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MOCVD向けに環境に優しくコストパフォーマンスに優れた画期的な商品が登場しました！
小型ペルチェチラーと専用熱交換パッドがセットになったThermo Wrap Kit（サーモラップキット）は、従来型コンプレッサー方式の開放バスを使わずにバブラーを±0.1℃の精度で温度制御します。 【特徴】 ・バブラーを±0.1℃で精密に温度制御します ・冷却・加熱・常温付近での制御が可能です ・密閉循環ですので冷却液の蒸発も無く⾼額なフッ素系冷媒も使⽤しません ・バブラーにラップを巻きつけるだけですので使い方は至って簡単です ・ペルチェチラーを使⽤するので従来のバスタイプに⽐べて消費電⼒を80%削減できます ・改正フロン法(2015)に該当するフロン類は⼀切使⽤していません
半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音・振動も防止！
『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85％の能力を維持したまま稼働します。 【特長】 ■消費電力を最大93％削減 ■冷却水使用量を最大60％削減 ■駆動部は、ポンプと冷却ファンだけのシンプル設計 ■騒音・振動を低減 ■19インチラックに収まるサイズで省スペース
超小型！静かな動作音！正確な温度コントロール！ペルチェ冷却チラ-
超小型、静かな動作音。最も信頼できる電子温調モジュールにより、正確な温度コントロールを提供致します。循環水の温度変化に素早く応答して室温付近の温度制御さえも±0.1℃の温度安定性を維持します。 この手のひらサイズのチラーは装置の内部・上部に容易に設置できます。また、標準装備のRS232Cインターフェィスにより簡単に外部制御をおこなうことができます。
半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音・振動も防止！
『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85％の能力を維持したまま稼働します。 【特長】 ■消費電力を最大93％削減 ■冷却水使用量を最大60％削減 ■駆動部は、ポンプと冷却ファンだけのシンプル設計 ■騒音・振動を低減 ■19インチラックに収まるサイズで省スペース
レーザーの温度制御に最適！
ThermoRack800は、高い信頼性がありレーザーアプリケーションに 最適です。 冷却能力700～900WのThermoRack800は室温付近でさえも±0.05℃の温度精度を維持します。駆動部はわずか２か所なのでささやきのような静粛性・無振動を実現して、先進的光学・レーザーのアプリケーションにて要求される温度コントロールに対応できます。コアとなる電子温調モジュールは200,000時間を越える寿命です。 【特長】 ■素早い温度応答性と高い温度安定性 ■6Uスタンダード 19インチラックに収まるサイズで省スペース ■温度安定性：±0.05℃（無負荷または負荷一定時） ■フロン系冷媒不使用 ■消費電力を大幅削減 ■騒音・振動を低減
超小型！低振動・低騒音・高い温度安定性。小型レーザー装置の温度制御に最適なペルチェ温調チラ-
超小型、静かな動作音。最も信頼できる電子温調モジュールにより、正確な温度コントロールを提供致します。循環水の温度変化に素早く応答して室温付近の温度制御さえも±0.1℃の温度安定性を維持します。 この手のひらサイズのチラーは装置の内部・上部に容易に設置できます。また、標準装備のRS232Cインターフェィスにより簡単に外部制御をおこなうことができます。 【特徴】 ■CCD カメラ ■ダイオードレーザー ■医療機器 ■研究機器 ■マイクロプレート温度制御
フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大60％削減！騒音・振動も防止！
『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー です。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応！ 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85％の能力を維持したまま稼働します。 【特長】 ■消費電力を最大60％削減 ■駆動部は、ポンプと冷却ファンだけのシンプル設計 ■騒音・振動を低減
コンパクト！低騒音・低振動・正確な温度コントロール！環コストパフォーマンスに優れたペルチェ冷却チラ-
冷却能力最大290WのTCubeEdgeはすぐれた温度信頼性であなたの機器のパフォーマンスを最適化して高い採算性をもたらします。TCubeEdgeは循環水の温度変化に素早く応答して0℃～65℃の温度コントロールにおいて室温付近でさえも±0.05℃の再現性を実現します。スムーズなフローを実現するCentrifugalポンプは動作時の振動がなく、レーザー、光学、分析装置の様々なアプリケーションにて要求される温度コントロールに対応できます。 200,000時間を越える寿命の電子温調モジュールを内部しているTCubeEdgeはコンプレッサーを用いず稼働部品もほとんどないため騒音・振動が極めて少ないです。フロンを用いないので環境に優しい製品です。
超小型！静かな動作音！正確な温度コントロール！フロンガス不使用！ペルチェ冷却チラ-
超小型、静かな動作音。最も信頼できる電子温調モジュールにより、正確な温度コントロールを提供致します。循環水の温度変化に素早く応答して室温付近の温度制御さえも±0.1℃の温度安定性を維持します。 この手のひらサイズのチラーは装置の内部・上部に容易に設置できます。また、標準装備のRS232Cインターフェィスにより簡単に外部制御をおこなうことができます。フロンガス不使用で環境に優しいチラーです。
コンパクト！正確な温度コントロール！フロン不使用！ペルチェ冷却チラ-
冷却能力最大290WのTCubeEdgeはすぐれた温度信頼性であなたの機器のパフォーマンスを最適化して高い採算性をもたらします。TCubeEdgeは循環水の温度変化に素早く応答して0℃～65℃の温度コントロールにおいて室温付近でさえも±0.05℃の再現性を実現します。スムーズなフローを実現するCentrifugalポンプは動作時の振動がなく、レーザー、光学、分析装置の様々なアプリケーションにて要求される温度コントロールに対応できます。 200,000時間を越える寿命の電子温調モジュールを内部しているTCubeEdgeはコンプレッサーを用いず稼働部品もほとんどないため騒音・振動が極めて少ないです。フロンを用いないので環境に優しい製品です。
コンパクト！消費電力大幅削減！低騒音・低振動！フロンガス不使用！ペルチェ冷却チラー
冷却能力200W,300W,400W,600WのThermoCubeはささやきのような静粛性・低振動で、室温付近でさえも±0.05℃温度制度を維持します。 コアとなる電子温調モジュールは20万時間を越える寿命をもち、世界中の電源に対応のユニバーサル電源を搭載しています。オプションを多数用意しており、様々なカスタマイズが容易なデザインとなっています。フロンガス不使用で環境にやさしいチラーです。 ＊オプションに関してはお問合せ下さい
フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大60％削減！騒音・振動も防止！
『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー です。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応！ 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85％の能力を維持したまま稼働します。 【特長】 ■消費電力を最大60％削減 ■駆動部は、ポンプと冷却ファンだけのシンプル設計 ■騒音・振動を低減
バイオプロセッシングにおけるシングルユースに最適なチラーです。
近年、バイオプロセッシングにおけるリスクの低減と業務の効率化を図るためにシングルユース技術の導入が急速に進んでいます。バイオ医薬品の製造において，従来のステンレス製培養槽に代わりプラスチック製の培養バッグが用いられるます。この新技術を活用することにより，定置洗浄・滅菌作業の省略，多品目製造への迅速な対応，高薬理活性医薬品製造におけるコンタミネーションの防止等，バイオ医薬品製造の効率化等が期待されます。
半導体製造装置向けに設計されたチラーです。
半導体製造プロセスで使用される多くの装置には発生する熱を除去、 一定温度を保つために冷却装置（チラー）が必要とされます。 ThermoFisherScientific社半導体製造用チラーは ・高い生産性 ・長期にわたる信頼性 ・操作ミスを誘発しない簡易な操作性 が提供出来るようデザインされており、各社装置メーカー仕様に 設計されたOEMモデルです。
昨今入手困難で貴重なフッ素系溶媒の使用量を抑えることができるチラーです
フッ素系溶媒は、絶縁性が高いため、半導体製造装置や各種測定装置の温調用循環液として広く使用されています。 また、不燃性・不活性で安全性が高いため、クリーンルーム内の装置の冷却にも適しています。 このフッ素系循環液には専用に設計されたチラーがございます。 ＜ペルチェ式チラー＞ ThermoRack1201/1801 ThermoCube NIKOLA3K/5K ＜冷凍機式チラー＞ M-75HFE ・Fluorinert（FC-3283等）、Novec（HFE-7100、HFE-7200等） Galden （HT-200等）、Opteon（SF10等）など多くのフッ素系溶媒に対応できます ・タンク容量・内部配管容量がわずかなので、高価なフッ素系溶媒の使用量をへらすことができ イニシャルコストが抑えられます ・密閉構造で貴重なフッ素系溶媒が蒸発しにくいのでランニングコストを抑えることができます ・ペルチェ式チラーモデルは密閉性が高く結露による水分の混入がありません。IPAなどの溶媒で脱水ができないフッ素系溶媒にも好適です
