更新日： 集計期間:2026年09月16日～2026年10月13日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
更新日： 集計期間:2026年09月16日～2026年10月13日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
更新日： 集計期間:2026年09月16日～2026年10月13日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
691～720 件を表示 ／ 全 744 件
高速フォーカス・高精度検出で、精密検査の精度向上に貢献！
医療機器業界における精密検査では、高精度な位置決めと安定した動作が求められます。特に、微細な構造を扱う検査においては、わずかなブレや振動が検査結果に大きな影響を与える可能性があります。多軸位置決めステージ【MD-ZT】は、5軸の自由度と高いサーボ帯域幅により、ウエハ反りなどによる焦点誤差を解消し、正確な位置決めを実現します。 【活用シーン】 ・顕微鏡検査 ・画像診断装置 ・細胞観察 ・精密測定 【導入の効果】 ・検査精度の向上 ・検査時間の短縮 ・装置の小型化 ・検査結果の信頼性向上
高速フォーカス・高精度検出で、パネル検査の品質向上に貢献！
ディスプレイ製造業界のパネル検査においては、高精度な位置決めと高速な焦点調整が求められます。特に、パネルの反りや微細な欠陥の検出においては、正確な位置決めが検査精度を左右する重要な要素となります。従来の検査装置では、位置決め精度や調整速度に課題があり、検査時間の増加や不良品の発生につながる可能性がありました。多軸位置決めステージ【MD-ZT】は、5軸の自由度と高速なサーボ帯域幅により、これらの課題を解決し、検査の効率化と品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・パネルの表面検査 ・異物検出 ・寸法測定 【導入の効果】 ・検査時間の短縮 ・不良品の削減 ・検査精度の向上
10nm分解能で位置決め！単軸、多軸に対応したリニアステージ
FBリニアステージは、単軸および多軸アプリケーションで使用できます。 ステージ構成は、クロスローラーベアリング、リニア光学式エンコーダ、およびナノモーション社の超音波（ピエゾ）モータを利用しています。 ステージは幅広い移動⾧で提供され、X / YまたはX / Y / Zまたは他の多軸構成で組み合わせることができます。 エンコーダの分解能は、0.1μｍ、1μｍ、0.5μｍ、50nm、10nmの中から選択可能です。
レーザー光軸やレンズの調心に最適！この小ささ、薄さでナノメートルオーダーの超超精密位置決めが可能です！XYZΘの組合せも自在！
nano-UP シリーズは、高精度フィードバックスケールと ピエゾアクチュエータを搭載することで、きわめて高い制御 分解能と繰返し精度を実現した小型ナノステージ。 ステッピングモーター（粗動）とピエゾ（微動）の高速切替え により、ナノオーダーでのスムーズな位置決めを実現。 ラインアップは、1 軸ステージ、θステージ、傾斜ステージの 3 種類 4 モデルあり、ご使用の用途に応じて自由に組み合わせ頂けます。 カスタマイズ等のご相談も承りますので、お気軽にご相談ください。
ピエゾコントローラ クローズドループ制御
静電容量センサー(C)、ひずみゲージセンサー(S)に対応 チャンネル数 1ｃｈ・3ｃｈ 出力電圧-50～150V ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードしてください。
ピエゾステージの選定に！最高1nmの分解能と優れた応答性！応用例も掲載中
最高1nmの分解能をもった超高分解能・高速応答のピエゾステージです。 内蔵変位センサによるフィードバック制御で信頼性の高い位置決めを行うことが出来ます。 【使用例】 ■半導体･液晶検査装置、干渉計機器、分析装置、顕微鏡レンズフォーカス、超精密加工、レーザー関連機器、ナノメータポジショニングなど・・・ 【ここが選ばれる理由】 ■1品からのカスタム対応 ■真空・非磁性対応可 ■組み合わせユニット対応 豊富なラインナップ、応用例を多数掲載中！ 詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
±0.1µm再現性と6軸制御により、光学アライメントや検査工程の位置補正を高精度化
H-840は、スチュワートプラットフォーム構造を採用した高精度ヘキサポッドで、6本のアクチュエータにより並列駆動されます。 Z軸±25mm、X/Y方向±50mm、回転±30°と柔軟な動作を実現し、光学アライメントやマイクロマニピュレーションなどの高度な位置制御が可能。 最大30kgまでの荷重に対応し、±0.1µmの位置再現性と高い制御精度を兼ね備えています。
開口付で高剛性と1µm未満の偏心と平坦度を持つ高速・高精度動作を実現
研究・実験分野では、精密な位置決めと回転制御が、実験の精度と再現性を左右する重要な要素です。従来の回転ステージでは、精度や速度が不足し、実験結果に影響を与える可能性がありました。ダイレクトドライブ高精度回転ステージ V-62xシリーズは、優れた回転精度と微小なティルトエラーを実現し、高度なアライメントや回転制御を可能にします。 【活用シーン】 ・光学系の調整 ・半導体製造装置 ・バイオメディカル分野での実験 【導入の効果】 ・実験精度の向上 ・再現性の高い実験結果 ・幅広い分野での活用
開口付で高剛性と1µm未満の偏心と平坦度を持つ高速・高精度動作を実現
計測や測定、検査では正確な精度が求められます。誤差を減らしたり、正確な位置決めが不可欠です。ダイレクトドライブ高精度回転ステージ V-62xシリーズは、1µm未満の偏心と平坦度により、正確な校正作業をサポートします。 【活用シーン】 ・光学計測・検査 ・半導体・電子部品の精密検査 ・センサー・計測機器の校正 【導入の効果】 ・測定誤差の低減と再現性の向上 ・高精度かつ安定した角度位置決め ・長期安定運用による測定信頼性の向上
非接触・無摩耗で長寿命、ナノメートル単位の滑らかな動作を実現
半導体製造業界では、高精度な位置決めが製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細加工や検査工程においては、ナノメートル単位の正確な位置決めが求められます。従来の摩擦を伴うステージでは、摩耗やバックラッシュによる精度の劣化が課題となっていました。PIglide A-121は、磁気ダイレクトドライブとエアベアリング技術を融合し、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・半導体検査装置 ・精密測定装置 ・微細加工 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・非接触構造による長寿命化 ・メンテナンスコストの削減
非接触・無摩耗で長寿命、ナノメートル単位の滑らかな動作を実現
光学業界のアライメント工程では、レンズやミラーなどの光学部品を超精密に位置決めすることが求められます。特に、光軸のずれは、システムの性能を大きく左右するため、高精度な位置決めが不可欠です。従来の摩擦を利用したステージでは、微小な動きの際に摩擦の影響を受け、正確な位置決めが困難でした。PIglide A-121は、摩擦やバックラッシュを排除し、ナノメートル単位の精度で位置決めを実現することで、光学アライメントの課題を解決します。 【活用シーン】 ・光学レンズのアライメント ・ファイバーアライメント ・光ファイバーデバイスの製造 【導入の効果】 ・高精度なアライメントによる光学性能の向上 ・歩留まりの向上 ・生産性の向上
摩擦ゼロ、高精度位置決め。FPD検査工程の品質向上に貢献。
FPD製造業界の検査工程では、高精度な位置決めが求められます。特に、微細な欠陥の検出や寸法測定においては、正確な位置決めが不良品の発生を抑制し、歩留まり向上に不可欠です。位置精度の低いステージを使用した場合、検査結果の信頼性が損なわれ、正確な評価が困難になる可能性があります。A-143 PIglideは、±0.2 µmの高精度位置決めにより、FPD検査の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・FPDの欠陥検査 ・寸法測定 ・位置合わせ 【導入の効果】 ・検査精度向上 ・不良品率の低減 ・生産性の向上
ナノレベルの精度で光学系の調整をサポート
光学業界では、レンズやミラーなどの光学素子の精密な位置調整が、システムの性能を左右する重要な要素です。特に、高精度な光学検査やアライメントにおいては、微小な角度や位置のずれが、測定結果に大きな影響を与える可能性があります。エアベアリング回転ステージ PIglideA-62x高精度モデルは、摩擦のない非接触回転により、ウォブルや偏心を極限まで抑制し、平面度・偏心率200nm以下を実現します。これにより、光学素子の精密な位置調整を可能にし、高精度な光学検査やアライメントをサポートします。 【活用シーン】 ・光学レンズやミラーの角度調整 ・光学素子の精密アライメント ・光学検査システムの構築 【導入の効果】 ・ナノメートル単位の精密な位置決めが可能 ・高精度な光学測定を実現 ・システムの性能向上に貢献
摩擦ゼロの回転精度で、校正作業の精度向上に貢献
計測機器業界の校正作業では、測定結果の正確性と再現性が重要です。特に回転角度の校正では、ステージの回転精度や安定性が測定結果に直結します。エアベアリング回転ステージ PIglide A-62x は、摩擦のない非接触回転により、低ワブルで滑らかな回転動作を実現し、高精度な角度校正を支えます。 【活用シーン】 ・角度測定器の校正 ・回転角度センサーの校正 ・光学系の調整 【導入の効果】 ・高精度な校正作業の実現 ・測定結果の信頼性向上 ・作業効率の向上
最大35 µmストローク、最小0.1 nm分解能のナノポジショニング
ナノテクノロジー分野における構造作製や評価では、ナノメートルレベルの位置決め分解能と高い再現性が求められます。P-752は、最大35 µmのストロークと最小0.1 nmの分解能（適切なコントローラ使用時）を備えたリニア・ピエゾフレクシャステージです。フレクシャガイド構造により、摩擦やバックラッシュのない滑らかな動作と高い真直度を実現します。ナノスケールでの位置決め制御が求められる研究開発用途において、安定した微小変位制御を提供します。 【活用シーン】 ・ナノ構造作製における微小位置決め ・走査型プローブ顕微鏡（SPM）のサンプル／プローブ位置制御 ・微細加工プロセスにおける精密アライメント ・ナノ材料評価・表面解析 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルの位置決め分解能 ・バックラッシュのない高再現性動作 ・微小変位制御の安定化
サブナノメートルの分解能を提供。0.1nm分解能・高リニアリティ垂直ポジショニング
半導体業界では、高精度な位置決めが求められます。特に、ウェーハ検査や微細構造の計測においては、サブナノレベルの安定性と高速な制御が不可欠です。位置決めの誤差は、計測結果の信頼性を損ない、歩留まりの低下につながる可能性があります。本製品は、0.1 nmの分解能と0.02 %の直線性により、半導体計測における高精度な位置決めを実現します。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査 ・微細構造計測 ・干渉計 ・共焦点顕微鏡 【導入の効果】 ・計測精度の大幅な向上 ・歩留まりの改善 ・高速かつ高精度な位置決め ・サブナノレベルの安定性 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。
0.1nm分解能と0.02%リニアリティ。サブナノZ軸制御で製造・計測精度を向上
ナノテクノロジー製造業界では、微細加工や精密測定において、サブナノレベルの位置決め精度が不可欠です。特に、半導体製造やMEMSデバイスの製造プロセスでは、わずかな位置ずれが製品の品質に大きな影響を与える可能性があります。P-620.Z～P-622.Zは、摩擦のないフレクシャガイドシステムとPICMAピエゾアクチュエータの組み合わせにより、高い信頼性と長寿命を実現し、製造プロセスの安定化に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体製造におけるウェーハ検査 ・MEMSデバイス製造における微細加工 ・干渉計、共焦点顕微鏡などの精密測定 【導入の効果】 ・製造プロセスの歩留まり向上 ・製品の品質向上 ・測定精度の向上 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。
ナノレベルの調整を実現する、開口部付きピエゾステージ
光学系の調整において、光軸のわずかなズレは分解能や測定精度に大きく影響します。特に干渉計や高分解能顕微鏡、精密アライメント用途では、ナノレベルでのZ制御とチップ・チルト調整が不可欠です。 P-518／P-528シリーズは、Z軸100µm／200µmストロークとチップチルト1mrad／2mradの高精度制御を実現。66mmの大開口設計により、透過光アプリケーションにも最適です。高剛性フレクシャガイド構造により安定した再現性を確保し、光学調整作業の精度向上と効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・顕微鏡の対物レンズ・サンプル調整 ・光ファイバーアライメント ・干渉計・波面計測システム ・半導体検査装置 【導入の効果】 ・ナノレベルのZ・角度調整 ・透過光光学系への柔軟な対応 ・安定した光軸維持による測定精度向上 ・調整時間短縮による作業効率改善
半導体装置の微細位置補正に。100 µm × 3軸ナノポジショナー
半導体プロセスや検査装置では、サブミクロンレベルでの位置補正や焦点調整が品質安定化の鍵となります。特に検査工程や微細加工工程では、ナノメートル分解能での高精度位置制御が求められます。P-616 NanoCubeは、各軸100 µmのストロークを備えたコンパクトなXYZピエゾナノポジショナーです。高剛性フレクシャガイド構造によりバックラッシュのない滑らかな動作を実現し、ナノメートル分解能での微細位置調整が可能です。 半導体製造装置内の微動補正ステージや検査装置への組込み用途に適しています。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査装置の微細位置補正 ・マスク検査工程 ・レーザーアニール装置の焦点調整 ・プロービング装置の微動制御 ・半導体研究開発用途 【導入の効果】 ・ナノメートル分解能による高精度位置補正 ・バックラッシュレス構造による高再現性 ・コンパクト設計で装置組込みが容易 ・微細工程の安定化に貢献
ナノスケール位置制御を支える、100 µm × 3軸コンパクトXYZピエゾステージ
ナノテクノロジー分野では、試料やプローブの位置制御精度が実験結果の再現性を左右します。走査型プローブ顕微鏡（SPM）やナノリソグラフィー用途では、ナノメートル分解能での安定したXYZ制御が求められます。P-616 NanoCubeは、各軸100 µmのストロークを備えたコンパクトなXYZピエゾナノポジショナーです。高剛性フレクシャガイド構造によりバックラッシュのない滑らかな動作を実現し、ナノメートル分解能での高精度位置決めが可能です。 研究用途から装置組込みまで対応し、ナノスケール計測・加工・評価を支える位置制御プラットフォームとして活用されています。 【活用シーン】 ・走査型プローブ顕微鏡（SPM／AFM／STM） ・ナノリソグラフィー装置 ・ナノ材料評価 ・ナノデバイス研究開発 ・高精度試料位置決め 【導入の効果】 ・ナノメートル分解能による高精度位置制御 ・バックラッシュレス構造による高再現性 ・高剛性設計による安定したスキャン ・コンパクト設計で真空装置や研究装置への組込みが容易
顕微鏡の試料位置決めをナノ精度で実現するPIMars XYZナノステージ
電子顕微鏡（SEM / TEM）による高分解能観察では、試料の位置決め精度が画像品質を左右します。わずかな振動やクロストークが測定精度に影響を与えるため、高剛性かつ高応答なポジショニングステージが不可欠です。 P-561・P-562・P-563・PIMars Nanopositioning Stages は、静電容量式センサーにより高精度と位置決め安定性を実現。動作量は、XYZ 各100／200／300 µm（モデル別）で再現性は±2nm、リニアリティ：0.03％をもちます。 【活用シーン】 ・電子顕微鏡観察における試料の位置決め ・半導体検査 ・超解像顕微鏡 ・フォトニクス調整 【導入の効果】 ・ナノオーダーでの精密な位置決めにより、観察精度が向上 ・高分解能と高速応答により、効率的な観察が可能 ・高信頼性と長寿命により、安定した運用を実現
10 kHzの高速応答。高分解能2軸Tip/Tiltで光通信のビーム制御を高度化
光通信分野では、光ファイバー結合や自由空間光通信において、ビームの角度制御精度と応答速度が通信品質を左右します。わずかなズレや振動でも結合効率の低下やリンク不安定化につながるため、高速かつ高分解能な補正機構が不可欠です。 S-331は、最大10 kHzの高い共振周波数と±5 mradの動作角を備えた2軸Tip/Tiltピエゾステージです。優れたダイナミクス性能によりリアルタイムなビーム補正を実現し、光信号の安定化と高効率な結合をサポート。次世代光通信システムの高信頼化に貢献します。 【活用シーン】 ・光ファイバー高精度アライメント ・自由空間光通信（FSO） ・レーザービームステアリング ・光リンクの安定化制御 【導入の効果】 ・高速・高精度なビーム角度制御 ・結合効率の向上と損失低減 ・リアルタイム補正による通信安定化 ・システム全体の性能向上
共振周波数10 kHz。高速・高分解能を両立するフォトニクス向けTip/Tiltステージ
フォトニクス分野では、レーザービームの角度制御や位置安定性が、結合効率やシステム性能を大きく左右します。特に光ファイバー結合やビームステアリング、高速補正制御では、高い応答性と分解能、そして優れたダイナミクス特性が不可欠です。 S-331は、最大10 kHzの高い共振周波数を誇る高速Tip/Tiltピエゾステージです。高分解能かつ高速応答を両立し、リアルタイムでのビーム補正や精密な角度制御を実現。フォトニクスシステムにおける集光効率向上と安定動作に貢献します。 【活用シーン】 ・レーザービームステアリング ・光ファイバーへの高効率結合 ・高速ビーム補正制御 ・光学アライメント／安定化用途 【導入の効果】 ・高速かつ高精度なビーム角度制御 ・結合効率の向上と損失低減 ・リアルタイム補正による安定化 ・フォトニクス装置の性能最大化
ライブセル観察を支える高速・高分解能ピエゾZフォーカシングステージ
ライフサイエンスおよびバイオテクノロジー分野において、顕微鏡観察時の安定したフォーカシングは、取得データの再現性や解析精度に大きく影響します。特にライブセルイメージングや3D観察では、高速かつ高分解能なZ方向制御が求められます。 P-737 PIFOC Zステージは、対物レンズを直接駆動するピエゾフレクシャー機構を採用し、ナノメートル分解能での高速Z位置決めを実現します。型式により十分なストロークを確保でき、Zスタック取得や長時間観察にも対応可能です。コンパクト設計のため、既存の顕微鏡システムへの組込みも容易です。 【活用シーン】 ・ライブセルイメージング ・共焦点顕微鏡による3D観察 ・細胞培養・組織観察 【導入の効果】 ・高速Zスキャンによる測定時間の短縮 ・ナノメートル分解能による精密フォーカシング ・再現性の高いイメージング ・顕微鏡システムへの容易な統合
光学顕微鏡の高精度走査に。サブナノ分解能と高発生力を両立するPICMAWalkドライブ
光学顕微鏡における高倍率観察や広範囲走査では、ナノ～サブナノメートルレベルの位置決め精度と高い安定性が求められます。特に、長時間観察や高解像度イメージングでは、振動やドリフトの影響を最小限に抑える高剛性ステージが不可欠です。N-332は、PICMAWalkドライブにより、これらの課題を解決します。 高発生力・長ストローク・サブナノメートル分解能を高次元で両立したピエゾリニアステージです。顕微鏡観察時の安定性を向上させます。高精度な試料位置決めや自動走査を必要とする光学顕微鏡システムに最適です。 【活用シーン】 ・光学顕微鏡での高精度走査 ・高倍率観察における試料位置決め ・共焦点顕微鏡システム ・生体試料の精密アライメント 【導入の効果】 ・真空用途に対応 ・サブナノメートル分解能による高精度位置決め ・高発生力による安定した試料保持 ・長ストローク走査と高精度の両立 ・電源オフ時の自己ロック ・高い再現性と長期安定性
ナノテクノロジー分野に最適。高発生力とサブナノ精度を両立するリニアステージ。
ナノテクノロジー分野では、原子・分子レベルの操作や微細構造の加工において、サブナノメートルレベルの高精度位置決めが求められます。同時に、測定プローブやワークを安定して保持するための高い発生力と剛性も不可欠です。N-332 Linear Stage は、Piezowalk駆動方式により、高発生力・長ストローク・サブナノメートル分解能を高次元で両立したピエゾリニアステージです。従来のステージで課題となる熱影響や振動による誤差を最小限に抑え、安定した高精度位置決めを実現します。 ナノテクノロジー研究を始め、極限の精度が求められるアプリケーションに最適です。 【活用シーン】 ・走査型プローブ顕微鏡（SPM） ・ナノインプリント ・光学系の調整 【導入の効果】 ・ナノメーターレベルの高精度な位置決め ・安定した動作と高い信頼性 ・多様なアプリケーションへの対応 ・作業効率の向上
細胞観察における高精度位置決めを実現するリニアステージ
バイオテクノロジー分野、特に細胞観察においては、高精度な位置決めが不可欠です。細胞の微細な構造を観察するためには、ナノメートルレベルの正確な位置制御が求められます。従来のステージでは、振動やドリフトにより、正確な観察が妨げられることがありました。N-332ピエゾリニアステージは、PICMAWalkドライブにより、滑り摩擦の影響を受けない高精度な位置決めを実現し、細胞観察の質を向上させます。 【活用シーン】 ・細胞培養 ・顕微鏡観察 ・細胞操作 【導入の効果】 ・ナノメートル分解能による正確な位置決め ・セルフロッキング機構による安定性向上 ・多軸セットアップによる柔軟な対応
顕微鏡観察・自動イメージング向け 高精度XYステージ V-P01
顕微鏡観察や医療・ライフサイエンスにおいては、観察対象を高精度に位置決めし、安定した状態で画像データを取得することが重要です。微細な構造を観察するためには、位置決めの安定性と再現性が求められます。位置精度が低い場合、観察対象の焦点がずれ、正確な診断や研究に支障をきたす可能性があります。V-P01 高精度XYステージは、リニアモータダイレクトドライブにより、高精度な位置決めとスムーズな動作を実現。顕微鏡観察における試料位置決めや自動スキャンに対応し、高精度イメージングや自動解析の効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察における試料の精密位置決め ・細胞・組織サンプルの自動スキャン ・デジタル顕微鏡・自動イメージング装置 ・自動光学検査装置（AOI） 【導入の効果】 ・高精度位置決めにより観察精度を向上 ・高速スキャンにより観察・検査時間を短縮 ・安定した動作により再現性の高いデータ取得が可能 ※詳細はカタログをご覧ください。
校正作業の効率化と精度向上に貢献するXYステージ
計測機器業界における校正作業では、高精度な位置決めが不可欠です。測定器の正確な校正には、微小な動きを正確に制御できるステージが求められます。位置精度の低いステージでは、校正結果に誤差が生じ、製品の品質に影響を与える可能性があります。V-P01は、リニアモータ駆動により、±1µmの位置精度と0.1µmの最小インクリメンタルモーションを実現し、校正作業の精度向上に貢献します。 【活用シーン】 ・精密測定器の校正 ・センサのキャリブレーション ・検査装置の位置決め 【導入の効果】 ・校正作業の効率化 ・校正精度の向上 ・製品品質の安定化
レーザー加工の切断工程に。高精度位置決めと高速移動を実現
レーザー加工業界では、精密な切断が求められます。特に、材料の無駄を減らし、高品質な製品を効率的に製造するためには、レーザーヘッドの位置決め精度と移動速度が重要です。位置精度の低いステージでは、切断面の品質が低下し、歩留まりが悪化する可能性があります。また、移動速度が遅いと、生産性が低下し、コスト増につながります。V-P01は、リニアモータ駆動により、高精度な位置決めと高速移動を実現し、レーザー加工における切断工程の課題を解決します。 【活用シーン】 ・レーザーカッター ・レーザーマーキング ・レーザー彫刻 【導入の効果】 ・高精度な切断による製品品質の向上 ・高速移動による生産性の向上 ・材料の無駄を削減し、コスト削減に貢献
