ピーアイ・ジャパンの製品ラインアップ

レーザー加工業界では、レーザービームの精密な位置決めと制御が、加工精度と効率を左右する重要な要素です。特に、微細加工や高速加工においては、ナノレベルの精度と高い応答性が求められます。従来の制御方法では、位置決め精度や応答速度に限界があり、加工品質の低下や生産性の停滞を招く可能性がありました。P-517/527マルチ軸ピエゾスキャナは、摩擦ゼロのフレクシャガイドとPICMAピエゾセラミック、静電容量センサーを用いて、ナノレベルの再現性、分解能を実現し、レーザービームの精密な位置決めと制御を可能にします。 【活用シーン】 ・レーザーマーキング ・レーザー切断 ・レーザー微細加工 ・レーザー走査 【導入の効果】 ・高精度なレーザー加工を実現 ・加工時間の短縮 ・歩留まりの向上 ・多様な加工への対応

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計測分野における校正や微細位置調整では、高い再現性と安定した位置決め性能が不可欠です。特にナノスケールでの測定やアライメントでは、わずかなバックラッシュや摩擦が測定結果の信頼性に影響を与えます。 P-517／P-527 マルチ軸ピエゾスキャナは、摩擦ゼロのフレクシャガイドによる一体型構造を採用し、ヒステリシスや機械的遊びを最小化。ナノレベルの分解能と高再現性により、校正作業や精密計測の精度向上に貢献します。安定した動作特性は、長期的な測定信頼性の確保にも寄与します。 【活用シーン】 ・光学検査装置 ・ウェーハ検査・計測装置 ・ナノポジショニング用途 ・精密計測システム ・顕微鏡・走査系装置 【導入の効果】 ・高再現性による校正精度の向上 ・摩擦ゼロ構造による安定した測定環境 ・測定データの信頼性向上と品質管理強化

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精密加工分野では、さらなる微細化と高品質化が進み、ナノレベルでの位置決め精度が製品性能を左右する重要な要素となっています。特にレーザ加工やマイクロパターニングでは、振動や摩擦によるわずかな誤差が加工品質に直結します。 P-517／P-527 マルチ軸ピエゾスキャナは、摩擦ゼロのフレクシャガイド一体構造を採用し、バックラッシュや摩耗を排除。PICMAピエゾセラミックと高分解能静電容量センサーにより、ナノレベルの再現性と高ダイナミクスを実現します。安定した高速応答により、微細加工における高精度な位置制御を可能にし、加工品質と歩留まり向上に貢献します。 【活用シーン】 ・レーザ微細加工装置 ・マイクロパターニング ・ウェーハ加工・検査装置 ・ナノポジショニング用途 ・精密計測・加工システム 【導入の効果】 ・ナノレベルの高精度加工制御 ・安定動作による加工品質向上 ・加工時間短縮と生産性向上 ・歩留まり改善によるコスト削減

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光学分野における位置決めは、高精度な測定や検査、微細加工において、非常に重要な要素です。特に、レンズやミラーなどの光学部品の位置調整は、システムの性能を左右する重要な課題です。従来の機械的な位置決め方法では、摩擦やバックラッシュによる精度の限界があり、高精度な位置決めが困難な場合がありました。P-517/527マルチ軸ピエゾスキャナは、ナノレベルの分解能と再現性により、光学部品の位置決めにおける課題を解決します。 【活用シーン】 ・光学検査 ・ウェハー検査 ・ナノポジショニング ・計測 ・顕微鏡 【導入の効果】 ・サブナノメートルの分解能による高精度な位置決め ・摩擦ゼロのフレクシャガイドによる安定した動作 ・静電容量センサーによる高いリニアリティ ・50 x 50mmの開口による透過光測定への対応

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P-517/527マルチ軸ピエゾスキャナは、摩耗ゼロのフレクシャガイドとPICMAピエゾセラミック、静電容量センサーを用いて、ナノレベルの再現性、分解能をもち、動作軸は、XY軸、XYZ軸、XYθz軸のタイプがあります。 XY軸は100µmと200µm、Z軸は20µm、θzは2mradタイがあります。耐荷重50Nあり、光学検査、ウェハー検査、ナノポジショニング、計測、顕微鏡などアプリケーションに最適。 センター開口部は、66×66mm。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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ナノテクノロジー分野では、ナノスケールでの精密な操作が求められます。特に、原子レベルでの物質の操作や、微細構造の製造においては、正確な位置決めと安定した動作が不可欠です。従来の技術では、環境変化による影響を受けやすく、精度の維持が難しいという課題がありました。多層PICMA(R)ピエゾアクチュエータ P-882・P-888は、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・走査型プローブ顕微鏡（SPM） ・ナノインデンテーション ・微細加工 ・光学系の精密調整 ・半導体製造装置 【導入の効果】 ・サブナノメートルの分解能による高精度な操作 ・過酷な環境下での安定した動作 ・長寿命化によるメンテナンスコストの削減 ・多様な形状とカスタム対応による柔軟なシステム構築 ・高スループット化の実現

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精密測定の分野では、ナノレベルの精度が求められる測定や、過酷な環境下での測定が不可欠です。温度変化や振動、真空環境下など、様々な外的要因が測定精度に影響を与えるため、安定した動作と高い耐久性が重要になります。PICMA(R)多層ピエゾアクチュエータ P-882・P-888は、これらの課題に対し、高い剛性と耐環境性能で応えます。 【活用シーン】 ・走査型プローブ顕微鏡（SPM） ・半導体製造装置 ・光学素子の精密位置決め 【導入の効果】 ・サブナノメートルの分解能による高精度な位置決め ・過酷な環境下での安定した動作 ・長寿命化によるメンテナンスコスト削減

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顕微鏡の分野では、観察対象を高精度にフォーカスすることが、鮮明な画像を得るために不可欠です。特に、高倍率での観察や、動的な観察においては、ピントの微調整が重要になります。ピントがずれると、観察対象の詳細を見ることができず、正確な分析や研究の妨げになります。PICMA(R)多層ピエゾアクチュエータ P-882・P-888は、サブナノメートルの分解能と超高剛性により、顕微鏡のフォーカス制御を精密に行い、鮮明な画像を提供します。 【活用シーン】 ・顕微鏡のフォーカス調整 ・細胞観察 ・材料分析 ・半導体検査 【導入の効果】 ・高精度なフォーカス制御による鮮明な画像取得 ・観察時間の短縮 ・研究・分析の効率化

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ライフサイエンス分野では、細胞・組織・微小試料を対象とした高精度な操作や計測が求められます。特に、顕微鏡下での微細操作や計測系では、わずかな位置誤差や振動が実験結果の再現性や信頼性に影響を与えます。PICMA積層ピエゾアクチュエータ P-882・P-888は、サブナノメートル分解能と超高剛性により、安定した精密制御を実現し、ライフサイエンス研究を強力にサポートします。 【活用シーン】 ・顕微鏡下での細胞・試料の精密操作 ・マイクロマニピュレーターやステージ制御 ・バイオ計測・干渉計システムへの組み込み 【導入の効果】 ・実験・計測の再現性向上 ・微細操作の安定化 ・研究効率の向上

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光学分野では、高精度な位置決めと微調整が求められます。特に、レンズやミラーの位置調整は、光学系の性能を左右する重要な要素です。わずかなズレが、画像品質の低下や測定精度の悪化につながる可能性があります。多層PICMA(R)ピエゾアクチュエータ P-882・P-888は、サブナノメートルの分解能と超高剛性により、光学系の精密な位置決めと微調整を実現します。 【活用シーン】 ・光学系の波面補正 ・レンズ・ミラーの微調整 ・干渉計用参照ミラー制御 ・レーザー光学系の安定化 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる、光学性能の向上 ・サブナノメートル分解能による、微細な調整 ・長寿命と高い信頼性 ・過酷な環境下での安定動作

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PICMA(R)多層ピエゾアクチュエータ P-882・P-888は、セラミック絶縁構造により湿度や電解腐食に強く、温度安定性に優れています。 カスタムにより、最大200度までの耐高温度性を持たせたり、最大20 Aの大電流対応や、穴あき、円形、長方形など形状変更にも対応。 さらにUHV 10⁻⁹ hPa対応し、アウトガスがなく、高いベーク温度にも耐えられ、真空装置や極低温環境など過酷環境下でも動作。 多彩なサイズ・形状バリエーションに加え、カスタム仕様やセンサ内蔵型も選択可能です。 ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

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光学分野における調整作業では、光軸のわずかなずれがシステム性能に大きく影響します。特に微細な位置調整が求められる場面では、高分解能に加え、優れた直線性と再現性が不可欠です。不正確な位置決めは、光学性能の低下や測定誤差の原因となります。 本ナノポジショナは、最大0.1nmの高分解能と0.02%の優れた直線性を実現。さらに、可変ストロークおよびX・XY・Z・XYZの多軸構成に対応し、用途に応じた柔軟なシステム構築が可能です。非接触センサによる直接位置計測とゼロバックラッシュのフレクシャガイドにより、高い安定性と再現性を実現し、光学系の性能を最大限に引き出します。 【活用シーン】 ・顕微鏡試料走査 ・光学アライメント ・干渉計測 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる、光学系の性能向上 ・測定精度の向上 ・作業効率の改善

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顕微鏡分野では、試料の精密な走査が求められます。特に、高倍率での観察や微細構造の解析においては、正確な位置決めが不可欠です。位置ずれは、観察像の劣化や測定精度の低下につながる可能性があります。PIHera P-620.1/629.1 シリーズは、0.1 nm分解能と高精度な位置決めにより、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・顕微鏡試料走査 ・光学アライメント ・干渉計測 【導入の効果】 ・高精度な観察と測定 ・微細構造の正確な解析 ・実験効率の向上 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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バイオテクノロジー分野、特に細胞操作においては、細胞へのダメージを最小限に抑えつつ、正確な位置決めが求められます。細胞培養、顕微鏡観察、マイクロインジェクションなど、ナノレベルの精度が生命現象の解明に不可欠です。不正確な位置決めは、実験の失敗やデータの信頼性低下につながる可能性があります。PI社の0.1nm分解能ナノポジショナは、細胞操作における精密な位置決めを可能にし、研究の効率化と精度の向上に貢献します。 【活用シーン】 ・細胞培養 ・顕微鏡観察 ・マイクロインジェクション ・細胞の選別 【導入の効果】 ・細胞へのダメージを最小限に抑え、実験の成功率を向上 ・正確な位置決めにより、実験データの信頼性を向上 ・研究の効率化と、より詳細な観察を実現

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ナノテクノロジー分野の計測において、正確な位置決めは極めて重要です。微細構造の観察、精密な加工、高度な実験には、ナノメートルレベルの精度が求められます。位置決めの誤差は、計測結果の信頼性を損ない、研究の進捗を妨げる可能性があります。PI社の0.1nm分解能ナノポジショナは、内蔵静電容量型センサーとフレクシャガイドにより、高精度な位置決めを実現し、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・顕微鏡試料走査 ・光学アライメント ・干渉計測 【導入の効果】 ・高精度な計測データの取得 ・実験の再現性の向上 ・研究開発の効率化

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半導体業界では、製造プロセスの微細化に伴い、高精度な位置決めが不可欠です。特に、ウェーハの検査や露光工程においては、わずかな位置ずれが製品の品質を大きく左右します。P-620.1/629.1は、これらの課題に対応し、高精度な位置決めを実現します。内臓の静電容量型センサーにより、リニアリティエラー0.02%を達成し、半導体製造における歩留まり向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査 ・露光工程 ・光学アライメント ・干渉計測 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・歩留まりの向上 ・製造プロセスの効率化 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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PIHera P-620.1/629.1 シリーズはフレクシャガイドとPICMA(R)ピエゾを組み合わせた1軸ナノポジショナです。 50〜1800 µmのストロークをもち、最小0.1 nm分解能を有し、内蔵静電容量型センサーで実可動部を測定することで、リニアリティエラー0.02 %を達成します。 フレクシャーガイドで、摩耗部がなく高剛性で優れた真直度、長期安定性に優れます。 X・XY・Z・XYZ構成にも拡張できるため、顕微鏡試料走査、光学アライメント、干渉計測などに最適です。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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フォトニクス分野のアライメント作業では、光ファイバーやレンズなどの精密な位置調整が求められます。特に、光軸のずれは、測定精度や効率を大きく左右するため、ナノレベルでの精密な位置決めが重要です。Z・チップ・チルト開口部付ピエゾステージ P-5x8は、これらの課題に対し、高精度な位置決めと広い開口部による透過光測定の実現で貢献します。 【活用シーン】 ・光ファイバーアライメント ・レンズアライメント ・干渉計測 ・透過光アプリケーション 【導入の効果】 ・ナノレベルでの精密な位置決めによるアライメント精度の向上 ・66mm×66mmの開口部による透過光測定の効率化 ・高信頼性PICMAピエゾセラミックスによる長寿命化 ・静電容量センサーによる高いリニアリティ

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精密測定分野では、わずかな位置ずれや角度誤差が測定結果に大きく影響します。特に微細構造の評価や透過光を用いた計測では、ナノレベルの分解能と高い安定性、さらに十分な開口径が求められます。 P-518／P-528シリーズは、Z軸ストローク100µm／200µmとチップチルト制御を組み合わせた高精度ピエゾステージです。66mmの大開口設計により透過光計測にも対応し、高いリニアリティと再現性を実現。精密測定やアライメント工程における信頼性向上に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体検査・評価装置 ・フォトニクス／光学計測 ・顕微鏡・干渉計システム ・高精度アライメント用途 【導入の効果】 ・ナノレベルでの高精度Z・角度調整 ・66mm開口による透過光計測対応 ・高い直線性と安定性による測定信頼性向上

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顕微鏡走査では、試料や対物レンズのわずかな位置ずれや傾きが、画像の解像度やコントラストに大きく影響します。特に高倍率観察や微細構造解析では、ナノメートルレベルのZ制御と角度補正、そして高い安定性が不可欠です。 P-518／P-528シリーズは、Z軸100µm／200µmストロークとチップチルト制御を組み合わせた高精度ピエゾステージです。66mmの大開口設計により透過観察にも対応。高いリニアリティと再現性により、ブレや歪みを抑えた高品質な画像取得を実現し、顕微鏡システムの性能向上に貢献します。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡 ・蛍光顕微鏡 ・走査型プローブ顕微鏡（SPM） ・細胞・ライブセル観察 ・材料／微細構造解析 【導入の効果】 ・ナノレベルの高精度Z走査 ・チップチルト補正による像の安定化 ・透過観察に対応する66mm開口 ・高分解能画像取得と再現性向上 ・研究開発効率の向上

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光学系の調整において、光軸のわずかなズレは分解能や測定精度に大きく影響します。特に干渉計や高分解能顕微鏡、精密アライメント用途では、ナノレベルでのZ制御とチップ・チルト調整が不可欠です。 P-518／P-528シリーズは、Z軸100µm／200µmストロークとチップチルト1mrad／2mradの高精度制御を実現。66mmの大開口設計により、透過光アプリケーションにも最適です。高剛性フレクシャガイド構造により安定した再現性を確保し、光学調整作業の精度向上と効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・顕微鏡の対物レンズ・サンプル調整 ・光ファイバーアライメント ・干渉計・波面計測システム ・半導体検査装置 【導入の効果】 ・ナノレベルのZ・角度調整 ・透過光光学系への柔軟な対応 ・安定した光軸維持による測定精度向上 ・調整時間短縮による作業効率改善

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P-5x8シリーズは、チップチルト付きピエゾナノステージ P-518.TCD とロングストローク版 P-528.TCD/ZCD を同一プラットフォームで展開します。 高信頼性PICMAピエゾセラミックス、フレクシャーガイド、パラレルキネマティクスと静電容量式センサで システム分解能 0.8 nm、リニアリティエラ― 0.03 %を実現。 66 × 66 mm の大開口が干渉計測や透過光アプリに適し、耐荷重50Nをもち、半導体検査・フォトニクス、顕微鏡、高精度アライメントに最適です。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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P-752は、最大35 µmのストロークと最大0.1 nm分解能を備えた高精度ピエゾナノポジショニングステージです。フレクシャガイド構造と高分解能キャパシティブセンサ（クローズドループ仕様）により、ヒステリシスの影響を抑えた高い再現性と安定性を実現します。 細胞レベルの観察や微細サンプルの操作など、ナノメートル精度が求められるバイオテクノロジー分野において、信頼性の高い位置決め性能を提供します。 【活用シーン】 ・蛍光顕微鏡・共焦点顕微鏡での精密フォーカシング ・細胞・オルガノイドのナノスケール位置制御 ・マイクロマニピュレーション ・バイオセンサー評価・ナノレベルアライメント 【導入の効果】 ・最大0.1 nm分解能による高精度位置決め ・クローズドループ制御による高い再現性と安定性 ・コンパクト設計による顕微鏡・分析装置への組込み適合性 ・高速応答による測定効率の向上

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計測・評価分野における校正および微小位置決めでは、ナノメートルレベルの分解能と高い位置再現性が求められます。 P-752は、最大35 µmのストロークと最小0.1 nmの分解能（適切なコントローラ使用時）を備えたリニア・ピエゾフレクシャステージです。フレクシャガイド構造により、摩擦やバックラッシュのない滑らかな動作と高い真直度を実現します。 これにより、精密測定機器の校正や評価工程において、安定した微小位置決めをサポートします。 【活用シーン】 ・精密測定機器の校正・性能評価 ・光学系のアライメントおよび位置補正 ・センサー評価・材料試験における微小変位制御 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルの位置決め分解能 ・バックラッシュのない高再現性動作 ・安定した微小変位制御による測定精度の安定化

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ナノテクノロジー分野における構造作製や評価では、ナノメートルレベルの位置決め分解能と高い再現性が求められます。P-752は、最大35 µmのストロークと最小0.1 nmの分解能（適切なコントローラ使用時）を備えたリニア・ピエゾフレクシャステージです。フレクシャガイド構造により、摩擦やバックラッシュのない滑らかな動作と高い真直度を実現します。ナノスケールでの位置決め制御が求められる研究開発用途において、安定した微小変位制御を提供します。 【活用シーン】 ・ナノ構造作製における微小位置決め ・走査型プローブ顕微鏡（SPM）のサンプル／プローブ位置制御 ・微細加工プロセスにおける精密アライメント ・ナノ材料評価・表面解析 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルの位置決め分解能 ・バックラッシュのない高再現性動作 ・微小変位制御の安定化

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P-752は、2電極型の静電容量式センサを内蔵したフレクシャガイド構造により、摩擦ゼロで、優れた真直度（Pitch, yaw error ±１μrad）をもち、Openloop分解能は0.1nmという優れた1軸ナノポジショニングステージです。 また内蔵の静電容量センサーは、実可動部分を非接触でサブナノレベルで実測するため、より高いリニアリティとヒステリシス補正し、長期安定性を実現させます。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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光学分野における調整作業では、光軸の高精度な位置決めが求められます。特に、微細な調整が必要な光学素子の配置では、わずかな位置ずれが光損失や測定誤差を引き起こし、最終製品の性能や品質に影響を与えます。 本XZ・XYZナノポジショナーは、44mm角のコンパクト設計ながら、最大120µmのストロークと0.2nmの高分解能を実現。ゼロバックラッシュのフレクシャガイド機構により、再現性の高い精密位置決めが可能です。さらに、PICMA(R)ピエゾアクチュエータの採用により、高い信頼性と長寿命を兼ね備えています。 【活用シーン】 ・顕微鏡の対物レンズ調整 ・ファイバーアライメント ・光学素子の位置決め 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる測定精度の向上 ・作業効率の向上 ・製品品質の安定化

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半導体製造工程では、ウェーハ加工や検査工程においてナノメートルレベルの精密な位置決めが求められます。特に微細化が進む半導体プロセスでは、位置決め精度が製品品質や歩留まりに大きく影響します。 P-611.XZ / P-611.2は、44 mm × 44 mmのコンパクトな設計ながら、最大120 µmの動作量と0.2 nmの高分解能を実現するピエゾナノポジショナーです。高精度フレクシャガイド機構とPICMA(R)ピエゾアクチュエータにより、半導体製造装置や検査装置における安定したナノポジショニングを可能にします。 【活用シーン】 ・半導体製造装置 ・ウェーハ検査装置 ・ナノ加工・微細加工装置 ・光学アライメント装置 【導入の効果】 ・ナノレベルの位置決めによる歩留まり向上 ・高精度ポジショニングによる検査精度向上 ・コンパクト設計による装置組込みの容易化 ・高い再現性による安定したプロセス制御

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P-611 シリーズはサイズが44mmの小型ナノポジショナステージです。 ・XY、XZ軸　各 120 µmの動作量 ・Openloop分解能：0.2nm ・ひずみゲージフィードバックセンサーも対応（分解能2nm） ・耐荷重15N ・Z軸のみ（P-611.Zx）、XYZ軸（P-611.3x）のモデルも用意 用途：干渉計測、顕微鏡、ナノポジショニング、バイオテクノロジー、マニピュレータ、フォトニクス、ファイバーポジショニング、半導体技術。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

• 圧電デバイス
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光学システムでは、光ビームの微細な角度調整や光軸制御が性能を左右する重要な要素です。特に、レーザー加工や光通信、ビーム制御などの分野では、高速かつ高精度な角度制御が求められます。 S-330 ピエゾチップ／チルトプラットフォームは、ピエゾアクチュエータによる高速応答と高分解能を実現したTip/Tiltステージです。サブミリ秒の応答と優れた位置安定性により、高速ステアリングミラー用途や精密な光学アライメントに最適です。 【活用シーン】 ・レーザービームの精密な角度制御 ・光ファイバーアライメント ・光学顕微鏡の光軸調整 ・ビームステアリング／ビーム安定化 【導入の効果】 ・高速応答による調整時間の短縮 ・高分解能による光学システムの高精度化 ・ダイナミック制御による装置性能の向上

• レーザ部品

S-330ピエゾチップ／チルトプラットフォームは高速でコンパクトな チップ／チルトユニットであり、2つの直交軸を中心とした トッププラットフォームの角度の動きを正確に実現します。 【特徴】 ○分解能～20nrad、優れた位置安定性 ○光ビームの偏向～20mrad（＞1°） ○パラレル制御設計によるダイナミクス、安定性、およびリニアリティの向上 ○同一平面回転軸と固定ピボットポイントが分極回転を回避 ○サブミリセカンドの応答 ○直径最大50mmのミラー用 ○リニアリティ向上のためのクローズドループバージョン ○優れた温度安定性 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

• レーザ部品

顕微鏡観察の分野では、試料の正確な位置決めと微細な動きの制御が、鮮明な画像を得るために不可欠です。特に、高倍率での観察や、微小な構造の解析においては、ナノレベルの精度が求められます。位置決めのわずかなずれや振動は、観察結果に大きな影響を与え、正確なデータ取得を妨げる可能性があります。P-734は、このような課題に対し、高精度な位置決めと高速動作で応えます。 【活用シーン】 ・光学顕微鏡 ・走査型顕微鏡 ・表面形状解析 【導入の効果】 ・高精度な観察画像の取得 ・微細構造の正確な解析 ・観察時間の短縮 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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P-734はパラレルキネマティクス構造によるXY軸ナノポジショニングステージです。 高精度フレクシャーガイドと静電容量式センサにより、0.3 nmシステム分解能と0.03 %リニアリティを実現。 動作量は100 µm×100 µmで、耐荷重は20N。 56 mm×56 mmの大開口により、光学顕微鏡などにも最適。 半導体マスク位置決め、走査型顕微鏡、表面粗さ計測など“平面度×高速”が求められる装置に最適です。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

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精密機械組立の現場では、部品の正確な位置決めが製品の品質を左右します。特に、微細な部品の組み立てにおいては、高精度な位置決めが求められます。位置決めの精度が低いと、製品の不良や組み立て時間の増加につながる可能性があります。P-611.1ピエゾナノポジショナーは、低価格でありながら、44 x 44mmのコンパクト設計ながら、0.2 nmの分解能と最大120 µmのストロークを実現。ピエゾアクチュエータによる高速応答により、ナノスケールでの高精度かつ安定した位置決めを可能にし、微細組立工程の高度化に貢献します。 【活用シーン】 ・微細部品の精密な位置決め ・小型部品の高速組立 ・高精度な検査工程 【導入の効果】 ・組立精度の向上 ・不良率の低減 ・組立時間の短縮

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顕微鏡の走査用途では、高精度な位置決めと安定性が求められます。特に、微細構造の観察や画像取得においては、ナノレベルの正確な位置制御が不可欠です。位置決めの精度が低いと、観察対象を見逃したり、画像の解像度が低下する可能性があります。P-611.1ピエゾナノポジショナーは、コンパクト設計と高精度な位置決め性能により、顕微鏡の走査用途に最適です。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察 ・走査型顕微鏡 ・試料の精密位置決め 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる観察精度の向上 ・コンパクト設計による設置スペースの有効活用 ・低コストでの導入

• アクチュエーター
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半導体業界では、製造プロセスの高度化に伴い、ウェーハやマスクの位置決めにおける高い精度が求められます。特に、微細加工や検査工程においては、ナノメートルレベルの位置決め精度が製品の品質を左右します。従来のシステムでは、大型化や高コストが課題となっていました。P-611.1ピエゾナノポジショナーは、設置面積わずか44 x 44mmのコンパクト設計でありながら、最大120μmのストロークと0.2nmの分解能を実現し、半導体製造における精密位置決めを低コストで実現します。 【活用シーン】 ・ウェーハプロービング ・マスクアライメント ・微細加工 ・検査工程 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる歩留まり向上 ・装置の小型化による省スペース化 ・低コスト化による投資対効果の向上

• アクチュエーター
• 圧電デバイス
• エンコーダー

P-611.1ピエゾステージは、設置面積わずか44 x 44mmの フレクシャガイドナノポジショニングシステムです。 【特徴】 ○コンパクト設計：設置面積わずか44 x 44mm ○ストローク～120μm ○分解能～0.2nm ○低コストの機構／電子システム構成 ○PICMA(TM)ピエゾアクチュエータによる驚異の長寿命 ○Zステージ、XY、XZ、およびXYZバージョンを用意 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

• アクチュエーター
• 圧電デバイス
• エンコーダー

半導体製造装置や検査装置では、ナノメートルレベルの高精度位置決めが製品品質や歩留まりに大きく影響します。特に、微細加工、ウェハ検査、計測工程では、わずかな位置決め誤差がデバイス性能の低下や不良の原因となる可能性があります。 N-111は、PI独自のNEXLINE(R) PiezoWalk(R) ウォーキングドライブ技術を採用したリニアアクチュエータです。長ストロークでありながらナノレベルの高分解能を実現し、半導体製造装置や精密検査装置における高精度位置決めを可能にします。 【活用シーン】 ・半導体製造装置 ・ウェハ検査装置 ・ナノ計測装置 ・微細加工装置 ・精密位置決め用途 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・歩留まりの向上 ・生産性の向上

• アクチュエーター
• リニアモータ
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N-111は、PI独自のNEXLINEウォーキング技術を採用した組込み向けナノ位置決めアクチュエータです。 ・動作量：10 mm ・推力：50 N ・保持力：70 N（パッシブ無通電ロック） ・システム分解能：5nm　インクリメンタルリニアスケール ・オープンループ分解能：0.025nm ・速度：最大 1 mm/s（モードによる） ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

• アクチュエーター
• リニアモータ
• 圧電デバイス

フォトニクス分野では、光学素子や光ファイバーの位置決めにおいて、ナノメートルレベルの分解能と高い再現性が求められます。P-753 LISAは、15～38 µmのストローク（モデルによる）と最小0.1 nmの分解能（適切なコントローラ使用時）を備えたコンパクトなリニア・ピエゾステージです。フレクシャガイド構造により、摩擦やバックラッシュのない滑らかな動作を実現します。光学アライメントや微小位置補正用途において、安定したナノポジショニングを提供します。 【活用シーン】 ・光ファイバーアライメント ・光ファイバーアライメント ・光学素子の微調整・位置補正 ・レーザービーム経路の精密位置決め ・フォトニックデバイス評価 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルの位置決め分解能 ・バックラッシュのない高再現性動作 ・コンパクト設計による装置組込み適性

• アクチュエーター
• 圧電デバイス
• ソレノイド・アクチュエータ

精密測定分野では、校正や微小位置補正において、ナノメートルレベルの分解能と高い再現性が求められます。P-753 LISAは、15～38 µmのストローク（モデルによる）と最小0.1 nmの分解能（適切なコントローラ使用時）を備えたリニア・ピエゾステージです。フレクシャガイド構造により、摩擦やバックラッシュのない滑らかな動作を実現します。測定器の校正工程や微小変位制御用途において、安定したナノポジショニングを提供します。 【活用シーン】 ・精密測定機器の校正 ・センサー評価における微小位置調整 ・変位・位置計測系の基準移動 ・光学式測定システムの微調整 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルの位置決め分解能 ・バックラッシュのない高再現性動作 ・微小変位制御の安定化 ・コンパクト設計による装置組込み適性

• アクチュエーター
• 圧電デバイス
• ソレノイド・アクチュエータ

バイオテクノロジー分野における細胞観察やマイクロマニピュレーションでは、微小変位を安定して制御できる位置決めステージが求められます。P-753 LISAは、15～38 µmのストローク（モデルによる）と最小0.1 nmの分解能（適切なコントローラ使用時）を備えたコンパクトなリニア・ピエゾステージです。フレクシャガイド構造により、摩擦やバックラッシュのない滑らかな動作を実現します。顕微鏡システムへの組込みや、微小サンプルの位置調整用途において、ナノメートルレベルの位置決めをサポートします。 【活用シーン】 ・顕微鏡下でのサンプル微調整 ・細胞観察時のフォーカス・位置補正 ・マイクロマニピュレーション用途 ・バイオサンプルの精密位置決め 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルの位置決め分解能 ・バックラッシュのない高再現性動作 ・コンパクト設計による装置組込み適性

• アクチュエーター
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• ソレノイド・アクチュエータ

ナノテクノロジー分野では、ナノメートルレベルの分解能と高い再現性を備えた位置決め機構が求められます。P-753 LISAは、15～38 µmのストローク（モデルによる）と最小0.1 nmの分解能（適切なコントローラ使用時）を備えたリニア・ピエゾステージです。フレクシャガイド構造により、摩擦やバックラッシュのない滑らかな動作を実現します。ナノスケールでのサンプル位置調整や微小変位制御を必要とする研究開発用途に適しています。 【活用シーン】 ・走査型プローブ顕微鏡（SPM）の位置制御 ・ナノリソグラフィーにおける微小位置調整 ・微細加工プロセスの精密アライメント ・ナノ材料評価・表面解析 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルの位置決め分解能 ・バックラッシュのない高再現性動作 ・コンパクト設計による装置組込み適性 ・安定した微小変位制御

• アクチュエーター
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顕微鏡用途では、試料や光学系をナノメートルレベルで安定して位置決めできるステージが求められます。P-753 LISAは、15～38 µmのストローク（モデルによる）と最小0.1 nmの分解能（適切なコントローラ使用時）を備えたリニア・ピエゾステージです。フレクシャガイド構造により、摩擦やバックラッシュのない滑らかな動作を実現します。顕微鏡システムにおける試料の微小走査や位置補正用途に適しています。 【活用シーン】 ・顕微鏡による試料の微小走査 ・フォーカス位置の微調整 ・高分解能観察時の位置補正 マイクロ・ナノスケールでの位置決め 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルの位置決め分解能 ・バックラッシュのない高再現性動作 ・コンパクト設計による装置組込み適性 ・安定した微小変位制御

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光学系の調整では、光軸や光学素子の位置を微小量で安定して制御できることが求められます。P-753 LISAは、15～38 µmのストローク（モデルによる）と最小0.1 nmの分解能（適切なコントローラ使用時）を備えたリニア・ピエゾステージです。フレクシャガイド構造により、摩擦やバックラッシュのない滑らかな動作を実現します。顕微鏡、レーザー光学系、干渉計などにおける微小位置補正やアライメント用途に適しています。 【活用シーン】 ・光学顕微鏡の対物レンズ位置調整 ・レーザービームの微調整 ・光ファイバーアライメント ・分光器のスリット位置調整 ・干渉計のミラー位置補正 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルの位置決め分解能 ・バックラッシュのない高再現性動作 ・コンパクト設計による装置組込み適性 ・微小位置補正の安定化

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