更新日： 集計期間:2025年05月21日～2025年06月17日
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複数点同一解析を用いた nk 未知の極薄膜の測定
従来法では困難であった極薄膜領域下(100nm以下)でのnk解析ですが、複数点解析機能により、精度良くnk解析が可能です。（特許取得済 第5721586号） 最小二乗法でフィッティングをして膜厚値（ｄ）を解析するには材料のnkが必要です。nkが未知の場合、d とnkの両方を可変パラメータとして解析します。 しかしながら、ｄ が100nm以下の極薄膜の場合、ｄ とnkとを分離することができず、そのため精度が低下して正確な ｄ が求められないことがあります。 このような場合、ｄ の異なるサンプルを複数測定し、nkが同一であると仮定して同時解析（複数点同一解析）をします。これにより精度よくnkを求め、正確な ｄ を求めることが可能です。
フィラー、セラミックス、絶縁薄膜、半導体薄膜等、薄膜・微小領域の熱伝導評価に！！
この装置は、世界最小クラスの分解能を誇る、革新的な熱物性測定装置です。 サンプルの熱物性を点、線、面の各レベルで詳細に測定することが可能で、従来の装置では難しかったミクロンオーダーの熱物性値分布も正確に捉えます。 さらに、この装置は非接触測定でありながら、高分解能を実現しており、従来技術では不可能だった領域を新たに開拓しました。世界初の技術を搭載し、熱浸透率の測定に加え、好条件下では熱伝導率も直接測定可能です。 この装置は、研究開発において精密な熱物性解析を必要とする場面で、他に類を見ない性能を発揮します。 〇測定原理について〇 この装置の測定原理はサーモリフレクタンス法と言う手法になります。 材料の表面温度を高精度で測定する手法の一つで、特に微小領域や薄膜材料の熱特性を調べるために使われます。 この方法は、材料の表面温度変化に伴う反射率の変化を検出し、その変化から温度を測定する技術です。 得られる結果は熱浸透率と言うパラメーターです。 熱浸透率とは物質と物質が接しているときに熱をどれだけ奪い取るかを示す物理量です。 比熱と密度により、熱伝導率や熱拡散率と相互に変換できます。
比較的低分子量の環状、鎖状シロキサンを含む気体を測定し分離、検出が可能か確認！
低分子シロキサンはシリコーン製品の原料やドライクリーニング用溶媒、 化粧品の添加剤等で広く使用されています。 沸点が高いにもかかわらず揮発性が高い特長を持ち室温においても容易に 気中に拡散し、揮発後の再付着により半導体製造装置のレンズ曇りや 絶縁膜の耐圧低下、接点不良などの悪影響を及ぼすことが知られています。 今回は低分子シロキサンのうち比較的低分子量の環状、鎖状シロキサンを 含む気体を測定し分離、検出が可能か確認しました。詳細は、PDF資料より ご確認いただけます。是非、ご覧ください。 【概要】 ■Sylphによる分析 ・低分子シロキサンのうち環状シロキサン(D3 D4 D5 D6)と鎖状のシロキサン (M2 M3 M4 M5)をアセトン溶媒で希釈し、窒素を封入したガスバッグに注入後、 ガスをSylphに導入し測定 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
ゼータ電位・粒子径・分子量測定システムを用いた細菌から生産される細胞外膜小胞の粒子径・粒子濃度・ゼータ電位測定
細菌から生産される細胞外膜小胞は、細菌間のコミュニケーション、遺伝子の水平伝播、病原性細菌の毒性発現、など多様な機能を担うことから注目を集めています。その膜小胞は特にワクチンとしての利用やドラッグデリバリーシステム(DDS)におけるキャリアとしての利用に期待されており、その特性評価も重要になっています。 ELSZneoでは、粒子径・粒子濃度・ゼータ電位を測定することができます。今回、親株のMV (parent)と表層タンパク質欠損株のMVの粒子径分布、粒子濃度、ゼータ電位を測定しました。その結果から、本タンパク質の存在が凝集体形成抑制に寄与していることが推察できる。 エクソソーム測定の詳細については、カタログダウンロードより技術資料をダウンロードをしてください。
