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顕微鏡・光学実験・精密測定のZ軸位置決めに。高剛性クロスローラーガイド採用の精密Zステージ
研究開発分野の実験では、ナノ～ミクロンレベルの位置決め精度が実験結果の信頼性や再現性を左右します。特に顕微鏡観察や光学実験、材料評価などの分野では、安定したZ方向の精密ポジショニングが不可欠です。 L-310は、ボールねじ駆動とクロスローラーガイドを採用した高精度Zステージです。高いガイド精度と剛性に加え、インクリメンタルエンコーダによる高精度位置測定により、研究開発用途における安定したZ軸位置制御を実現します。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察装置 ・精密測定装置 ・材料試験装置 ・光学実験装置 ・研究開発用実験装置 【導入の効果】 ・高精度なZ軸位置決めによる実験精度の向上 ・安定した動作による実験データの再現性向上 ・滑らかな動作による精密調整の容易化 ・研究用途での高い信頼性 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。
高剛性クロスローラーガイド採用。精密測定・研究用途のZ方向位置決めに最適
精密測定や分析装置では、Z方向のわずかな位置ずれが測定精度や再現性に大きく影響します。特に微細構造の測定やナノスケールの分析では、高精度かつ安定した位置決め機構が不可欠です。 L-310は、ボールねじ駆動とクロスローラーガイドを採用した高精度Zステージです。高いガイド精度と剛性を実現し、精密測定装置や研究用途における安定したZ方向位置決めを可能にします。 【活用シーン】 ・精密測定機器 ・検査装置 ・研究開発 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる測定精度の向上 ・安定した動作による信頼性の向上 ・スムーズな動作による作業効率の向上 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。
電子部品実装の高速化を実現する、薄型・高精度リニアモータステージ
電子部品実装業界では、生産性の向上と品質の向上が求められています。特に、高速な部品のピックアンドプレースや、高精度な位置決めが、生産効率を左右する重要な要素です。従来のステージでは、速度や精度に限界があり、生産性のボトルネックとなることがありました。当社の132 mm幅薄型高速リニアモーターステージ V-857は、高速・高精度な位置決めを実現し、電子部品実装の高速化に貢献します。 【活用シーン】 ・高速な部品実装 ・高精度な位置決めが必要な工程 ・小型・軽量化が求められる装置 【導入の効果】 ・生産性の向上 ・品質の向上 ・装置の小型化
光学アライメントに最適！高精度位置決めリニアモータXY軸ステージ
光学業界のアライメント作業では、高精度な位置決めが不可欠です。特に、レンズやミラーなどの光学部品の位置調整においては、微小なズレがシステムの性能に大きな影響を与えます。位置決めの精度が低いと、光軸のずれや焦点距離の変動が発生し、最終的な製品の品質を損なう可能性があります。V-731は、高精度な位置決めを実現し、光学アライメント作業の効率化と品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・光学部品の位置調整 ・レーザー加工 ・走査 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・作業時間の短縮 ・歩留まりの向上
位置決め精度が格段に向上！ストッパー不要で微動なし！
光学機器の精密な位置決め調整に最適な、アリ溝式ステージ『セルフロックステージ SLXシリーズ』をご紹介します。従来のステージでは、ストッパーやクランプ操作による微動や位置ずれが発生し、高精度な調整が難しいという課題がありました。SLXシリーズは、特許取得のセルフロック機構を搭載することで、これらの課題を解決し、高い位置決め精度を実現します。 【活用シーン】 - 光学顕微鏡、画像認識システム、レーザー加工機などの精密機器の調整 - 高精度な位置決めが求められる検査工程 - 長時間安定した位置決めが必要な実験や測定 - 限られたスペースでの設置が必要な場合 【導入の効果】 セルフロック機構により、微動や位置ずれを防止することで、高精度な位置決めを実現します。これにより、製品の品質向上、検査時間の短縮、作業効率の向上に貢献します。また、ストッパー不要のため、操作が簡単になり、作業者の負担軽減にも繋がります。
位置ずれを防ぐ、高精度セルフロックステージ
電子部品製造においては、精密な位置決めが求められます。ミラック光学の「セルフロックステージ SLXシリーズ」は、特許取得のセルフロック機構を搭載することで高い位置決め精度を実現します。 【活用シーン】 - 精密部品の検査・測定 - 自動化ラインにおける位置決め - 高精度な加工工程 - 長時間固定が必要な用途 【導入の効果】 - 位置ずれによる製品不良の防止 - 作業効率の向上 - 精密な位置決めによる加工精度の向上 - 検査・測定の精度向上
高精度動作を実現！止めた位置から微動しない、ロングストロークのセルフロックステージ
ロボット工学における高精度動作を実現するために、位置決め精度と安定性が重要な課題となっています。ミラック光学の「セルフロックステージ SLXシリーズ」は、特許取得のセルフロック機構を搭載し、位置調整後の微動を防止することで、安定した高精度動作を実現します。 【活用シーン】 - 自動搬送システムにおける正確な位置制御 - 検査装置における高精度なステージ移動 - 研究開発における微細な部品の取扱 【導入の効果】 位置決め精度向上による作業効率の改善 - 微動による誤動作や不良品の発生防止 - 長時間安定した動作を実現し、信頼性を向上 - 設置スペースの有効活用
止めた位置から微動しない！ロングストロークで高精度測定を実現
高精度測定に欠かせないアリ溝式ステージに、ロングストロークでストッパー不要の『セルフロックステージ SLXシリーズ』が新登場。特許取得のセルフロック機構により、位置調整後の微動や位置ずれを防ぎ、安定した測定環境を実現します。 【活用シーン】 - 高精度な測定や検査が必要な場面 - 長時間安定した位置決めが必要な場面 - 微動や位置ずれが許されない場面 - 限られたスペースでの作業 - 複雑な形状の測定 【導入の効果】 セルフロック機構により、位置調整後の微動や位置ずれを防ぐことで、測定精度を向上させます。また、ストッパー不要のため、操作が簡単になり、作業効率が向上します。さらに、スリムな形状で設置場所を選ばないため、限られたスペースでも使用できます。
高精度部品加工を支える、ストッパー不要のロングストロークステージ。
自動車製造における検査工程では、精密な位置決めと安定した固定が求められます。従来のアリ溝式ステージでは、手動ストッパーやクランプ操作による微動や位置ずれが発生し、検査精度に影響を与える可能性がありました。ミラック光学の『セルフロックステージ SLXシリーズ』は、特許取得のセルフロック機構を搭載することで、これらの課題を解決し、高精度な検査を可能にするアリ溝式ステージです。 【活用シーン】 - 自動車部品の寸法検査 - エンジン部品の表面検査 - 検査工程における精密な位置決め - 長時間固定が必要な検査 【導入の効果】 - 検査精度の向上 - 検査時間の短縮 - 作業効率の改善 - 人為的なミス削減 - 検査結果の信頼性向上
電動式回転ステージの世界市場：真空型、固体型、半導体検出、自動化技術、その他
本調査レポート（Global Motorized Rotary Stages Market）は、電動式回転ステージのグローバル市場の現状と今後5年間の展望について調査・分析しました。世界の電動式回転ステージ市場概要、主要企業の動向（売上、販売価格、市場シェア）、セグメント別市場規模、主要地域別市場規模、流通チャネル分析などの情報を収録しています。 電動式回転ステージ市場の種類別（By Type）のセグメントは、真空型、固体型を対象にしており、用途別（By Application）のセグメントは、半導体検出、自動化技術、その他を対象にしています。地域別セグメントは、北米、アメリカ、ヨーロッパ、アジア太平洋、日本、中国、インド、韓国、東南アジア、南米、中東、アフリカなどに区分して、電動式回転ステージの市場規模を算出しました。 主要企業の電動式回転ステージ市場シェア、製品・事業概要、販売実績なども掲載しています。
相転移の研究に！温度と撹拌を同時に制御
材料科学分野、特に相転移の研究においては、温度と撹拌を精密に制御することが重要です。相転移現象は温度変化に敏感であり、均一な温度分布と適切な撹拌が、正確な実験結果を得るために不可欠です。不適切な温度制御や撹拌は、相転移の過程を歪め、誤ったデータにつながる可能性があります。スターラー付き温調ステージは、-10℃～80℃の温度範囲で、最大1200rpmの撹拌を可能にし、相転移の研究を強力にサポートします。 【活用シーン】 ・相転移の研究 ・結晶化の研究 ・材料の合成 【導入の効果】 ・温度と撹拌の同時制御による実験効率の向上 ・均一な温度分布と撹拌による正確なデータ取得 ・幅広い温度範囲での実験対応
乳化プロセスを最適化！温度と撹拌を同時に制御。
化粧品業界では、製品の品質を左右する乳化プロセスにおいて、温度管理と均一な撹拌が重要です。乳化が不十分な場合、製品の分離や品質劣化を引き起こし、顧客満足度の低下につながる可能性があります。スターラー付き温調ステージは、-10℃～80℃の温度範囲で精密な温度制御を行いながら、最大1200rpm（水の場合）の撹拌が可能です。これにより、乳化プロセスを最適化し、高品質な化粧品製造をサポートします。 【活用シーン】 ・クリーム、乳液、美容液などの製造 ・乳化状態の最適化実験 ・研究開発における少量サンプル製造 【導入の効果】 ・均一な乳化を実現し、製品の品質向上 ・温度と撹拌の同時制御による効率的な製造 ・再現性の高い乳化プロセスの確立
細胞培養の温度管理と撹拌を一台で！
バイオテクノロジー分野、特に細胞培養においては、培養液の温度管理と均一な撹拌が、細胞の成長と品質を左右する重要な要素です。温度のわずかな変動や撹拌のムラは、細胞の増殖速度の低下や、望ましくない細胞への分化を引き起こす可能性があります。スターラー付き温調ステージは、正確な温度制御と均一な撹拌を両立し、細胞培養の効率と再現性を向上させるために開発されました。 【活用シーン】 ・細胞培養 ・微生物培養 ・生化学反応 【導入の効果】 ・細胞培養の効率化 ・実験の再現性向上 ・培養結果の安定化
－10℃～80℃の温度範囲で、撹拌しながら重合反応を最適化！
石油化学業界における重合反応では、反応温度の精密な制御と均一な撹拌が、製品の品質と収率を左右します。特に、反応熱のコントロールや、モノマーの均一な混合は、重合反応の安定性を確保するために不可欠です。不適切な温度管理や撹拌不足は、反応の暴走や生成物の品質低下につながる可能性があります。当社のスターラー付き温調ステージは、温度と撹拌を同時に制御することで、重合反応の最適化を支援します。 【活用シーン】 ・重合反応プロセスの温度制御 ・反応物の均一な撹拌 ・研究開発における重合条件の検討 【導入の効果】 ・反応の安定化による高品質な製品の製造 ・実験の再現性の向上 ・効率的な研究開発の推進
－10℃～80℃の温度範囲で、撹拌しながら保温・保冷が可能
半導体業界における薄膜形成プロセスでは、均一な膜厚と高品質な薄膜を得るために、温度管理が非常に重要です。特に、反応液の温度制御は、薄膜の結晶性や組成に大きな影響を与え、製品の性能を左右します。温度が不均一であったり、制御が不安定な場合、薄膜の品質が低下し、歩留まりの悪化につながる可能性があります。スターラー付き温調ステージは、温度を精密に制御しながら、液体の撹拌を可能にし、薄膜形成プロセスの品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・薄膜形成における反応液の温度制御 ・前駆体溶液の撹拌と温度管理 ・成膜プロセスの最適化 【導入の効果】 ・薄膜の均一性向上 ・成膜プロセスの再現性向上 ・歩留まりの改善
ナノ粒子合成を温度制御と撹拌でサポート！
ナノテクノロジー分野、特にナノ粒子合成においては、反応温度の精密な制御と均一な混合が、粒子のサイズや形状、品質を決定する上で非常に重要です。温度管理が不十分な場合、粒子の凝集や成長のばらつきが生じ、目的の特性が得られない可能性があります。また、混合が不均一な場合、反応の偏りや不完全な反応を引き起こし、製品の品質を損なうことにも繋がります。スターラー付き温調ステージは、温度と撹拌を同時に制御することで、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・ナノ粒子合成における反応温度の精密制御 ・均一な混合による粒子径の制御 ・様々な材料の合成実験 【導入の効果】 ・高品質なナノ粒子の合成 ・実験の再現性の向上 ・研究開発の効率化
－10℃～80℃の温度範囲で、撹拌しながら保温・保冷が可能。断熱材セット付。
エネルギー分野における触媒反応の研究開発では、反応温度の精密な制御が、反応効率と生成物の品質を左右する重要な要素となります。特に、反応温度のわずかな変動が、反応速度や選択性に大きな影響を与えるため、正確な温度管理が不可欠です。本製品は、反応液の温度を一定に保ちながら撹拌を行うことで、反応の均一性を高め、再現性の高い実験を可能にします。 【活用シーン】 ・触媒反応の研究開発 ・反応温度の精密な制御が必要な実験 ・均一な温度分布が求められる反応 【導入の効果】 ・反応効率の向上 ・生成物の品質安定化 ・実験の再現性向上
真空チャンバー内での位置決め用途に リニアエンコーダ内蔵により5nm分解能で位置決め 可動範囲最大50mm
光学式リニアエンコーダに対して、5nm分解能と±10nmの再現性を実現した超高分解能位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは『 20mm 』『 40mm 』『 50mm 』までラインアップ。 位置決めでお悩みでしたら、是非お問い合わせください。 ■詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
真空チャンバー内での位置決め用途に サブミクロン分解能で位置決め 可動範囲最大100mm
ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダに対して、サブミクロン分解能（0.1μm or 0.05μm）の再現性を実現した精密位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは20mm～100mmまでラインアップ。 位置決めでお悩みでしたら、是非お問い合わせください。 ■詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
【精密位置決め装置】高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 150mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-511との組み合わせ
【精密位置決め装置】高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 200mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 スローダウンセンサを搭載しており、ストロークエンドでの停止時の衝撃を小さくできます。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-514との組み合わせ
真空中で使える 5nm分解能・高再現性・高保持性を持った高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、薄型で軽量な設計、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 50mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。
真空中で使える 5nm分解能で40mm動作の高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 40mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。
真空中で使える リニアエンコーダによる5nm分解能の高性能位置決めステージ
位置決めステージにアウトガス対策を施してあるため、真空チャンバーにそのまま導入可能です。 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダの位置情報によるフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 20mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。
【真空対応】40mmの範囲を10nm分解能で動作する高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダの位置情報によるフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 40mmストロークを10nm分解能で動作させることができます。
【10nm分解能】真空中で使用可能なリニアエンコーダ内蔵のロングステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 光学式リニアエンコーダを内蔵しており、エンコーダで検出した位置情報をもとにフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 移動範囲100mmと長いため試料の移動と精密位置決めが１台で可能だったり、広範囲のデータ（スペクトル等）が必要な場合に有効です。
【真空対応】リニアエンコーダ内蔵で10nm分解能のZ軸用位置決めステージ
光学式リニアエンコーダを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 10nm分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を用意。 アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 テーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアエンコーダと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。
【真空対応】最小分解能0.00001°で±4°動作できるエンコーダ内蔵の微小回転ステージ
光学式リニアエンコーダを搭載した高分解能微小回転ステージです。 0.00001°分解能でストロークは±4° アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 回転方向の調整用に適しています。
ナノメートル精度のポジショニングステージで微細加工をサポート！
半導体業界の微細加工においては、高精度な位置決めが不可欠です。特に、ウェーハの製造プロセスや、微細な回路パターンの形成においては、ナノメートル単位での正確な位置制御が求められます。位置決め精度が低いと、製品の歩留まり低下や性能劣化につながる可能性があります。当社のナノ精度位置決めステージは、±2nmの位置決め安定性を実現し、100mm/sでの高速安定性も±0.1%を誇ります。これにより、半導体製造における微細加工の精度向上に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体製造装置 ・半導体検査装置 ・微細加工プロセス 【導入の効果】 ・歩留まりの向上 ・製品品質の向上 ・生産性の向上
短納期・高速・高精度な位置決めを実現
半導体製造業界では、高精度な位置決めが求められます。特に、ウェーハやマスクの位置決めは、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。従来のボールねじ方式では、速度や加速度に限界があり、生産性の向上を妨げる要因となっていました。SSA単軸リニアモーターステージは、高速・高精度な位置決めを実現し、半導体製造における生産性向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ搬送 ・マスクアライメント ・検査装置 ・レーザー加工 【導入の効果】 ・生産性の向上 ・品質の向上 ・コスト削減
