ステージのメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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ステージ - メーカー・企業135社の業務用製品ランキング | イプロスものづくり

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ステージのメーカー・企業ランキング

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  1. ピーアイ・ジャパン株式会社 神奈川県/電子部品・半導体
  2. 神津精機株式会社 神奈川県/光学機器
  3. 駿河精機株式会社 静岡県/産業用機械
  4. 4 株式会社ミラック光学 東京都/試験・分析・測定
  5. 4 シグマ光機株式会社 東京都/試験・分析・測定

ステージの製品ランキング

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  1. 小型設計・高分解能・高速動作 1軸リニアステージ L-836 ピーアイ・ジャパン株式会社
  2. 工作機械全般の位置決め精度検査 高橋レーザー計測
  3. *ロータリーポンプDUOシリーズ / 2 段式ステージ 伯東株式会社 本社
  4. 4 超高精度6軸アライメントステージ「RSTZシリーズ」 神津精機株式会社
  5. 5 高精度Z軸ボイスコイルモーターステージ V-Z03|精密高剛駆動 ピーアイ・ジャパン株式会社

ステージの製品一覧

691~720 件を表示 / 全 734 件

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【光学アライメント向け】クリーンルーム環境での使用可 A-121

非接触・無摩耗で長寿命、ナノメートル単位の滑らかな動作を実現

光学業界のアライメント工程では、レンズやミラーなどの光学部品を超精密に位置決めすることが求められます。特に、光軸のずれは、システムの性能を大きく左右するため、高精度な位置決めが不可欠です。従来の摩擦を利用したステージでは、微小な動きの際に摩擦の影響を受け、正確な位置決めが困難でした。PIglide A-121は、摩擦やバックラッシュを排除し、ナノメートル単位の精度で位置決めを実現することで、光学アライメントの課題を解決します。 【活用シーン】 ・光学レンズのアライメント ・ファイバーアライメント ・光ファイバーデバイスの製造 【導入の効果】 ・高精度なアライメントによる光学性能の向上 ・歩留まりの向上 ・生産性の向上

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【FPD製造向け】小型リニアエアベアリングステージ A-143

摩擦ゼロ、高精度位置決め。FPD検査工程の品質向上に貢献。

FPD製造業界の検査工程では、高精度な位置決めが求められます。特に、微細な欠陥の検出や寸法測定においては、正確な位置決めが不良品の発生を抑制し、歩留まり向上に不可欠です。位置精度の低いステージを使用した場合、検査結果の信頼性が損なわれ、正確な評価が困難になる可能性があります。A-143 PIglideは、±0.2 µmの高精度位置決めにより、FPD検査の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・FPDの欠陥検査 ・寸法測定 ・位置合わせ 【導入の効果】 ・検査精度向上 ・不良品率の低減 ・生産性の向上

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【光学調整向け】エアベアリング回転ステージ A-62x

ナノレベルの精度で光学系の調整をサポート

光学業界では、レンズやミラーなどの光学素子の精密な位置調整が、システムの性能を左右する重要な要素です。特に、高精度な光学検査やアライメントにおいては、微小な角度や位置のずれが、測定結果に大きな影響を与える可能性があります。エアベアリング回転ステージ PIglideA-62x高精度モデルは、摩擦のない非接触回転により、ウォブルや偏心を極限まで抑制し、平面度・偏心率200nm以下を実現します。これにより、光学素子の精密な位置調整を可能にし、高精度な光学検査やアライメントをサポートします。 【活用シーン】 ・光学レンズやミラーの角度調整 ・光学素子の精密アライメント ・光学検査システムの構築 【導入の効果】 ・ナノメートル単位の精密な位置決めが可能 ・高精度な光学測定を実現 ・システムの性能向上に貢献

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【計測・検査向け】エアベアリング回転ステージ A-62x

摩擦ゼロの回転精度で、校正作業の精度向上に貢献

計測機器業界の校正作業では、測定結果の正確性と再現性が重要です。特に回転角度の校正では、ステージの回転精度や安定性が測定結果に直結します。エアベアリング回転ステージ PIglide A-62x は、摩擦のない非接触回転により、低ワブルで滑らかな回転動作を実現し、高精度な角度校正を支えます。 【活用シーン】 ・角度測定器の校正 ・回転角度センサーの校正 ・光学系の調整 【導入の効果】 ・高精度な校正作業の実現 ・測定結果の信頼性向上 ・作業効率の向上

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【ナノテクノロジー向け】ナノポジショニングステージ P-752

最大35 µmストローク、最小0.1 nm分解能のナノポジショニング

ナノテクノロジー分野における構造作製や評価では、ナノメートルレベルの位置決め分解能と高い再現性が求められます。P-752は、最大35 µmのストロークと最小0.1 nmの分解能(適切なコントローラ使用時)を備えたリニア・ピエゾフレクシャステージです。フレクシャガイド構造により、摩擦やバックラッシュのない滑らかな動作と高い真直度を実現します。ナノスケールでの位置決め制御が求められる研究開発用途において、安定した微小変位制御を提供します。 【活用シーン】 ・ナノ構造作製における微小位置決め ・走査型プローブ顕微鏡(SPM)のサンプル/プローブ位置制御 ・微細加工プロセスにおける精密アライメント ・ナノ材料評価・表面解析 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルの位置決め分解能 ・バックラッシュのない高再現性動作 ・微小変位制御の安定化

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【半導体向け】PIHera高精度Z軸ステージ 0.1 nm分解能

サブナノメートルの分解能を提供。0.1nm分解能・高リニアリティ垂直ポジショニング

半導体業界では、高精度な位置決めが求められます。特に、ウェーハ検査や微細構造の計測においては、サブナノレベルの安定性と高速な制御が不可欠です。位置決めの誤差は、計測結果の信頼性を損ない、歩留まりの低下につながる可能性があります。本製品は、0.1 nmの分解能と0.02 %の直線性により、半導体計測における高精度な位置決めを実現します。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査 ・微細構造計測 ・干渉計 ・共焦点顕微鏡 【導入の効果】 ・計測精度の大幅な向上 ・歩留まりの改善 ・高速かつ高精度な位置決め ・サブナノレベルの安定性 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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【ナノポジショニング向け】高精度Zステージ 0.1nm分解能

0.1nm分解能と0.02%リニアリティ。サブナノZ軸制御で製造・計測精度を向上

ナノテクノロジー製造業界では、微細加工や精密測定において、サブナノレベルの位置決め精度が不可欠です。特に、半導体製造やMEMSデバイスの製造プロセスでは、わずかな位置ずれが製品の品質に大きな影響を与える可能性があります。P-620.Z~P-622.Zは、摩擦のないフレクシャガイドシステムとPICMAピエゾアクチュエータの組み合わせにより、高い信頼性と長寿命を実現し、製造プロセスの安定化に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体製造におけるウェーハ検査 ・MEMSデバイス製造における微細加工 ・干渉計、共焦点顕微鏡などの精密測定 【導入の効果】 ・製造プロセスの歩留まり向上 ・製品の品質向上 ・測定精度の向上 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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【光学調整向け】Zチップチルト開口部付ピエゾステージ P-5x8

ナノレベルの調整を実現する、開口部付きピエゾステージ

光学系の調整において、光軸のわずかなズレは分解能や測定精度に大きく影響します。特に干渉計や高分解能顕微鏡、精密アライメント用途では、ナノレベルでのZ制御とチップ・チルト調整が不可欠です。 P-518/P-528シリーズは、Z軸100µm/200µmストロークとチップチルト1mrad/2mradの高精度制御を実現。66mmの大開口設計により、透過光アプリケーションにも最適です。高剛性フレクシャガイド構造により安定した再現性を確保し、光学調整作業の精度向上と効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・顕微鏡の対物レンズ・サンプル調整 ・光ファイバーアライメント ・干渉計・波面計測システム ・半導体検査装置 【導入の効果】 ・ナノレベルのZ・角度調整 ・透過光光学系への柔軟な対応 ・安定した光軸維持による測定精度向上 ・調整時間短縮による作業効率改善

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【半導体製造向け】XYZ軸ピエゾステージ P-616

半導体装置の微細位置補正に。100 µm × 3軸ナノポジショナー

半導体プロセスや検査装置では、サブミクロンレベルでの位置補正や焦点調整が品質安定化の鍵となります。特に検査工程や微細加工工程では、ナノメートル分解能での高精度位置制御が求められます。P-616 NanoCubeは、各軸100 µmのストロークを備えたコンパクトなXYZピエゾナノポジショナーです。高剛性フレクシャガイド構造によりバックラッシュのない滑らかな動作を実現し、ナノメートル分解能での微細位置調整が可能です。 半導体製造装置内の微動補正ステージや検査装置への組込み用途に適しています。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査装置の微細位置補正 ・マスク検査工程 ・レーザーアニール装置の焦点調整 ・プロービング装置の微動制御 ・半導体研究開発用途 【導入の効果】 ・ナノメートル分解能による高精度位置補正 ・バックラッシュレス構造による高再現性 ・コンパクト設計で装置組込みが容易 ・微細工程の安定化に貢献

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【ナノテクノロジー向け】XYZ軸ピエゾステージ P-616

ナノスケール位置制御を支える、100 µm × 3軸コンパクトXYZピエゾステージ

ナノテクノロジー分野では、試料やプローブの位置制御精度が実験結果の再現性を左右します。走査型プローブ顕微鏡(SPM)やナノリソグラフィー用途では、ナノメートル分解能での安定したXYZ制御が求められます。P-616 NanoCubeは、各軸100 µmのストロークを備えたコンパクトなXYZピエゾナノポジショナーです。高剛性フレクシャガイド構造によりバックラッシュのない滑らかな動作を実現し、ナノメートル分解能での高精度位置決めが可能です。 研究用途から装置組込みまで対応し、ナノスケール計測・加工・評価を支える位置制御プラットフォームとして活用されています。 【活用シーン】 ・走査型プローブ顕微鏡(SPM/AFM/STM) ・ナノリソグラフィー装置 ・ナノ材料評価 ・ナノデバイス研究開発 ・高精度試料位置決め 【導入の効果】 ・ナノメートル分解能による高精度位置制御 ・バックラッシュレス構造による高再現性 ・高剛性設計による安定したスキャン ・コンパクト設計で真空装置や研究装置への組込みが容易

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【顕微鏡向け】PIMars XYZ軸開口部付ピエゾステージ

顕微鏡の試料位置決めをナノ精度で実現するPIMars XYZナノステージ

電子顕微鏡(SEM / TEM)による高分解能観察では、試料の位置決め精度が画像品質を左右します。わずかな振動やクロストークが測定精度に影響を与えるため、高剛性かつ高応答なポジショニングステージが不可欠です。 P-561・P-562・P-563・PIMars Nanopositioning Stages は、静電容量式センサーにより高精度と位置決め安定性を実現。動作量は、XYZ 各100/200/300 µm(モデル別)で再現性は±2nm、リニアリティ:0.03%をもちます。 【活用シーン】 ・電子顕微鏡観察における試料の位置決め ・半導体検査 ・超解像顕微鏡 ・フォトニクス調整 【導入の効果】 ・ナノオーダーでの精密な位置決めにより、観察精度が向上 ・高分解能と高速応答により、効率的な観察が可能 ・高信頼性と長寿命により、安定した運用を実現

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【光通信向け】高速チップ/チルトピエゾステージ S-331

10 kHzの高速応答。高分解能2軸Tip/Tiltで光通信のビーム制御を高度化

光通信分野では、光ファイバー結合や自由空間光通信において、ビームの角度制御精度と応答速度が通信品質を左右します。わずかなズレや振動でも結合効率の低下やリンク不安定化につながるため、高速かつ高分解能な補正機構が不可欠です。 S-331は、最大10 kHzの高い共振周波数と±5 mradの動作角を備えた2軸Tip/Tiltピエゾステージです。優れたダイナミクス性能によりリアルタイムなビーム補正を実現し、光信号の安定化と高効率な結合をサポート。次世代光通信システムの高信頼化に貢献します。 【活用シーン】 ・光ファイバー高精度アライメント ・自由空間光通信(FSO) ・レーザービームステアリング ・光リンクの安定化制御 【導入の効果】 ・高速・高精度なビーム角度制御 ・結合効率の向上と損失低減 ・リアルタイム補正による通信安定化 ・システム全体の性能向上

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【フォトニクス向け】高速チップ/チルトピエゾステージS-331

共振周波数10 kHz。高速・高分解能を両立するフォトニクス向けTip/Tiltステージ

フォトニクス分野では、レーザービームの角度制御や位置安定性が、結合効率やシステム性能を大きく左右します。特に光ファイバー結合やビームステアリング、高速補正制御では、高い応答性と分解能、そして優れたダイナミクス特性が不可欠です。 S-331は、最大10 kHzの高い共振周波数を誇る高速Tip/Tiltピエゾステージです。高分解能かつ高速応答を両立し、リアルタイムでのビーム補正や精密な角度制御を実現。フォトニクスシステムにおける集光効率向上と安定動作に貢献します。 【活用シーン】 ・レーザービームステアリング ・光ファイバーへの高効率結合 ・高速ビーム補正制御 ・光学アライメント/安定化用途 【導入の効果】 ・高速かつ高精度なビーム角度制御 ・結合効率の向上と損失低減 ・リアルタイム補正による安定化 ・フォトニクス装置の性能最大化

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【バイオテクノロジー向け】P-737 PIFOC Zステージ

ライブセル観察を支える高速・高分解能ピエゾZフォーカシングステージ

ライフサイエンスおよびバイオテクノロジー分野において、顕微鏡観察時の安定したフォーカシングは、取得データの再現性や解析精度に大きく影響します。特にライブセルイメージングや3D観察では、高速かつ高分解能なZ方向制御が求められます。 P-737 PIFOC Zステージは、対物レンズを直接駆動するピエゾフレクシャー機構を採用し、ナノメートル分解能での高速Z位置決めを実現します。型式により十分なストロークを確保でき、Zスタック取得や長時間観察にも対応可能です。コンパクト設計のため、既存の顕微鏡システムへの組込みも容易です。 【活用シーン】 ・ライブセルイメージング ・共焦点顕微鏡による3D観察 ・細胞培養・組織観察 【導入の効果】 ・高速Zスキャンによる測定時間の短縮 ・ナノメートル分解能による精密フォーカシング ・再現性の高いイメージング ・顕微鏡システムへの容易な統合

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【光学顕微鏡向け】高発生力&高精度ピエゾリニアステージ

光学顕微鏡の高精度走査に。サブナノ分解能と高発生力を両立するPICMAWalkドライブ

光学顕微鏡における高倍率観察や広範囲走査では、ナノ~サブナノメートルレベルの位置決め精度と高い安定性が求められます。特に、長時間観察や高解像度イメージングでは、振動やドリフトの影響を最小限に抑える高剛性ステージが不可欠です。N-332は、PICMAWalkドライブにより、これらの課題を解決します。 高発生力・長ストローク・サブナノメートル分解能を高次元で両立したピエゾリニアステージです。顕微鏡観察時の安定性を向上させます。高精度な試料位置決めや自動走査を必要とする光学顕微鏡システムに最適です。 【活用シーン】 ・光学顕微鏡での高精度走査 ・高倍率観察における試料位置決め ・共焦点顕微鏡システム ・生体試料の精密アライメント 【導入の効果】 ・真空用途に対応 ・サブナノメートル分解能による高精度位置決め ・高発生力による安定した試料保持 ・長ストローク走査と高精度の両立 ・電源オフ時の自己ロック ・高い再現性と長期安定性

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【ナノテクノロジー向け】高発生力&高精度ピエゾリニアステージ

ナノテクノロジー分野に最適。高発生力とサブナノ精度を両立するリニアステージ。

ナノテクノロジー分野では、原子・分子レベルの操作や微細構造の加工において、サブナノメートルレベルの高精度位置決めが求められます。同時に、測定プローブやワークを安定して保持するための高い発生力と剛性も不可欠です。N-332 Linear Stage は、Piezowalk駆動方式により、高発生力・長ストローク・サブナノメートル分解能を高次元で両立したピエゾリニアステージです。従来のステージで課題となる熱影響や振動による誤差を最小限に抑え、安定した高精度位置決めを実現します。 ナノテクノロジー研究を始め、極限の精度が求められるアプリケーションに最適です。 【活用シーン】 ・走査型プローブ顕微鏡(SPM) ・ナノインプリント ・光学系の調整 【導入の効果】 ・ナノメーターレベルの高精度な位置決め ・安定した動作と高い信頼性 ・多様なアプリケーションへの対応 ・作業効率の向上

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【ライフサイエンス向け】N-332 ピエゾリニアステージ

細胞観察における高精度位置決めを実現するリニアステージ

バイオテクノロジー分野、特に細胞観察においては、高精度な位置決めが不可欠です。細胞の微細な構造を観察するためには、ナノメートルレベルの正確な位置制御が求められます。従来のステージでは、振動やドリフトにより、正確な観察が妨げられることがありました。N-332ピエゾリニアステージは、PICMAWalkドライブにより、滑り摩擦の影響を受けない高精度な位置決めを実現し、細胞観察の質を向上させます。 【活用シーン】 ・細胞培養 ・顕微鏡観察 ・細胞操作 【導入の効果】 ・ナノメートル分解能による正確な位置決め ・セルフロッキング機構による安定性向上 ・多軸セットアップによる柔軟な対応

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【顕微鏡向け】高精度XY軸リニアモーターステージV-P01

顕微鏡観察・自動イメージング向け 高精度XYステージ V-P01

顕微鏡観察や医療・ライフサイエンスにおいては、観察対象を高精度に位置決めし、安定した状態で画像データを取得することが重要です。微細な構造を観察するためには、位置決めの安定性と再現性が求められます。位置精度が低い場合、観察対象の焦点がずれ、正確な診断や研究に支障をきたす可能性があります。V-P01 高精度XYステージは、リニアモータダイレクトドライブにより、高精度な位置決めとスムーズな動作を実現。顕微鏡観察における試料位置決めや自動スキャンに対応し、高精度イメージングや自動解析の効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察における試料の精密位置決め ・細胞・組織サンプルの自動スキャン ・デジタル顕微鏡・自動イメージング装置 ・自動光学検査装置(AOI) 【導入の効果】 ・高精度位置決めにより観察精度を向上 ・高速スキャンにより観察・検査時間を短縮 ・安定した動作により再現性の高いデータ取得が可能 ※詳細はカタログをご覧ください。

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【計測機器向け】高精度XYステージ V-P01

校正作業の効率化と精度向上に貢献するXYステージ

計測機器業界における校正作業では、高精度な位置決めが不可欠です。測定器の正確な校正には、微小な動きを正確に制御できるステージが求められます。位置精度の低いステージでは、校正結果に誤差が生じ、製品の品質に影響を与える可能性があります。V-P01は、リニアモータ駆動により、±1µmの位置精度と0.1µmの最小インクリメンタルモーションを実現し、校正作業の精度向上に貢献します。 【活用シーン】 ・精密測定器の校正 ・センサのキャリブレーション ・検査装置の位置決め 【導入の効果】 ・校正作業の効率化 ・校正精度の向上 ・製品品質の安定化

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【レーザー加工向け】滑らか動作の高精度XYステージ V-P01

レーザー加工の切断工程に。高精度位置決めと高速移動を実現

レーザー加工業界では、精密な切断が求められます。特に、材料の無駄を減らし、高品質な製品を効率的に製造するためには、レーザーヘッドの位置決め精度と移動速度が重要です。位置精度の低いステージでは、切断面の品質が低下し、歩留まりが悪化する可能性があります。また、移動速度が遅いと、生産性が低下し、コスト増につながります。V-P01は、リニアモータ駆動により、高精度な位置決めと高速移動を実現し、レーザー加工における切断工程の課題を解決します。 【活用シーン】 ・レーザーカッター ・レーザーマーキング ・レーザー彫刻 【導入の効果】 ・高精度な切断による製品品質の向上 ・高速移動による生産性の向上 ・材料の無駄を削減し、コスト削減に貢献

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【半導体製造向け】ウェハ加工および検査に 高負荷リニアステージ

リニアモータ×エンコーダで高荷重600N(最大)でも滑らか&高速応答

半導体製造業界では、ウェーハやマスクの位置決めにおいて、高い精度と安定性が求められます。特に、微細加工や検査工程においては、位置決めのわずかなズレが製品の品質に大きく影響します。V-817は、高精度な位置決めと長期安定性を提供し、歩留まり向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ加工 ・精密検査 ・レーザー加工 【導入の効果】 ・2 µmレベルの位置決め再現性 ・非接触駆動による発塵抑制 ・長期安定性の実現

  • csm_V-817.xx6211E0_KUZ.png_Bilder-Web_866a178349.jpg
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【電子部品実装向け】最大800mmリニアステージ V-855

高速・高精度搬送を実現する最大800mmストロークのリニアモーターステージ

電子部品実装分野では、生産性の向上と品質の安定化が重要です。特に実装ラインにおける部品搬送では、高速動作と高精度な位置決めの両立が求められます。搬送速度の制限や振動による位置ズレは、実装精度や生産効率に影響を与える要因となります。 V-855は、リニアモータによるダイレクトドライブを採用した高速リニアステージです。最大4,000 mm/s(4 m/s)の高速動作と高精度リニアエンコーダにより、高速搬送と高精度位置決めを同時に実現します。さらに最大800 mmの長ストロークと高荷重(最大600 N)**に対応しており、電子部品実装装置や検査装置などの高速搬送用途に適しています。 【活用シーン】 ・高速実装ライン ・部品のピック&プレース ・検査装置 【導入の効果】 ・生産性の向上 ・品質の安定化 ・不良率の低減

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【計測向け】最大800mmストローク リニアステージ V-855

0.1 µm分解能と最高4 m/sの高速動作で高精度測定を実現

計測分野では、高精度な位置決めと安定した動作が求められます。特に精密部品の検査や非接触測定、微細加工プロセスにおける位置決めでは、高分解能と高速動作を両立したステージが重要です。 V-855は、リニアモータによるダイレクトドライブと高精度リニアエンコーダを備えた高速リニアステージです。0.1 µmの最小インクリメンタルモーションと最大速度4,000 mm/s(4 m/s)により、高速かつ高精度な測定位置決めを実現します。さらに最大800 mmの長ストロークと高荷重(最大600 N)に対応しており、大型ワークや高速スキャン測定を伴う計測装置にも適しています。 【活用シーン】 ・精密部品の測定 ・半導体製造における検査 ・非接触測定システム ・研究開発装置の位置決め 【導入の効果】 ・高分解能位置決めによる測定精度の向上 ・高速動作による測定時間の短縮 ・長ストロークによる大型ワーク測定への対応

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【光学向け】大偏向角チップチルトピエゾステージ S-330

高速ステアリングミラー用途に最適な高ダイナミクスチップチルトステージ

光学システムでは、光ビームの微細な角度調整や光軸制御が性能を左右する重要な要素です。特に、レーザー加工や光通信、ビーム制御などの分野では、高速かつ高精度な角度制御が求められます。 S-330 ピエゾチップ/チルトプラットフォームは、ピエゾアクチュエータによる高速応答と高分解能を実現したTip/Tiltステージです。サブミリ秒の応答と優れた位置安定性により、高速ステアリングミラー用途や精密な光学アライメントに最適です。 【活用シーン】 ・レーザービームの精密な角度制御 ・光ファイバーアライメント ・光学顕微鏡の光軸調整 ・ビームステアリング/ビーム安定化 【導入の効果】 ・高速応答による調整時間の短縮 ・高分解能による光学システムの高精度化 ・ダイナミック制御による装置性能の向上

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【半導体向け】ウェーハ検査・計測用エアベアリング回転ステージ

薄型・高精度。半導体製造の位置決めを高精度化

半導体製造では、ウェーハやフォトマスクの高精度な位置決めが、製品品質や歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細加工や検査工程では、高い位置決め精度と安定した動作が求められます。 A-68x エアベアリング回転ステージは、エア浮上ガイドを採用した高精度回転ステージです。従来のメカニカルガイドのような摩擦や部品精度の影響を受けにくく、スティックスリップや摩擦熱を抑制。高速かつ高精度な回転位置決めを実現します。これにより、半導体製造工程における検査・計測やアライメントの精度向上に貢献し、生産性向上と高品質なデバイス製造を支えます。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査・計測 ・ウェーハの精密位置決め ・フォトマスクアライメント ・半導体検査装置 【導入の効果】 ・高精度位置決めによる歩留まり向上 ・高速駆動による生産性向上 ・摩擦熱の抑制による安定したプロセス ・非接触構造による長寿命・低メンテナンス

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【光学向け】大開口・エアベアリング回転ステージ A-68x

薄型・高精度、光学系の調整に最適なエアベアリング回転ステージ

光学システムの調整では、光軸の精密な位置決めや角度調整が重要な要素となります。レンズやミラーなどの光学素子は、わずかな位置や角度のずれでも、システム全体の性能に大きな影響を与える可能性があります。 A-68x エアベアリング回転ステージは、エア浮上ガイドを採用した高精度回転ステージです。従来のメカニカルガイドのような摩擦の影響を受けにくく、スティックスリップや摩擦熱を抑制。滑らかで安定した回転動作により、高精度な角度位置決めを実現します。 これにより、光学系のアライメント作業の効率化と、光学システムの性能向上に貢献します。 【活用シーン】 ・レンズやミラーの角度調整 ・光学素子の位置合わせ ・光ファイバーのアライメント ・光学測定・検査装置 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる光学性能の向上 ・滑らかな回転動作による調整作業の効率化 ・非接触構造による長期的な安定性 ・低摩耗・低メンテナンス設計

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【光学調整向け】真空環境対応有り・小型リニアステージ M-11x

サイズ60mm四方、XYZ軸対応のコンパクトリニアステージ

光学業界における調整作業では、精密な位置決めが求められます。特に、レンズやミラーの位置調整は、光学系の性能を左右する重要な要素です。微小なズレが、画像品質の低下や測定精度の悪化につながる可能性があります。リニアステージ M-11x型は、小型ながらも高精度な位置決めを実現し、光学系の調整作業を効率化します。 【活用シーン】 ・レンズやミラーの位置調整 ・ファイバーアライメント ・光学部品の精密位置決め 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる光学性能の向上 ・作業時間の短縮 ・調整作業の効率化

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【研究開発向け】自動化技術分野に適したリニアステージ V-408

アイロンコア3相リニアモータ搭載、高精度位置決めを実現するリニアステージ

研究開発分野における実験では、精密な位置決めが実験結果の正確性を左右します。特に、微細な動きを制御する必要がある場合、位置決めの精度と安定性が重要になります。精度の低い位置決めは、実験データの信頼性を損ない、研究の遅延につながる可能性があります。PIMag リニアステージ『V-408』は、高精度な位置決め性能を提供し、研究開発における実験の効率化と精度の向上に貢献します。 【活用シーン】 産業および研究分野。 高い動特性と精度が求められるオートメーション技術分野。 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによるデータの信頼性向上 ・コンパクト設計による省スペース化 ・高耐荷重対応のクロスローラーガイドで摩擦を減少 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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【顕微鏡向け】高精度位置計測を実現する小型リニアステージ

マイクロマニピュレーションに適した小型リニアステージ

顕微分野では、試料の精密な位置決めが、観察の精度を左右する重要な要素です。特に、微小な対象をナノメートルレベルでの正確な位置制御が求められます。位置決めのわずかなズレが、観察像の劣化や、正確なデータ取得の妨げになる可能性があります。U-521は、小型ながら高精度な位置決めを実現します。 【活用シーン】 ・微小対象の正確な位置決め 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる観察精度の向上 ・機械的摩擦が少ない ・熱影響が少ない 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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【顕微鏡向け】U-723 XY軸小型リニアステージ

顕微鏡のサンプル位置決めに。高精度、省スペース、セルフロック。

顕微鏡の分野では、サンプルの精密な位置決めが不可欠です。特に、微小な対象を観察する際には、わずかな振動や位置ずれが、観察結果に大きな影響を与える可能性があります。U-723は、高精度な位置決め性能と、電源OFF時のセルフロック機構により、顕微鏡におけるサンプルの安定した位置合わせに貢献します。 【活用シーン】 ・顕微鏡のサンプル位置決めステージ 【導入の効果】 ・高精度な試料位置決めによる、観察精度の向上 ・ピエゾモーターの駆動原理および電気的制御は低コストで、カスタマイズも可能 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。

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