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洗浄剤×ゼストロンジャパン株式会社 - 企業1社の製品一覧

製品一覧

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メタルマスク向け水系洗浄剤 VIGON SC 200

クリーム半田やSMTボンドを確実に洗浄。印刷機の裏拭き用としても使用可能な水系メタルマスク洗浄剤

VIGON SC 200はメタルマスク洗浄用として開発された常温タイプの水系洗浄剤です。 スプレー式や超音波式洗浄機に適しており、試し刷り基板の洗浄もできます。 フラックスのタイプによっては、片面が既にはんだ付けされている印刷ミス基板にも使用できます。 【特長】 ■フラックスを洗浄液中から分離除去できるため、洗浄液の長寿命化及びコスト低減 ■洗浄液の交換が不要のため、メンテナンスの省力化 ■低臭気、低VOC、環境対応成分の使用により作業性の改善と地球環境保全を実現 ■引火点なしのため安全なライン管理 ■常温(25℃)での使用で良好な洗浄性能を発揮 ■Pbフリー、ハロゲンフリー、共晶はんだに対し優れた洗浄性 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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低VOC環境対応型フラックス洗浄剤 VIGON N 600

プリント基板(パワーモジュール・パワーLED・フリップチップ等)の洗浄に適したpH中性!材料適合性に優れています。

VIGON N 600 は中性水系フラックス洗浄剤です。 インライン・バッチ式スプレー、浸漬方式用として開発されました。 中性でなおかつ優れた洗浄性と基板から幅広い種類のフラックス残渣を除去する能力は今までにない洗浄剤です。 また中性であるため、本洗浄剤は感作性の高い金属やポリマーに対して高い材料適合性を持ち合わせています。 【特長】 ■pH中性のため、優れた材料適合性 ■各種のフラックスに対して優れた洗浄性 ■フィルターによりフラックスを系外へ排出・長い液寿命 ■低VOC、環境対応型洗浄剤 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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浸漬洗浄向け 水系アルカリ性フラックス洗浄剤 VIGON US

超音波・噴流装置向け水系フラックス洗浄剤。優れた洗浄性・環境対応型!

VIGON US は、特に超音波や噴流、遠心分離洗浄装置向けの水系洗浄剤です。 電子基板やフリップチップ、CMOSからのすべてのタイプのフラックス残渣を除去します。 【特長】 ■超音波・噴流で優れたフラックス洗浄性能 ■水系のため低VOCで環境対応 ■フリップチップ・BGA洗浄に実績あり ■フラックス分離除去性能のため洗浄液の長寿命化 ■引火点なし、高い作業安全性 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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フラックス洗浄剤 ZESTRON FA+

プリント基板・パワーモジュール・リードフレーム向け洗浄剤。幅広い用途に使用可能な優れた洗浄力かつ長寿命!

ZESTRON FA+は電子部品、セラミック複合基板、パワーモジュール及びリードフレームからあらゆる種類のフラックス残渣を洗浄するため開発された溶剤系洗浄剤です。 優れた洗浄性を持ち、コンタミ許容量が高いため、非常に長い液寿命が特徴です。 【特長】 ■優れた洗浄力、長い洗浄液寿命 ■ハロゲンフリー・生分解性 ■パワーモジュール、リードフレームベースのディスクリート、パワーLED のワイヤボンディング/モールディングの品質を向上 ■フリップチップ・CMOS から粘着性フラックスをすべて除去することにより、ボイドのないアンダーフィルをもたらし、画像解像度を向上 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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ベーパー洗浄向け フラックス洗浄剤 ZESTRON VD

電子部品やセラミック複合基板、リードフレームベースのディスクリート向け。洗浄・リンスを一液で可能なので、工程管理が簡単!

ZESTRON VD は溶剤系洗浄剤です。 クローズド方式の一層式真空洗浄機において、電子部品やセラミック複合基板、リードフレームベースのディスクリートからフラックスの残渣を取り除くことができます。 【特長】 ■溶剤系、幅広い種類のフラックスに対し優れた洗浄性 ■蒸留再生が可能、1チャンバー式真空蒸留・蒸気リンス工程に対応 ■1液にて浸漬洗浄・リンスも可能 ■界面活性剤非含有 ■塩素・フッ素・臭素などのハロゲン化合物の含有なし ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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プリント基板向けフラックス洗浄剤 VIGON A 200

低スタンドオフ部品の洗浄にも好適!防爆仕様なしで浸漬槽に導入可能

『VIGON A 200』は、インラインやバッチ装置のような、高圧・中圧スプレー 装置でご利用いただけるよう専用設計された水系洗浄剤です。 MPC テクノロジーを基に、様々なタイプのフラックス残渣を電子基板、 セラミック基板、パワーモジュール、リードフレームから除去することが可能。 ワイヤボンディングやコーティングなどの次の工程に向け、 高い清浄度要求を満たすことができます。 【特長】 ■ワイヤボンディング・コーティング工程に対して高い清浄度を保つ ■界面活性剤を含まずとリンス性に優れているため、表面に残渣を残さない ■簡単に濾過できるため、液寿命が延び、洗浄剤コストを削減 ■引火点がなく、そのため防爆仕様なしで浸漬槽に導入可能 ■高圧スプレー用途でも泡立ちしない ■ハロゲンフリーで低臭気 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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メタルマスク向け水系洗浄剤 VIGON TC 150

導電性ペースト用水系洗浄剤、メタルマスクやスクリーン版からの銀シンターペーストの除去にも使用可能!

当社で取り扱う、導電性ペースト用水系洗浄剤『VIGON TC 150』 をご紹介します。 メタルマスクやスクリーン版から、シリコン系やシリコンフリー、 銀・アルミニウムの導電性ペーストを除去するために 専用設計された製品。 銀シンターペーストの除去にもお使いいただけます。 【特長】 ■導電性ペーストに対し洗浄性が優れる ■メタルマスクやスクリーン版からの銀シンターペーストの除去も可能 ■従来の溶剤系洗浄剤の代替も可能な水系洗浄剤 ■水系のため作業者の健康面・安全面の改善が可能 ■引火点がないため、防爆仕様なくスプレー装置にてご使用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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コ・ソルベント工程向け洗浄剤 ZESTRON CO 150

HFE系洗浄剤と組み合わせ、水を使わない工程となる!残渣のない素早い乾燥を実現

『ZESTRON CO 150』は、超音波浸漬工程用に専用設計された溶剤系洗浄剤です。 希釈せずに、HFE系洗浄剤との組み合わせでプレ洗浄、 もしくはコ・ソルベント用として使用可能。 特に電子部品、パワーモジュール、リードフレームベースの ディスクリート部品から共晶・鉛フリー無洗浄はんだの フラックス残渣を洗浄するのに適しています。 【特長】 ■共晶・鉛フリーはんだに対し洗浄性が優れる ■ワイヤーボンディング・モールディングの品質が向上 ■沸騰しにくい組成のため、安定した洗浄工程を提供できる ■工程管理における濃度管理範囲が広く設定できる ■冷却工程を安定させ、HFE消費量の最小化に貢献 ■水を使用しないので、イオンコンタミ値を低く抑えることが可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ディスペンサーノズル洗浄剤 ZESTRON HC

SMTボンド除去用、着脱可能なディスペンサーノズルであれば、簡単に洗浄することが可能!

『ZESTRON HC』は、ディスペンサーノズルなどの治具からSMT ボンド 除去用として開発された改良アルコール系洗浄剤です。 マウンターノズルのはんだ粒子やダスト除去にも使用可能。 手拭き洗浄にて手軽にご使用いただけるようエアゾール缶で ご提供しております。 【特長】 ■ディスペンサーノズルや治具からSMT ボンドを確実に除去 ■速乾性があり残渣を残さない ■ハロゲンフリーの有機溶剤 ■マウンターノズルからはんだ粒子やダストを除去することが可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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メタルマスク向け洗浄剤 ZESTRON SD 100

低臭気で、室温下で使用可能!メタルマスク、スクリーン向け クリーム半田洗浄剤

『ZESTRON SD 100』は、防爆仕様スプレー式洗浄機にてメタルマスクから クリーム半田除去用に専用設計された溶剤系洗浄剤です。 フラックスの種類によって、印刷ミス基板にも使用することが可能。 さらに、印刷機での裏拭きや手拭き洗浄にも使用できます。 また、当製品はメタルマスクプリンターでの使用が世界の 主要メーカーによって承認されています。 【特長】 ■コンタミ保持量が高いので、長寿命かつメンテナンス時間の削減に繋がる ■乾燥性に優れているので、洗浄時間の短縮に貢献 ■低臭気で、室温下で使用できる ■メタルマスクの手拭き洗浄や印刷機での裏拭きにも適している ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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メタルマスク向け洗浄剤 ZESTRON SD 301

高いコンタミ保持能力のため、長寿命で洗浄コストを削減!

『ZESTRON SD 301』は、メタルマスクやスクリーンから防爆仕様の スプレー洗浄機によるクリーム半田・SMT 接着剤・厚膜ペースト除去用 の溶剤系洗浄剤です。 速乾性があり、洗浄工程の短縮ができます。また、印刷ミス基板の 洗浄にも効果的です。 高引火点のため手拭き洗浄や印刷機での裏拭きにも使用可能です。 【特長】 ■フラックス残渣を除去することが可能 ■高いコンタミ保持能力のため、長寿命で洗浄コストを削減 ■乾燥が非常に速いため、洗浄工程を短縮することが可能 ■室温下で使用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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メタルマスク向け水系洗浄剤 HYDRON SC 300

引火点を持たない水系洗浄剤のため、洗浄装置に防爆仕様が不要!

『HYDRON SC 300』は、メタルマスク洗浄用として開発された水系洗浄剤です。 クリーム半田やSMT ボンドを常温にて確実に除去し、 メタルマスク表面上に残渣を残しません。 また、洗浄およびリンス工程にて使用可能で、洗浄剤残渣なく乾燥し、 印刷機の裏拭きにも使用できます。 【特長】 ■クリーム半田や接着剤洗浄に優れた効果を発揮し、残渣を残さない ■洗浄およびリンス工程にてご使用可能 ■メタルマスクに残渣を残さず乾燥する ■スプレー式洗浄機をご使用いただいても泡立ちしない ■VOC 含有量が20%以下となり、環境対策を施している ■メタルマスクとの材料適合性に優れている ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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引火性がなく、安全面・環境面に配慮した洗浄剤はないのだろうか

安全面・環境面に配慮した洗浄剤について!プロジェクト改善事例をご紹介

様々な分野で使用されている有機溶剤は、現在の化学工業において 不可欠な存在であり、使用を完全に止めることは難しいのが現状です。 洗浄分野においても、有機溶剤の使用量は減ってきているものの、 いまだに多く使われています。 しかし、昨今では法改正や世界情勢が働き、有機溶剤の使用を控える 動きは加速しており、使用量に関しての見直しが不可欠となってきています。 ※事例の詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。  詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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パワー半導体・プリント基板 水系洗浄剤 VIGON PE190A

引火点を持たないため防爆設備を必要としない!様々なタイプのスプレー装置でご使用可能

『VIGON PE 190A』は、スプレー装置用に専用設計された水系アルカリ性洗浄剤です。 MPCテクノロジーを基にリードフレームやディスクリート部品、 パワーモジュール、パワーLED、プリント基板、特に低スタンド部品 下部からフラックス残渣を確実に除去。 また、ひどく酸化したり汚れの強い銅表面に対し優れた効果を発揮し、 ワイヤボンディング、接着ボンディングやモールディングなどの 後工程において材料適合性が優れています。 【特長】 ■フラックス残渣を確実に除去 ■ボンディング接合などに対し、銅表面を活性化したきれいな状態に整える ■再酸化することなく長期間にわたり活性化した銅表面を保つ ■特にダイとの材料適合性に優れ、パッシベーションを痛めない ■リンス性に優れ、泡立ちしない ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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水系洗浄剤とは?洗浄剤の種類や水系洗浄剤の特徴を解説

水系洗浄剤について水分量が何%を占めた洗浄剤であるのかに着目して解説!

洗浄剤は大きく分類すると「溶剤系」「準水系」「水系」に分別され、 ゼストロンでは「水系洗浄剤」を水が第一成分系(水の含有率が50%以上)を 満たしているものと定義しています。 国内では水系洗浄剤と呼称されていても有機系成分が第一成分系となる 仕様や、準水系と呼称されている場合であっても、その多くの成分が 溶剤成分を占める洗浄剤もあります。 定義や表現は様々ですが、水系洗浄剤を語る上では水分量が 何%を占めた洗浄剤であるのかに着目していただき、その特性を 理解いただけたらと考えます。 ※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。  詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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