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ピーアイ・ジャパン株式会社

設立日本法人:1991年 ドイツ本社:1977年
住所神奈川県川崎市幸区堀川町580番地 ソリッドスクエア西館17F
電話044-280-7676
  • 特設サイト
  • 公式サイト
最終更新日:2026/03/05
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ピエゾフレクシャステージ/高速スキャニングシステム ピエゾフレクシャステージ/高速スキャニングシステム
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精密グラナイト製品 精密グラナイト製品
ピエゾポジショニングシステム ピエゾポジショニングシステム
ピエゾモーター ピエゾモーター
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リニアステージ リニアステージ
リニアアクチュエータ リニアアクチュエータ
ピエゾドライブ ピエゾドライブ
ヘキサポッド ヘキサポッド
モータライズドポジショニング モータライズドポジショニング
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超音波ピエゾモータ搭載の小型リニアステージ U-521

サイズ35x35x15mm、18 mm動作量、最大速度200 mm/s、電源オフ時はセルフロックで位置保持

U-521は超音波ピエゾモータを搭載した、小型リニア動作ステージです(省スペース設計:幅35 mm、高さ15 mm)。 小型ながら、18 mm動作量、最大速度200mm/s。 内蔵インクリメンタルリニアエンコーダーで、高精度位置計測を実現。 電源OFF時には、2Nのセルフロック保持力で機械的に安定した状態で位置を保持します。そのため、消費電力および発熱を大幅に低減できます。 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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【レーザー加工向け】チップ/チルトピエゾプラットフォーム

大偏向角×高速応答で、レーザービーム制御の精度とスループットを向上

レーザー加工では、ビームの位置・角度制御の精度と応答速度が、加工品質と生産性を大きく左右します。特に微細加工や高速スキャンでは、わずかなビームの揺らぎや遅れが加工精度の低下や不良の原因となります。 『S-335』は、最大35 mrad(光学偏向角70 mrad)の大偏向角と、高速応答を両立したチップ/チルト型ピエゾプラットフォームです。パラレルキネマティクス構造により、高速かつ高精度な2軸制御を実現し、ビームステアリングやスキャン用途に最適です。さらに、ゼロバックラッシュのフレクシャガイドとストレインセンサーにより、高い直線性と優れた再現性を確保。高速動作時でも安定したビーム制御が可能です。 【活用シーン】 ・レーザービームの精密な位置決め ・画像安定化 ・レーザービーム制御 ・光学通信 【導入の効果】 ・加工精度と効率の向上 ・高速・高精度な加工の実現 ・多様な加工ニーズへの対応

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【顕微鏡走査向け】チップチルトピエゾプラットフォーム S-335

±35 mradの高角度制御と高速応答を実現するピエゾチップ/チルトプラットフォーム

S-335 チップ/チルトピエゾプラットフォームは、大型偏向角と高ダイナミック応答を両立する高性能ステージです。ピエゾ素子により摩擦・バックラッシュのない高精度角度制御を可能とし、2軸の平行キネマティクス設計で同等の高性能を実現します。顕微鏡走査や高速イメージング、ビームステアリング用途に最適で、安定した高精度動作をサポートします。詳細な性能はカタログをご覧ください。 【活用シーン】 ・レーザー走査顕微鏡 ・高速試料走査・光学イメージング ・ビームステアリング/走査制御 ・画像処理・ビーム安定化装置 【導入の効果】 ・最大35 mrad 高角度制御で広い走査範囲を実現 ・高ダイナミック性能により高速ステップ&セトルを可能 ・摩擦・バックラッシュなしの高精度角度制御で高信頼性

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【レーザースキャン向け】チップチルトピエゾプラットフォーム

±5 mrad×3 ms収束、0.1 µrad分解能の高速ビームステアを実現

光学業界のアライメント作業では、レーザービームや光学素子の精密な位置調整が求められます。特に、高精度なアライメントは、光学システムの性能を左右する重要な要素です。位置ずれは、測定精度の低下やシステムの誤作動を引き起こす可能性があります。S-335 チップ/チルトピエゾプラットフォームは、高速かつ高精度なビームステアリングを実現し、光学アライメント作業の効率化と精度向上に貢献します。 【活用シーン】 ・レーザービームの精密な位置調整 ・光学素子の角度調整 ・画像安定化 ・レーザービーム制御 ・光学通信 【導入の効果】 ・アライメント時間の短縮 ・システムの性能向上 ・測定精度の向上 ・作業効率の改善

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ミラーや光学素子向けの大偏向角ビームステアリング S-335

±5 mrad×3 ms収束、10 kHz共振――0.1 µrad分解能の高速ビームステア

0.7kHz (1インチミラー時)の共振周波数により、ダイナミックな動きと高速なステップ&セトリングを実現。 パラレルキネマティック設計:1つの共通のピボットポイントで、2軸直交プラットフォーム ミラーなし、1/2インチミラー、1インチミラータイプ。 画像安定化、レーザービーム制御、光学通信など高速・高精度偏向が求められるアプリケーションに最適です。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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【顕微鏡向け】XYZ軸ピエゾステージ P-616

高倍率観察をナノメートル分解能で支える、100 µm × 3軸コンパクトXYZピエゾステージ

高倍率顕微鏡観察では、わずかな位置ずれが像の鮮明さや再現性に大きく影響します。特に共焦点顕微鏡や蛍光顕微鏡、ライブセル観察では、サブミクロン以下の精密なXYZ制御が不可欠です。P-616 NanoCubeは、各軸100 µmの動作範囲を持つコンパクトなXYZピエゾナノポジショナーです。高剛性フレクシャガイド構造によりバックラッシュのない滑らかな動作を実現し、ナノメートル分解能での微細位置決めが可能です。 Z軸フォーカス制御やXYスキャン用途にも対応し、研究用途から装置組込みまで幅広く活用できます。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡のZ軸フォーカス制御 ・蛍光顕微鏡での多点観察 ・ライブセルイメージング ・高倍率対物レンズ下での微動位置決め ・ナノスケール材料観察 【導入の効果】 ・ナノメートル分解能による高精度フォーカス制御 ・バックラッシュレス構造による高再現性 ・高剛性設計による安定したスキャン動作 ・コンパクト設計で既存顕微鏡への組込みが容易

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【レーザー加工向け】XYZ軸ピエゾステージ P-616

微細レーザー加工の焦点・位置制御を支える、100 µm × 3軸ナノポジショナー

レーザー微細加工では、ビーム位置や焦点のわずかなずれが加工品質に直結します。特にマイクロ加工や高アスペクト比加工では、サブミクロンレベルでの精密な位置制御が不可欠です。P-616 NanoCubeは、各軸100 µmストロークを備えたコンパクトなXYZピエゾナノポジショナーです。高剛性フレクシャガイド構造によりバックラッシュのない高直線性動作を実現し、ナノメートル分解能での微細位置調整が可能です。 レーザー加工装置に組み込むことで、 ・ビーム位置の微調整 ・焦点位置の高精度制御 ・加工位置の補正用途 に対応し、微細加工の安定性向上をサポートします。 【活用シーン】 ・レーザー微細加工装置への組込み ・フォーカス位置の精密制御 ・マイクロ穴あけ加工の位置補正 ・薄膜加工・精密パターニング 【導入の効果】 ・ナノメートル分解能による焦点位置の高精度制御 ・バックラッシュレス構造による高再現性 ・コンパクト設計で装置内組込みが容易 ・微細加工品質の安定化

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【ナノテクノロジー向け】XYZ軸ピエゾステージ P-616

ナノスケール位置制御を支える、100 µm × 3軸コンパクトXYZピエゾステージ

ナノテクノロジー分野では、試料やプローブの位置制御精度が実験結果の再現性を左右します。走査型プローブ顕微鏡(SPM)やナノリソグラフィー用途では、ナノメートル分解能での安定したXYZ制御が求められます。P-616 NanoCubeは、各軸100 µmのストロークを備えたコンパクトなXYZピエゾナノポジショナーです。高剛性フレクシャガイド構造によりバックラッシュのない滑らかな動作を実現し、ナノメートル分解能での高精度位置決めが可能です。 研究用途から装置組込みまで対応し、ナノスケール計測・加工・評価を支える位置制御プラットフォームとして活用されています。 【活用シーン】 ・走査型プローブ顕微鏡(SPM/AFM/STM) ・ナノリソグラフィー装置 ・ナノ材料評価 ・ナノデバイス研究開発 ・高精度試料位置決め 【導入の効果】 ・ナノメートル分解能による高精度位置制御 ・バックラッシュレス構造による高再現性 ・高剛性設計による安定したスキャン ・コンパクト設計で真空装置や研究装置への組込みが容易

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【光学向け】XYZ軸ピエゾステージ P-616

100 µm × 3軸。光学アライメントをナノ精度で実現するコンパクトXYZピエゾステージ

光学システムにおいて、ビーム位置や光軸のわずかなずれは、結合効率や測定精度に大きく影響します。特に干渉計測、レーザー集光、ファイバーアライメントなどの用途では、サブミクロン以下の位置制御が不可欠です。 P-616 NanoCubeは、各軸100 µmの動作範囲を備えたコンパクトなXYZピエゾナノポジショナーです。フレクシャガイド構造によりバックラッシュのない高直線性動作を実現。ナノメートル分解能での微細位置決めと高い機械的安定性により、光学系の精密アライメントを高い再現性でサポートします。 研究用途から装置組込みまで対応可能な設計で、フォトニクス分野の高度な位置制御ニーズに応えます。 【活用シーン】 ・光ファイバーアライメント(結合効率最適化) ・レーザー集光位置の微調整 ・干渉計・ホログラフィー装置 ・顕微鏡ステージ微動制御 ・フォトニクス研究装置への組込み 【導入の効果】 ・ナノ分解能による光軸調整精度向上 ・バックラッシュレス構造による高再現性 ・高剛性フレクシャ設計によるドリフト低減 ・コンパクト設計による装置内組込み容易化

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【半導体製造向け】XYZ軸ピエゾステージ P-616

半導体装置の微細位置補正に。100 µm × 3軸ナノポジショナー

半導体プロセスや検査装置では、サブミクロンレベルでの位置補正や焦点調整が品質安定化の鍵となります。特に検査工程や微細加工工程では、ナノメートル分解能での高精度位置制御が求められます。P-616 NanoCubeは、各軸100 µmのストロークを備えたコンパクトなXYZピエゾナノポジショナーです。高剛性フレクシャガイド構造によりバックラッシュのない滑らかな動作を実現し、ナノメートル分解能での微細位置調整が可能です。 半導体製造装置内の微動補正ステージや検査装置への組込み用途に適しています。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査装置の微細位置補正 ・マスク検査工程 ・レーザーアニール装置の焦点調整 ・プロービング装置の微動制御 ・半導体研究開発用途 【導入の効果】 ・ナノメートル分解能による高精度位置補正 ・バックラッシュレス構造による高再現性 ・コンパクト設計で装置組込みが容易 ・微細工程の安定化に貢献

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ファイバーアライメント・走査型顕微鏡用ピエゾステージ P-616

各40mmサイズで、XYZ軸100µm動作のコンパクトXYZピエゾステージ

P-616 は、パラレルキネマティクスを採用した XYZ ピエゾナノポジショナです。 高信頼性PICMAピエゾセラミックス、フレクシャーガイド、静電容量センサを各軸に内蔵した、再現性10nm、0.4 nm システム再現性を提供します。 ファイバーの位置決めとアライメント、顕微鏡、ナノ位置決め、フォトニクス、マイクロマニピュレーションなどに最適。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。 【特長】 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【光学調整向け】高推力PICMAWalkアクチュエータ

最大12 mm/s・50 N高推力。光学調整に最適なサブナノ分解能PICMAWalkアクチュエータ

光学業界では、精密な光学系の調整において、ナノメートルレベルでの正確な位置決めが求められます。特に、光軸調整やレンズの位置決めなど、わずかなズレがシステムの性能に大きな影響を与える場面では、高精度な位置決め能力が不可欠です。不正確な調整は、画像の歪みや測定精度の低下を引き起こす可能性があります。高推力PICMAWalkアクチュエータ N-331は、ナノメートル精度で位置決めを実現し、光学系の性能を最大限に引き出します。 【活用シーン】 ・光学顕微鏡の対物レンズ調整 ・レーザー加工機の光軸調整 ・半導体製造装置におけるウェーハ位置決め 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルでの高精度な位置決め ・光学系の性能向上 ・作業効率の向上

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【半導体検査向け】50N高推力・真空仕様有りのアクチュエータ

最大12 mm/s・50 N高推力。半導体検査工程に最適なサブナノ分解能PICMAWalkアクチュエータ。

半導体製造業界では、製造プロセスの高度化に伴い、ウェーハやマスクの位置決めにおける高精度な制御が不可欠です。特に、微細加工や検査工程においては、ナノメートルレベルでの正確な位置決めが製品の品質と歩留まりを左右します。位置決めの精度が低いと、不良品の発生や製造効率の低下につながる可能性があります。N-331 PICMAWalkは、最大50 Nの高推力とサブナノメートル分解能を両立した組込み型リニアアクチュエータです。最大12 mm/sの高速動作に対応し、検査装置のタクトタイム短縮にも貢献します。 摩擦駆動方式により電源オフ時でも位置保持が可能。さらに真空対応仕様により、半導体検査装置やクリーン環境下での使用にも適しています。 【活用シーン】 ・半導体製造装置におけるウェーハ位置決め ・マスクアライナーにおける位置決め ・検査装置における高精度位置決め 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルでの高精度な位置決めを実現 ・製造プロセスの品質向上と歩留まり向上に貢献 ・真空環境下での使用が可能 推力特性、その他仕様、真空対応オプションなどの詳細はカタログをご確認ください。

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高推力PICMAWalkアクチュエータ N-331

最大速度12 mm/s、50 Nの駆動力、ナノ位置決め動作の組込みアクチュエータ

N-331 PICMAWalkは、ピエゾ素子のナノ分解能とステッピング動作を融合したウォーキングドライブ・リニアアクチュエータです。 動作量は、25mm、50mm、100mmタイプがあり、駆動力50N、保持力60Nをもちます。 PiezoWalk(R)ウォーキングドライブは、複数のピエゾアクチュエータが歩行運動を行い、ランナーの送り動作につながります。 アクチュエータの制御により、1ナノメートル未満の分解能で最小のステップおよびフォワードフィードモーションが可能になります。 インクリメンタルリニアエンコーダによる高精度な位置測定を行います。また、10⁻9 hPa真空対応アクチュエータも対応します。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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【光学アライメント向け】リニアモーター駆動のステージ V-731

光学アライメントに最適!高精度位置決めリニアモータXY軸ステージ

光学業界のアライメント作業では、高精度な位置決めが不可欠です。特に、レンズやミラーなどの光学部品の位置調整においては、微小なズレがシステムの性能に大きな影響を与えます。位置決めの精度が低いと、光軸のずれや焦点距離の変動が発生し、最終的な製品の品質を損なう可能性があります。V-731は、高精度な位置決めを実現し、光学アライメント作業の効率化と品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・光学部品の位置調整 ・レーザー加工 ・走査 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・作業時間の短縮 ・歩留まりの向上

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摩擦レスで滑らか動作を実現 高精度XYステージ L-731

高精度・高安定性のロングストロークXYステージ

L-731は、高い移動精度と安定性を実現した高精度XYステージです。205 mm × 205 mmの広い移動範囲に対応し、レーザー加工や計測、バイオテクノロジー分野など幅広い用途で高精度な位置決めを実現します。 非接触の光学式リニアエンコーダにより、ステージ上で直接位置を測定し、バックラッシュや機械誤差の影響を受けない高精度制御が可能です。さらに、一方向再現性・最大0.025 µmにより、信頼性の高いプロセスを実現します。 クロスローラーガイドを採用することで、高剛性・低摩擦・滑らかな動作を実現。安定した位置決めと長時間運用においても優れたパフォーマンスを発揮します。駆動方式は、低速高トルクに優れるステッピングモーターと、高速・低振動のDCモーターから選択可能。用途に応じた最適なシステム構築ができます。

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【電子機器製造向け】モーター選択可 リニアステージ L-505

小型・高剛性設計と選べるモーター(DCモーターまたはステッピングモーター)で、組立工程の効率化と安定化に貢献

電子機器製造の組立工程では、部品の正確な位置決めが品質と生産性を左右します。特に、小型部品の配置や精密な組み立てにおいては、高精度な位置決めが不可欠です。位置決めの誤差は、製品の不良や組み立て時間の増加につながる可能性があります。小型リニアステージ『L-505』は、DC/ステッピングモータを選択でき、高精度な位置決めを実現します。 【活用シーン】 ・電子部品の配置 ・基板への部品実装 ・精密機器の組み立て 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・組み立て時間の短縮 ・不良品の削減

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DCまたはステッピングモーター搭載 リニアステージ L-505

リミットスイッチ内蔵!DCステッピングモータ付きコンパクトリニアステージ

『L-505』は、DC/ステッピングモータ選択可能な小型リニアステージです。 リニアステージには、フランジモーターを備えた細長いタイプと、 ベルトドライブ(折り畳み式ドライブトレイン)を備えた幅広くコンパクトな タイプ2つのデザインバリエーションをご用意。 また、インクリメンタルエンコーダによる高精度位置測定が可能です。 【特長】 ■トラベルレンジ:13mmまたは26mm ■ギヤヘッドなしのステッピングモータあるいはDCサーボモータ選択可能 ■速度:15mm/s ■最大荷重:30N ■リファレンスポイント・リミットスイッチ内蔵 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【精密測定装置向け】耐荷重10 kg・高精度ZステージL-310

高剛性クロスローラーガイド採用。精密測定・研究用途のZ方向位置決めに最適

精密測定や分析装置では、Z方向のわずかな位置ずれが測定精度や再現性に大きく影響します。特に微細構造の測定やナノスケールの分析では、高精度かつ安定した位置決め機構が不可欠です。 L-310は、ボールねじ駆動とクロスローラーガイドを採用した高精度Zステージです。高いガイド精度と剛性を実現し、精密測定装置や研究用途における安定したZ方向位置決めを可能にします。 【活用シーン】 ・精密測定機器 ・検査装置 ・研究開発 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる測定精度の向上 ・安定した動作による信頼性の向上 ・スムーズな動作による作業効率の向上 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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【研究開発向け】高精度Zステージ L-310

顕微鏡・光学実験・精密測定のZ軸位置決めに。高剛性クロスローラーガイド採用の精密Zステージ

研究開発分野の実験では、ナノ~ミクロンレベルの位置決め精度が実験結果の信頼性や再現性を左右します。特に顕微鏡観察や光学実験、材料評価などの分野では、安定したZ方向の精密ポジショニングが不可欠です。 L-310は、ボールねじ駆動とクロスローラーガイドを採用した高精度Zステージです。高いガイド精度と剛性に加え、インクリメンタルエンコーダによる高精度位置測定により、研究開発用途における安定したZ軸位置制御を実現します。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察装置 ・精密測定装置 ・材料試験装置 ・光学実験装置 ・研究開発用実験装置 【導入の効果】 ・高精度なZ軸位置決めによる実験精度の向上 ・安定した動作による実験データの再現性向上 ・滑らかな動作による精密調整の容易化 ・研究用途での高い信頼性 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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【光学調整・光学アライメント向け】高精度Zステージ L-310

光学アライメント・フォーカス調整に。高剛性クロスローラーガイド採用の精密Zステージ

光学装置では、レンズやセンサーの位置ずれが光学性能に大きく影響します。特に光軸調整やフォーカス制御では、サブミクロンレベルでの安定した位置決めが求められます。L-310は、ボールねじ駆動とクロスローラーガイドを採用した高精度Zステージです。高いガイド精度と剛性に加え、インクリメンタルエンコーダによる高精度位置測定により、光学機器における精密なZ軸位置制御を実現します。 【活用シーン】 ・光学レンズの位置調整 ・光学アライメント装置 ・センサー位置調整 ・顕微鏡フォーカス制御 ・レーザー光学系の位置調整 【導入の効果】 ・高精度なZ軸位置決めによる光学性能向上 ・安定した動作による測定精度の向上 ・スムーズな位置調整による作業効率向上 ・装置の安定性向上による歩留まり改善

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【半導体検査装置向け】最大荷重10kg・Zステージ L-310

ウェーハ検査・チップ検査のZ軸位置決めに。高剛性クロスローラーガイド採用の精密Zステージ

半導体検査工程では、ウェーハやチップの微細な欠陥を正確に検出するため、ナノレベルでの精密な位置制御が求められます。特に検査カメラやセンサーのフォーカス調整、ウェーハ高さ位置の制御では、安定したZ方向の位置決めが検査精度を左右します。 L-310は、ボールねじ駆動とクロスローラーガイドを採用した高精度Zステージです。高いガイド精度と剛性により、半導体検査装置における安定したZ方向ポジショニングを実現します。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査装置 ・半導体チップ検査装置 ・画像処理検査装置 ・検査カメラのフォーカス調整 ・プローブ高さ調整 【導入の効果】 ・高精度なZ軸位置制御による検査精度の向上 ・安定した動作による検査データの信頼性向上 ・高デューティサイクル対応による長時間運転 ・不良検出精度向上による歩留まり改善

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リニア・回転ステージと組み合わせ可 高精度Zステージ L-310

工業、研究分野の精密ポジショニングに!高デューティサイクルのZステージ

『L-310』は、ボールネジとクロスローラーガイドにより、 高いガイド精度と剛性を実現する製品です。 高い安定性を可能にする応力緩和アルミニウムベースを使用。 また、真空対応バージョン可能非接触リミットスイッチと基準点スイッチを備え、 基準点スイッチには、トラベルレンジの中央に方位センシングが搭載されています。 【特長】 ■高いガイド精度と剛性を実現 ■応力緩和アルミニウムベース使用 ■スムーズな動作と低摩擦で長寿命を実現 ■インクリメンタルエンコーダーによる高精度の位置測定 ■小インクリメンタルモーションと低速モーション ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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高耐荷重リニアアクチュエータ『L-239型』

研究、光学アライメントなどの使用に!高分解能でハイパワーなリニアアクチュエータ

『L-239型』は、真空対応でカスタマイズ可能な高耐荷重リニアアクチュエータです。 センサー内蔵で、センサー分解能、設計分解能などの機能を搭載。 研究をはじめ、光学アライメント、オートメーションでの使用に適しています。 【特長】 ■高フィードフォース:300N ■トラベルレンジ:52mm ■速度~50mm/s ■真空対応(10-9hPa)カスタマイズ可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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PIMag リニアモーターコントローラ『C-413』

PIMagボイスコイル駆動のためのデジタルモーションコントローラ。幅広いサポート機能が搭載

PIMag リニアモーターコントローラ『C-413』は、 PIMag ボイスコイル駆動のためのデジタルモーションコントローラです。 1モーターチャンネル、2センサーチャンネルで、 V-275およびV-275リニアアクチュエータに対応可能です。 モーター電流、速度、位置、位置誤差など移動データを 記録するデーターレコーダーなど、幅広いサポート機能が搭載されています。 また、PIMag リニアモーターコントローラには、 最大平均電流消費3Aタイプの「C-891」もございます。 【特長】 ■力×2、位置×2センサーの最大4センサーチャンネル ■構成やコマンド送信のためにTCP/IPまたはUSBインターフェイス採用  (バージョンによる) ■コマンド送信用リアルタイムSPIインターフェイス(バージョンによる) ■オプションのアナログ入出力 ■保持電流の自動ゼロ機能 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【計測校正向け】耐荷重最大100N エアベアリング A-110

高精度な校正作業をサポートするエアベアリングステージ

計測業界における校正作業では、測定器の正確な位置決めが不可欠です。特に、微細な動きが求められる校正作業においては、ステージの精度が校正結果に大きく影響します。不正確な位置決めは、校正精度の低下や誤った測定結果につながる可能性があります。PIglide 直動エアベアリングステージ『A-110』は、高精度な位置決めと滑らかな動きを実現し、校正作業の精度向上に貢献します。 【活用シーン】 ・精密測定器の校正 ・基準器の校正 ・検査装置の校正 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる校正精度の向上 ・滑らかな動きによる作業効率の向上 ・クリーンルーム対応による環境への適合

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【光学向け】高精度位置決めに エアベアリングステージ A-110

光学系の精密調整に。高精度な位置決めを実現するエアベアリングステージ

光学分野では、レンズやミラーなどの光学素子の精密な位置調整が、システム性能を大きく左右します。特に、高精度位置決めやスキャン用途においては、わずかな振動や摩擦が測定結果や画像品質に影響を与える可能性があります。 PIglide直動エアベアリングステージ「A-110」は、非接触エアベアリングと磁気リニアモータ、光学式リニアエンコーダを搭載。摩擦のない滑らかな動作により、高い位置決め精度と優れた再現性を実現します。また、パーティクルを発生しないため、クリーンルーム環境での光学用途にも最適です。さらに、最大400 mmの長ストロークに対応し、広範囲の高精度スキャンにも対応します。 【活用シーン】 ・顕微鏡 ・分光器 ・レーザー加工機 ・光学測定器 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる測定精度の向上 ・調整時間の短縮 ・製品品質の向上

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スキャンや高精度位置決めに エアベアリングステージ A-110

スキャニングまたは高分解能ポジショニングに最適なエアベアリングステージ

『PIglide 直動エアベアリングシリーズ』は、磁気的にプリロードされた空気ベアリング および内蔵光学リニアエンコーダーによるリニアサーボモーター駆動です。 これらの非接触部品を組み合わせることにより、最高のパフォーマンス、品質、 製品寿命を持つ無摩擦モーションプラットフォームが実現しました。 エアベアリングステージシリーズには、「XY軸小型エアベアリングステージ」、 「XY軸大型エアベアリングステージ」、「エアベアリングロータリーステージ」などもございます。 【特長】 ■非接触完全プリロード空気ベアリング ■スキャニングまたは高分解能ポジショニングに最適 ■クリーンルームに対応 ■カスタマイズ可能 ■内蔵光学リニアエンコーダー 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【製造業向け】H-840 ヘキサポッドシステム

±50 mm / ±30°対応・高速6軸制御ヘキサポッド

H-840 ヘキサポッドは、製造装置や検査工程への組込みに適した6自由度パラレルキネマティクス位置決めシステムです。±50 mm / ±30°の広い動作範囲と高ダイナミック性能を備え、高速かつ高精度な6軸同時制御を実現。光学アライメントや精密検査、微細加工工程における位置調整を高精度にサポートします。詳細な仕様・構成例はカタログをご覧ください。 【活用シーン】 ・半導体/電子部品の高精度検査 ・光学部品の6軸アライメント ・レーザー加工装置への組込み ・精密組立・調整工程 【導入の効果】 ・6軸同時制御による高精度位置合わせ ・高速応答によるタクトタイム短縮 ・広い可動範囲で多様なワークに対応 ・装置組込みに適したコンパクト設計

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【研究向け】H-840 ヘキサポッドシステム

高速6軸制御を実現するコンパクトヘキサポッド

H-840 ヘキサポッドは、研究用途向けに設計された6自由度パラレルキネマティクス位置決めシステムです。コンパクト設計ながら高ダイナミック性能を備え、高速かつ高精度な位置決めを実現。光学アライメントや精密実験、レーザー制御など、サブミクロンレベルの調整が求められる用途に適しています。高い繰返し精度と安定性により、研究環境での再現性向上を支援します。詳細仕様はカタログをご覧ください。 【活用シーン】 ・光学・レーザーアライメント ・精密計測/評価装置 ・バイオテクノロジー実験 ・マイクロマニピュレーション ・大学・研究機関での位置制御実験 【導入の効果】 ・6軸同時制御による高精度アライメント ・高速応答による実験時間の短縮 ・高い繰返し精度による実験再現性の向上 ・コンパクト設計で限られた実験スペースにも対応

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ピーアイ・ジャパン株式会社 6軸ステージ

摩擦を抑えながら信頼性の高い動作を実現!マイクロ製造、医療技術、工具制御に使用可能!

ピーアイ・ジャパン株式会社では、6軸ステージを多数取り扱っています。 高速・高精度の小型ヘキサポッドの「H-811.I2」をはじめ、 高速動作・中程度耐荷重が特長のパラレルキネマティック・ヘキサポッド「H-840」、 高精度ファイバーアライメントシステム「F-712」などをラインアップ。 研究および工業用途、マイクロ製造、医療技術、工具制御に応用されています。 【特長】 〈小型ヘキサポッド「H-811.I2」〉 ■トラベルレンジ:±17mm/±21° ■負荷容量:5kg ■再現性:±0.06μm ■最大速度:20mm/s ■きわめて長寿命 ■真空対応バージョンあり ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【ナノポジショニング向け】高精度Zステージ 0.1nm分解能

0.1nm分解能と0.02%リニアリティ。サブナノZ軸制御で製造・計測精度を向上

ナノテクノロジー製造業界では、微細加工や精密測定において、サブナノレベルの位置決め精度が不可欠です。特に、半導体製造やMEMSデバイスの製造プロセスでは、わずかな位置ずれが製品の品質に大きな影響を与える可能性があります。P-620.Z~P-622.Zは、摩擦のないフレクシャガイドシステムとPICMAピエゾアクチュエータの組み合わせにより、高い信頼性と長寿命を実現し、製造プロセスの安定化に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体製造におけるウェーハ検査 ・MEMSデバイス製造における微細加工 ・干渉計、共焦点顕微鏡などの精密測定 【導入の効果】 ・製造プロセスの歩留まり向上 ・製品の品質向上 ・測定精度の向上 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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【半導体向け】PIHera高精度Z軸ステージ 0.1 nm分解能

サブナノメートルの分解能を提供。0.1nm分解能・高リニアリティ垂直ポジショニング

半導体業界では、高精度な位置決めが求められます。特に、ウェーハ検査や微細構造の計測においては、サブナノレベルの安定性と高速な制御が不可欠です。位置決めの誤差は、計測結果の信頼性を損ない、歩留まりの低下につながる可能性があります。本製品は、0.1 nmの分解能と0.02 %の直線性により、半導体計測における高精度な位置決めを実現します。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査 ・微細構造計測 ・干渉計 ・共焦点顕微鏡 【導入の効果】 ・計測精度の大幅な向上 ・歩留まりの改善 ・高速かつ高精度な位置決め ・サブナノレベルの安定性 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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PIHera 高精度Z軸ステージ P-620.Z~P-622.Z

0.1 nm分解能×0.02 %直線性。50-250 µmを摩擦ゼロで高速サーボ制御

PIHera P-620.Z/P-621.Z/P-622.Zは、垂直ストローク50・100・250 µmを0.1 nm分解能で駆動するZ軸ピエゾステージです。 静電容量センサが移動プラットフォームを直接計測し、リニア誤差を0.02 %に抑制。 ゼロバックラッシのフレクシャガイドは潤滑不要・発塵レスで、1 kHz級共振周波数とサブミリ秒応答を実現します。 アクチュエータはオールセラミック絶縁PICMA(R)で1000億サイクルの長寿命を実証済み。 干渉計、共焦点顕微鏡、半導体検査などサブナノ安定性と高速性を同時に求める装置のZ制御に最適です。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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【光学向け】高荷重対物レンズフォーカススキャナ P-726

100 µmストローク・0.4nm分解能 高荷重対物レンズ対応 高速・高精度PIFOCフォーカススキャナ

光学機器や計測装置における対物レンズのフォーカス制御では、高精度なZ位置決めと高速応答が求められます。特に対物レンズが大型・高開口数(NA)の場合、従来機構では動作レスポンスや安定性が課題となり、測定精度や観察品質に影響を及ぼす可能性があります。 P-726 PIFOC高荷重対物レンズフォーカススキャナは、最大100 µmのストロークと、静電容量センサーによる直接測定で得られる サブナノメートル分解能の高精度フォーカス制御を実現します。また、フレクシャガイド構造により摩擦・バックラッシュがなく、高荷重条件でも高い剛性と安定性を維持します。これにより、光学計測装置の精度とスループットを向上させ、測定・観察の信頼性を高めます。 【活用シーン】 ・対物レンズの精密フォーカス制御 ・共焦点顕微鏡・超解像顕微鏡のZスキャン ・3D光学イメージング装置 ・高精度光学計測装置(干渉計・オートフォーカス系) 【導入の効果】 ・高精度なZ位置制御による光学測定精度の向上 ・高速な動作レスポンスによる検査・観察時間の短縮 ・大重量レンズ対応の高荷重性能 ・長期安定性・低メンテナンス性

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【ナノテクノロジー向け】レンズフォーカススキャナ P-726

ナノ構造解析を支える 高荷重対応・サブナノ分解能フォーカススキャナ

ナノテクノロジー分野の構造解析では、ナノスケールでの高精度なZ方向フォーカス制御が不可欠です。 P-726 PIFOCは、100 µmストロークとサブナノメートル分解能(約0.3 nmクラス)を実現した高荷重対応フォーカススキャナです。 静電容量センサーによる直接フィードバックとフレクシャガイド構造により、高い位置決め精度と再現性を提供。約6msの高速セットリング性能により、Zスキャンを伴うナノ構造観察や3Dイメージングの効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡によるナノ構造観察 ・超解像光学顕微鏡のZスキャン ・光学式ナノ構造解析装置 ・3Dイメージング評価装置 【導入の効果】 ・サブナノ分解能による高精度フォーカス制御 ・高速セットリングによる測定効率向上 ・高荷重対応による光学系設計自由度向上 ・長期安定動作による再現性向上

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【バイオテクノロジー向け】対物レンズピエゾステージ P-726

100 µmストローク、サブナノ分解能、210 g負荷時560 Hzの高応答フォーカススキャナ

バイオテクノロジー分野における細胞観察では、微小なフォーカス変動が画像品質に影響を与えます。P-726 PIFOCは、100 µmのZストロークとサブナノメートル分解能を備えた高荷重対応フォーカススキャナです。静電容量センサーによる直接位置フィードバックとフレクシャガイド構造により、高い位置決め精度と再現性を実現します。 さらに、210 g負荷時で560 Hzの共振周波数を持ち、高NA対物レンズ搭載時でも高い動的性能を維持。高速セットリング(約6ms)により、Zスタック取得やフォーカススキャンを効率化します。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡 ・超解像顕微鏡 ・ライブセルイメージング ・Zスタック取得を伴う3Dイメージング 【導入の効果】 ・高精度フォーカス制御による画像安定性向上 ・高速Z応答による測定効率改善 ・高荷重対応による光学系設計自由度向上 ・再現性の高いフォーカス位置決め

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【半導体ウェーハ検査向け】レンズフォーカススキャナ P-726

ウェーハ検査の高スループット化を支える 高荷重対応・高精度Zフォーカススキャナ

半導体ウェーハ検査では、微細欠陥を安定して検出するために、高分解能なZ方向フォーカス制御と高速応答性が求められます。特に高NA対物レンズを用いた光学検査システムでは、フォーカス精度と再現性が検査結果の信頼性に直結します。P-726 PIFOC高荷重対物レンズフォーカススキャナは、最大100 µmのZストロークとサブナノメートル分解能の位置制御を実現。静電容量センサーによる直接位置フィードバックとフレクシャガイド構造により、高い線形性・繰り返し精度・長期安定性を提供。 さらに、約6msの高速セットリング性能により、Zステップ動作を伴う検査プロセスの最適化に貢献します。高荷重設計のため、高NA対物レンズや付加光学部品搭載時でも安定した動作が可能。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハ表面の光学検査におけるZフォーカス制御 ・高NA対物レンズを用いた欠陥解析装置 ・共焦点光学系を用いた三次元検査 ・レーザー・光干渉式検査装置のZスキャン 【導入の効果】 ・高精度フォーカス制御による測定安定性向上 ・高速セットリングによるZステップ時間の短縮 ・高荷重対応による光学系設計の自由度向上

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高荷重対物レンズフォーカススキャナ P-726

100 µmのストローク、システム分解能0.4nm、荷重210g時でも560Hzの共振周波数

P-726は重い高NA対物レンズを高速・高精度で駆動するPIFOC(R)ハイロードフォーカススキャナです。 フレクシャガイドと静電容量センサを内蔵し、0.3 nmのOpenLoop分解能、0.02 %リニアリティエラーを実現。 共振周波数は無負荷で1120Hz、210 g負荷でも560 Hzを維持し、半導体ウェハ検査や共焦点・超解像顕微鏡のZスキャンを高速化。 QuickLockアダプタでM32/M27など主要スレッドサイズに対応。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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【光学調整向け】高精度パラレルキネマティクス P-733.2

再現性±1nm、XY軸100µmストローク。透過光光学系に最適な高精度ナノポジショナー

光学分野における精密な光軸調整や位置決めは、システム性能を最大化するための重要な要素です。特に高分解能顕微鏡や精密計測装置では、わずかな位置ずれが測定精度や再現性に大きく影響します。 高精度パラレルキネマティクス構造を採用した P-733.2 は、再現性±1nm のナノレベル位置決めを実現し、XY軸100µmのストロークで透過光アプリケーションに対応します。研究開発から装置組込みまで、光学系の高精度化や調整作業の効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・高精度顕微鏡 ・マスク/ウェーハの位置決め ・干渉計・光学計測装置 【導入の効果】 ・再現性±1nmの高精度位置決め ・透過光光学系へのスムーズな組込み ・光軸調整時間の短縮と開発効率向上

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【半導体製造向け】高精度パラレルキネマティクス P-733.2

再現性±1nm、XY軸100µmストローク。半導体製造装置向け高精度ナノポジショナー

半導体製造分野では、ウェーハやマスクの位置決めにおいて極めて高い精度と安定性が求められます。微細化の進展により、ナノレベルの位置決め誤差がデバイス性能や歩留まりに直接影響する時代となっています。特に露光装置や検査装置では、再現性と安定性を兼ね備えた精密制御が不可欠です。 P-733.2は、再現性±1nmの高精度XYナノポジショニングを実現。100µmストロークと高剛性パラレルキネマティクス構造により、半導体製造装置への組込み用途にも適しています。高精度位置決めにより、工程安定化と歩留まり向上に貢献します。 【活用シーン】 ・露光装置 ・マスク/ウェーハ位置決め ・検査・計測装置 【導入の効果】 ・再現性±1nmによる工程安定化 ・高精度位置決めによる歩留まり向上 ・安定動作による装置性能の最大化

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高精度・高動特性を実現するパラレルキネマティクス P-733.2

再現性 ±1nm、XY軸100 µm+Z軸10 µmストローク、50 mm開口で透過光にも最適

高信頼性のPICMAピエゾセラミック駆動、静電容量センサによるダイレクト計測を行うXYZ軸ナノポジショニングステージです。 XY軸動作量は、30x30µmと100 × 100 µmタイプで、Z軸は10 µmストロークになります。 開口 50 × 50 mmを持つため透過光アプリケーションにも最適。 高精度顕微鏡、マスク/ウェーハの位置決め、計測技術などに使われます。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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【計測向け】XYZ軸精密位置決めステージ P-561~563

プローブ位置決めをサブナノ精度で実現するPIMars精密ナノステージ

高精度計測において、プローブの位置決め精度は測定結果の信頼性を左右します。わずかな振動やクロストークが誤差要因となるため、高剛性かつクローズドループ制御による安定したナノポジショニングが求められます。 P-561・P-562・P-563 PIMars Nanopositioning Stages は、パラレルキネマティクス構造と静電容量式センサを採用したXYZ多軸ピエゾフレクシャステージです。再現性±2 nm、リニアリティ0.03%を実現し、低クロストークで高精度なプローブ位置決めを可能にします。 高共振周波数と優れた動的特性により、高速スキャン計測や微小変位測定にも対応。半導体検査やナノ材料解析など、精密計測用途に最適です。 【活用シーン】 ・半導体検査 ・超解像顕微鏡 ・フォトニクス調整 【導入の効果】 ・高精度な測定結果の実現 ・測定時間の短縮 ・製品品質の向上

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【顕微鏡向け】PIMars XYZ軸開口部付ピエゾステージ

顕微鏡の試料位置決めをナノ精度で実現するPIMars XYZナノステージ

電子顕微鏡(SEM / TEM)による高分解能観察では、試料の位置決め精度が画像品質を左右します。わずかな振動やクロストークが測定精度に影響を与えるため、高剛性かつ高応答なポジショニングステージが不可欠です。 P-561・P-562・P-563・PIMars Nanopositioning Stages は、静電容量式センサーにより高精度と位置決め安定性を実現。動作量は、XYZ 各100/200/300 µm(モデル別)で再現性は±2nm、リニアリティ:0.03%をもちます。 【活用シーン】 ・電子顕微鏡観察における試料の位置決め ・半導体検査 ・超解像顕微鏡 ・フォトニクス調整 【導入の効果】 ・ナノオーダーでの精密な位置決めにより、観察精度が向上 ・高分解能と高速応答により、効率的な観察が可能 ・高信頼性と長寿命により、安定した運用を実現

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XYZ軸300µm動作 精密位置決めステージ P-561~563

66 mm開口×XYZ軸最大300 µmをナノオーダーで精密位置決め

P-561〜563シリーズは、パラレルキネマティクス構造と静電容量式センサを採用したXYZ軸動作ピエゾナノポジショナ。 動作量は、XYZ 各100/200/300 µm(モデル別)で再現性は±2nm、リニアリティ:0.03%をもちます。 開口は、66×66 mmで透過光・レーザ光路を確保します。 ダイレクト駆動タイプは、XY軸45µm、Z軸15µm動作で、1000Hzの無負荷時共振周波数を持ち、高分解能で高速応答が実現します。 また、PICMAピエゾセラミックスは、オールセラミックスで絶縁されており対湿度性をもち、高信頼性、長寿命を確保します。半導体検査、超解像顕微鏡、フォトニクス調整などに最適です。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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