Last Updated： Aggregation Period:2025年11月19日～2025年12月16日
This ranking is based on the number of page views on our site.
1～15 item / All 19 items
電子部品洗浄剤 (420ml) スプレー 00117 電子部品配管基板の洗浄 イチネンケミカルズ
電子部品洗浄剤 00117 スプレータイプ 電子部品の脱脂洗浄 イチネンケミカルズ 特 長 ・ 電子部品配管基板の洗浄が可能。 ・ 電子接点のカーボン、油脂を洗浄、除去します。 ・ 【有機溶剤中毒予防規則】の適用を受けない毒性の低い化学洗浄剤です。 ・ 速乾性タイプで、各種樹脂、ゴムに対しての影響が少ない。
基板洗浄機や超音波洗浄機を保有しておりますので、ご要望に応じフラックス除去や基板表面、部品の細かな汚れまで精密洗浄を実現します！
無洗浄ペーストでの基板実装しているケースが多いとは思いますが、 高信頼性を確保するためには、洗浄は必須となってきています。 当社は数々の試作実装や量産実装の基板洗浄を行っておりますので豊富な経験もあり、たいへん多くのお客様からご好評を頂いております。 IPA（イソプロピルアルコール）や環境にやさしい炭化水素系およびグリコール系の基板洗浄液を用いて基板に付着したフラックスを除去します。 ・超音波洗浄 ・電動ブラッシング洗浄 ・手仕上げ洗浄 などの工法にて実装部品やフラックス等の汚れ具合などを加味し最適な工法をご提案させて頂くとともに、お客様からのご要望にも柔軟にお答えいたします。 『フラックスの汚れが気になるけど、洗浄してもらったら どの程度の仕上がりになるんだろう…』 などでお困りの場合でも 各工法にて１台のみ（計３台）無料にてテスト洗浄も実施しております。 ※ RoHS対応ではない（共晶など）場合は 手仕上げ洗浄のみとなります ※ 無料テスト洗浄は少量でのご注文の場合は有償となる場合がございますので、先ずはご相談ください
ずば抜けた洗浄性！速乾性で作業効率がアップ！！
基板のリペア、リフロー炉等の設備メンテナンスに最適です！洗浄液の溶解力とスプレー圧でフラックスを強力に洗浄します。 速乾性で作業効率がアップ、刺激臭が無く低臭気。 詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
太陽電池用シリコン基板の切削粉除去の洗浄データ公開中 超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し洗浄！
蒸気2流体洗浄ユニット「SSCシリーズ」は超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し、対象物の表面にマイクロキャビテーションを発生させ洗浄を行います。蒸気に液体を混合することで2流体を作り、洗浄力を大幅に向上。金属汚染や微小異物の発生を抑えるために特殊な材料に表面コートを施し、高純度蒸気を発生させます。 本ページでは、太陽電池用シリコン基板の切削粉を除去処理した際のデータ資料を掲載しております。 【特長】 ■ブラシ等の消耗品がなく、ランニングコストを大幅に低減 ■使用するのは「純水」のみ ■化学薬品の使用量を大幅に削減 ■洗浄力を大幅に向上 ■半導体用洗浄にも使用 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい
耐薬品性に優れたノズルヘッダー「INVVEA」シリーズは、ノズルのワンタッチ着脱が可能でメンテナンス性にも優れています。
厚み方向に薄く、均等かつ強打力のスプレーが可能。半導体や精密機器製造のエッチングやパーティクル除去などの用途に好適です。 微粒子スプレーにより液晶ガラス基板や精密部品の洗浄、幅もの製造ラインのムラなく均一な洗浄、さらには表面処理、冷却、薬剤散布まで幅広い用途に対応。 またワンタッチで着脱可能なノズル構造により、優れたメンテナンス性を実現します。 ［特長］ ・オール樹脂製設計：優れた耐薬品性を発揮し、過酷な環境でも長寿命を実現。 ・二流体スプレーノズルヘッダー：精密な微粒子噴霧が可能で、均等かつ強打力のある洗浄性能を提供。 ・パーティクル除去に好適：微粒子噴霧技術により、高精度で効率的な洗浄を実現。 ・メンテナンス性向上：ノズルのワンタッチ着脱構造により、簡単かつ迅速な保守作業が可能。 ・幅広い用途対応：液晶ガラス基板や精密部品の洗浄、幅もの製造ラインの洗浄、表面処理、冷却、薬剤散布に好適。 ※その他のスプレーノズルも豊富にラインアップ。お見積り、特注対応など、ノズルに関するお悩みはぜひお気軽にお問合せください。電話・オンライン相談も随時受付中。
比重差で“水”を浮かせるHFE乾燥の新基準。『3つのゼロ』で品質を決める――― それが私たちの仕事です。
従来のIPA乾燥や温風乾燥で課題となっていた「水染みゼロ」 「乾燥ムラゼロ」「引火リスクゼロ」を実現。 弊社独自の水分除去装置により、HFE溶剤中の微量水分を常時 管理し、乾燥品質を安定化させます。 ガラス基板に付着してHFE水切り乾燥装置に持ち込まれる水の 大半は、比重分離により装置外へ排出されます。 HFE溶剤に溶け込んだ微量水分も、水分除去装置によって確実 に除去します。 HFE溶剤による水切り・乾燥システムは、洗浄後のガラスや 金属製品に付着した水を比重差と超音波作用で素早く分離し、 水染みを完全に防止します。 ガラス・レンズ・金属部品などの精密乾燥工程で、安全・ 省エネ・量産対応を実現します。 【特徴】 ○ IPAを使用しないため、引火・安全面のリスクを回避 ○ 乾燥に必要なエネルギー消費量を大幅削減→CO₂排出抑制 ○洗浄スピード向上により量産ラインにも対応 ○HFE溶剤中に含まれる微量の水分を確実に取り除く ○ 微量水分を常時除去する「水分除去装置（オプション）」 により水染み“ゼロ”を維持
超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し洗浄！ランニングコストを大幅に低減します！
蒸気2流体洗浄ユニットは超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し、対象物の表面にマイクロキャビテーションを発生させ洗浄を行います。蒸気に液体を混合することで2流体を作り、洗浄力を大幅に向上。金属汚染や微小異物の発生を抑えるために特殊な材料に表面コートを施し、高純度蒸気を発生させます。 【特長】 ■ブラシ等の消耗品がなく、ランニングコストを大幅に低減 ■使用するのは「純水」のみ ■化学薬品の使用量を大幅に削減 ■洗浄力を大幅に向上 ■半導体用洗浄にも使用 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい
半導体工程での処理例を紹介！ 超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し洗浄！
蒸気2流体洗浄ユニット「SSCシリーズ」は超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し、対象物の表面にマイクロキャビテーションを発生させ洗浄を行います。蒸気に液体を混合することで2流体を作り、洗浄力を大幅に向上。金属汚染や微小異物の発生を抑えるために特殊な材料に表面コートを施し、高純度蒸気を発生させます。 本ページでは、半導体工程（白金残渣）での洗浄前と洗浄後の比較資料を掲載しております。 【特長】 ■ブラシ等の消耗品がなく、ランニングコストを大幅に低減 ■使用するのは「純水」のみ ■化学薬品の使用量を大幅に削減 ■洗浄力を大幅に向上 ■半導体用洗浄にも使用 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい
水のレジスト膜への浸透処理を公開中 超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し洗浄！
蒸気2流体洗浄ユニット「SSCシリーズ」は超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し、対象物の表面にマイクロキャビテーションを発生させ洗浄を行います。蒸気に液体を混合することで2流体を作り、洗浄力を大幅に向上。金属汚染や微小異物の発生を抑えるために特殊な材料に表面コートを施し、高純度蒸気を発生させます。 本ページでは、水のレジストへの浸透を処理前と処理後の比較資料を掲載しております。 【特長】 ■ブラシ等の消耗品がなく、ランニングコストを大幅に低減 ■使用するのは「純水」のみ ■化学薬品の使用量を大幅に削減 ■洗浄力を大幅に向上 ■半導体用洗浄にも使用 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい
ビアホールの洗浄比較資料公開中 超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し洗浄！
蒸気2流体洗浄ユニット「SSCシリーズ」は超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し、対象物の表面にマイクロキャビテーションを発生させ洗浄を行います。蒸気に液体を混合することで2流体を作り、洗浄力を大幅に向上。金属汚染や微小異物の発生を抑えるために特殊な材料に表面コートを施し、高純度蒸気を発生させます。 本ページでは、ビアホールの洗浄処理前と処理後の比較資料を掲載しております。 【特長】 ■ブラシ等の消耗品がなく、ランニングコストを大幅に低減 ■使用するのは「純水」のみ ■化学薬品の使用量を大幅に削減 ■洗浄力を大幅に向上 ■半導体用洗浄にも使用 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい
ガラス表面の接触角測定の洗浄データ公開中 超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し洗浄！
蒸気2流体洗浄ユニット「SSCシリーズ」は超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し、対象物の表面にマイクロキャビテーションを発生させ洗浄を行います。蒸気に液体を混合することで2流体を作り、洗浄力を大幅に向上。金属汚染や微小異物の発生を抑えるために特殊な材料に表面コートを施し、高純度蒸気を発生させます。 本ページでは、ガラス表面の接触角測定を洗浄した際のデータ資料を掲載しております。 【特長】 ■ブラシ等の消耗品がなく、ランニングコストを大幅に低減 ■使用するのは「純水」のみ ■化学薬品の使用量を大幅に削減 ■洗浄力を大幅に向上 ■半導体用洗浄にも使用 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい
乾燥工程や廃液処理の必要なし！半導体や電子部品も洗浄できるドライ洗浄装置
ドライアイススノー洗浄システム「QuickSnow」は、エア・ウォーターの液化炭酸ガスを使ったドライアイススノー精密洗浄システムの技術です。 【特長】 １．洗浄による残渣なし ２．ドライ洗浄 ３．対象物へのダメージレス ４．乾燥工程不要によるサイクルタイム短縮 【用途】 ・パーティクル除去（サブミクロン～ミクロンオーダーまで対応可） ・有機物除去 【洗浄対象】 ・半導体デバイス（イメージセンサーなど） ・光学部品（光ファイバー、カメラレンズなど） ・電子部品（ハードディスクドライブ関連部品など） ・フィルム製造（製造装置ローラー、高機能フィルムなど） ・FPD部品（ガラス基板、有機EL基板など） ・自動車部品（ボディ部品、金属部品など） ※デモをご希望の方は、お問い合わせフォームより「デモ希望」と明記の上、お問い合わせ下さい。 ※「QuickSnow」のカタログは、ダウンロードからPDFデータをご覧下さい。
乾燥工程や廃液処理の必要なし！半導体や電子部品も洗浄できるドライ洗浄装置
ドライアイススノー洗浄システム「QuickSnow」は、エア・ウォーターの液化炭酸ガスを使ったドライアイススノー精密洗浄システムの技術です。 【特長】 １．洗浄による残渣なし ２．ドライ洗浄 ３．対象物へのダメージレス ４．乾燥工程不要によるサイクルタイム短縮 【噴射タイプ】 ・スポット型 → 一般的な噴射タイプ ・広角型 → 幅広噴射に対応した噴射タイプ （その他、複数ノズル型も提供可能） 【用途】 ・パーティクル除去（サブミクロン～ミクロンオーダーまで対応可） ・有機物除去 【洗浄対象】 ・半導体デバイス（イメージセンサーなど） ・光学部品（光ファイバー、カメラレンズなど） ・電子部品（ハードディスクドライブ関連部品など） ・フィルム製造（製造装置ローラー、高機能フィルムなど） ・FPD部品（ガラス基板、有機EL基板など） ・自動車部品（ボディ部品、金属部品など） ※デモをご希望の方は、HPお問い合わせフォームより「デモ希望」と明記の上、お問い合わせ下さい。 ※「QuickSnow」のカタログは、ダウンロードからPDFデータをご覧下さい。
精密な洗浄装置とクリーンな環境を整備！アルミ、ガラス、セラミック等に対応可能
ヱビナ電化工業では『半導体関連部品への精密洗浄』を行っています。 清浄度が必要な精密部品に適用可能。クリーンルーム内で洗浄から 梱包まで行いパーティクルを抑制します。 また、めっき・洗浄・梱包まで社内一貫対応のため、表面処理＋洗浄の リードタイムを短縮できます。 【特長】 ■清浄度が必要な精密部品に適用可能 ・クリーンルーム内で洗浄から梱包まで行いパーティクルを抑制 ■めっき・洗浄・梱包まで社内一貫対応 ・表面処理＋洗浄のリードタイムを短縮 ■素材や目的に対応した複数の洗浄設備 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
無電極UVと微細泡で環境配慮・高精度なガラス洗浄を実現
『ガラス洗浄装置』は、UV照射によるドライ洗浄と微細泡洗浄を組み合わせ、ウェット洗浄では除去しにくい有機化合物の汚れを効果的に分解除去します。 環境負荷の少ない無電極UV照射ユニットを採用し、基材表面を親水性に変化させることで、後工程での洗浄効果を高めます。 さらに、ディップ槽内で発生させた超音波由来の微細泡が、汚れを浮かせて除去。精度の高いガラス基板洗浄を実現します。 【特長】 ■ 環境負荷の少ない洗浄方式 ■ UV照射によるドライ洗浄工程 ■ 無電極UV照射ユニット採用 ■ 微細泡で細かな汚れまで除去 ※詳細は下記よりお問い合わせください https://toagrp.co.jp/contact
