耗ゼロのフレクシャガイドとPICMAピエゾセラミック、静電容量センサーを用いて、ナノレベルの再現性、分解能をもち、動作軸は、XY軸、XYZ軸、XYθz軸のタイプがあります。 XY軸は100µmと200µm、Z軸は20µm、θzは2mradタイがあります。耐荷重50Nあり、光学検査、ウェハー検査、ナノポジショニング、計測、顕微鏡などアプリケーションに最適。 50 × 50mmの開口で透過光も可能。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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【ナノテクノロジー向け】積層ピエゾ P-882・P-888

超高剛性、サブナノ分解能、耐湿性、長寿命を実現するピエゾアクチュエータ

ナノテクノロジー分野では、ナノスケールでの精密な操作が求められます。特に、原子レベルでの物質の操作や、微細構造の製造においては、正確な位置決めと安定した動作が不可欠です。従来の技術では、環境変化による影響を受けやすく、精度の維持が難しいという課題がありました。多層PICMA(R)ピエゾアクチュエータ P-882・P-888は、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・走査型プローブ顕微鏡(SPM) ・ナノインデンテーション ・微細加工 ・光学系の精密調整 ・半導体製造装置 【導入の効果】 ・サブナノメートルの分解能による高精度な操作 ・過酷な環境下での安定した動作 ・長寿命化によるメンテナンスコストの削減 ・多様な形状とカスタム対応による柔軟なシステム構築 ・高スループット化の実現

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【精密加工向け】ピエゾアクチュエータ P-882・P-888

超高剛性×サブナノ分解能、過酷な環境下でも長寿命を実現

精密測定の分野では、ナノレベルの精度が求められる測定や、過酷な環境下での測定が不可欠です。温度変化や振動、真空環境下など、様々な外的要因が測定精度に影響を与えるため、安定した動作と高い耐久性が重要になります。PICMA(R)多層ピエゾアクチュエータ P-882・P-888は、これらの課題に対し、高い剛性と耐環境性能で応えます。 【活用シーン】 ・走査型プローブ顕微鏡(SPM) ・半導体製造装置 ・光学素子の精密位置決め 【導入の効果】 ・サブナノメートルの分解能による高精度な位置決め ・過酷な環境下での安定した動作 ・長寿命化によるメンテナンスコスト削減

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【顕微鏡向け】ピエゾアクチュエータ P-882・P-888

超高剛性×サブナノ分解能、顕微鏡のフォーカス制御に最適

顕微鏡の分野では、観察対象を高精度にフォーカスすることが、鮮明な画像を得るために不可欠です。特に、高倍率での観察や、動的な観察においては、ピントの微調整が重要になります。ピントがずれると、観察対象の詳細を見ることができず、正確な分析や研究の妨げになります。PICMA(R)多層ピエゾアクチュエータ P-882・P-888は、サブナノメートルの分解能と超高剛性により、顕微鏡のフォーカス制御を精密に行い、鮮明な画像を提供します。 【活用シーン】 ・顕微鏡のフォーカス調整 ・細胞観察 ・材料分析 ・半導体検査 【導入の効果】 ・高精度なフォーカス制御による鮮明な画像取得 ・観察時間の短縮 ・研究・分析の効率化

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【ライフサイエンス向け】積層ピエゾ P-882・P-888

超高剛性×サブナノ分解能、ライフサイエンス研究の精密操作を支援

ライフサイエンス分野では、細胞・組織・微小試料を対象とした高精度な操作や計測が求められます。特に、顕微鏡下での微細操作や計測系では、わずかな位置誤差や振動が実験結果の再現性や信頼性に影響を与えます。PICMA積層ピエゾアクチュエータ P-882・P-888は、サブナノメートル分解能と超高剛性により、安定した精密制御を実現し、ライフサイエンス研究を強力にサポートします。 【活用シーン】 ・顕微鏡下での細胞・試料の精密操作 ・マイクロマニピュレーターやステージ制御 ・バイオ計測・干渉計システムへの組み込み 【導入の効果】 ・実験・計測の再現性向上 ・微細操作の安定化 ・研究効率の向上

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【光学分野向け】ピエゾアクチュエータ P-882・P-888

超高剛性×サブナノ分解能、光学系の微調整に最適

光学分野では、高精度な位置決めと微調整が求められます。特に、レンズやミラーの位置調整は、光学系の性能を左右する重要な要素です。わずかなズレが、画像品質の低下や測定精度の悪化につながる可能性があります。多層PICMA(R)ピエゾアクチュエータ P-882・P-888は、サブナノメートルの分解能と超高剛性により、光学系の精密な位置決めと微調整を実現します。 【活用シーン】 ・光学系の波面補正 ・レンズ・ミラーの微調整 ・干渉計用参照ミラー制御 ・レーザー光学系の安定化 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる、光学性能の向上 ・サブナノメートル分解能による、微細な調整 ・長寿命と高い信頼性 ・過酷な環境下での安定動作

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PICMA 積層ピエゾアクチュエータ P-882・P-888

超高剛性×サブナノ分解能、耐湿性により長寿命

PICMA(R)多層ピエゾアクチュエータ P-882・P-888は、セラミック絶縁構造により湿度や電解腐食に強く、温度安定性に優れています。 カスタムにより、最大200度までの耐高温度性を持たせたり、最大20 Aの大電流対応や、穴あき、円形、長方形など形状変更にも対応。 さらにUHV 10⁻⁹ hPa対応し、アウトガスがなく、高いベーク温度にも耐えられ、真空装置や極低温環境など過酷環境下でも動作。 多彩なサイズ・形状バリエーションに加え、カスタム仕様やセンサ内蔵型も選択可能です。 ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

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【顕微鏡向け】静電容量センサー内臓の小型X軸ピエゾステージ

顕微鏡試料のナノ精度走査に。0.1nm分解能と高リニアリティで安定した位置決めを実現

顕微鏡分野では、試料の精密な走査が求められます。特に、高倍率での観察や微細構造の解析においては、正確な位置決めが不可欠です。位置ずれは、観察像の劣化や測定精度の低下につながる可能性があります。PIHera P-620.1/629.1 シリーズは、0.1 nm分解能と高精度な位置決めにより、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・顕微鏡試料走査 ・光学アライメント ・干渉計測 【導入の効果】 ・高精度な観察と測定 ・微細構造の正確な解析 ・実験効率の向上 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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【バイオテクノロジー向け】PIHera 小型X軸ピエゾステージ

0.1nm分解能と高安定制御でやさしいナノ位置決め。

バイオテクノロジー分野、特に細胞操作においては、細胞へのダメージを最小限に抑えつつ、正確な位置決めが求められます。細胞培養、顕微鏡観察、マイクロインジェクションなど、ナノレベルの精度が生命現象の解明に不可欠です。不正確な位置決めは、実験の失敗やデータの信頼性低下につながる可能性があります。PI社の0.1nm分解能ナノポジショナは、細胞操作における精密な位置決めを可能にし、研究の効率化と精度の向上に貢献します。 【活用シーン】 ・細胞培養 ・顕微鏡観察 ・マイクロインジェクション ・細胞の選別 【導入の効果】 ・細胞へのダメージを最小限に抑え、実験の成功率を向上 ・正確な位置決めにより、実験データの信頼性を向上 ・研究の効率化と、より詳細な観察を実現

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【ナノポジショニング向け】0.1nm分解能小型X軸ピエゾステージ

0.1nm分解能と高リニアリティで、ナノレベル計測を安定化。

ナノテクノロジー分野の計測において、正確な位置決めは極めて重要です。微細構造の観察、精密な加工、高度な実験には、ナノメートルレベルの精度が求められます。位置決めの誤差は、計測結果の信頼性を損ない、研究の進捗を妨げる可能性があります。PI社の0.1nm分解能ナノポジショナは、内蔵静電容量型センサーとフレクシャガイドにより、高精度な位置決めを実現し、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・顕微鏡試料走査 ・光学アライメント ・干渉計測 【導入の効果】 ・高精度な計測データの取得 ・実験の再現性の向上 ・研究開発の効率化

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【半導体向け】0.1nm分解能 小型X軸ピエゾステージ

半導体製造における高精度位置決めを実現。素早く正確な整定動作

半導体業界では、製造プロセスの微細化に伴い、高精度な位置決めが不可欠です。特に、ウェーハの検査や露光工程においては、わずかな位置ずれが製品の品質を大きく左右します。P-620.1/629.1は、これらの課題に対応し、高精度な位置決めを実現します。内臓の静電容量型センサーにより、リニアリティエラー0.02%を達成し、半導体製造における歩留まり向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査 ・露光工程 ・光学アライメント ・干渉計測 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・歩留まりの向上 ・製造プロセスの効率化 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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0.1nm分解能 PIHera 小型X軸ピエゾステージ

1軸50〜1800 µmのストロークのタイプ、静電容量センサーで高分解能動作

PIHera P-620.1/629.1 シリーズはフレクシャガイドとPICMA(R)ピエゾを組み合わせた1軸ナノポジショナです。 50〜1800 µmのストロークをもち、最小0.1 nm分解能を有し、内蔵静電容量型センサーで実可動部を測定することで、リニアリティエラー0.02 %を達成します。 フレクシャーガイドで、摩耗部がなく高剛性で優れた真直度、長期安定性に優れます。 X・XY・Z・XYZ構成にも拡張できるため、顕微鏡試料走査、光学アライメント、干渉計測などに最適です。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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