三次元測定機による高精度測定
三次元測定機による高精度測定 航空･宇宙産業向け製品を15年以上保証してきた実績
【特徴】 ■機種：Ｍitsutoyo FALCIO Apex9106 ■複雑な形状の製品も、制度要求の高い製品も測定可能 ■20℃で温度管理された測定室 ■三次元測定機は人による測定値のバラツキなし ■JIS Q 9100に基づいた品質管理 ■測定結果はデータ保存し、20年保管 ■航空･宇宙製品を15年以上品質保証してきた実績
- 企業：株式会社郡上螺子
- 価格：応相談
測定(iso) - 企業と製品の一覧
更新日： 集計期間:2025年05月21日～2025年06月17日
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製品一覧
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表示件数
【顕微分光膜厚計】による透明基板上の高精度膜厚測定
反射対物レンズが実現する透明基板の高精度測定
フィルムやガラス等の透明な基板サンプルの場合、基板の裏面からの反射の影響を受けると正確な測定ができません。 OPTMシリーズの反射対物レンズを使用すると、物理的に裏面反射を除去することができ、透明基板でも高精度に測定ができます。 また、フィルムやSiC等の光学異方性をもつサンプルに対してもその影響を受けること無く上面の膜のみの測定を行うことが可能です。 （特許取得済 第5172203号）
- 企業：大塚電子株式会社
- 価格：応相談
【顕微分光膜厚計】を用いたSiO2 SiNの膜厚測定
反射分光膜厚計『OPTM』を用いた絶縁膜の膜厚測定
半導体トランジスタは電流の通電状態を制御することで信号を伝達していますが、電流が漏れたり別のトランジスタの電流が勝手な通路を通り回り込むことを防止するために、トランジスタ間を絶縁するための絶縁膜が埋め込まれています。 絶縁膜にはSiO2（二酸化シリコン）やSiN（窒化シリコン）が用いられます。 SiO2は絶縁膜として、SiNはSiO2より誘電率の高い絶縁膜として、または不必要なSiO2をCMPで除去する際のストッパーとして使用され、その後にSiNも除去されます。 このように絶縁膜としての性能、正確なプロセス管理のため、これらの膜厚を測定する必要があります。
- 企業：大塚電子株式会社
- 価格：応相談
【顕微分光膜厚計】を用いたSiO2 SiNの膜厚測定
反射分光膜厚計『OPTM』を用いた絶縁膜の膜厚測定
半導体トランジスタは電流の通電状態を制御することで信号を伝達していますが、電流が漏れたり別のトランジスタの電流が勝手な通路を通り回り込むことを防止するために、トランジスタ間を絶縁するための絶縁膜が埋め込まれています。 絶縁膜にはSiO2（二酸化シリコン）やSiN（窒化シリコン）が用いられます。 SiO2は絶縁膜として、SiNはSiO2より誘電率の高い絶縁膜として、または不必要なSiO2をCMPで除去する際のストッパーとして使用され、その後にSiNも除去されます。 このように絶縁膜としての性能、正確なプロセス管理のため、これらの膜厚を測定する必要があります。
- 企業：大塚電子株式会社
- 価格：応相談
【顕微分光膜厚計】での nk 未知の極薄膜の測定
複数点同一解析を用いた nk 未知の極薄膜の測定
従来法では困難であった極薄膜領域下(100nm以下)でのnk解析ですが、複数点解析機能により、精度良くnk解析が可能です。（特許取得済 第5721586号） 最小二乗法でフィッティングをして膜厚値（ｄ）を解析するには材料のnkが必要です。nkが未知の場合、d とnkの両方を可変パラメータとして解析します。 しかしながら、ｄ が100nm以下の極薄膜の場合、ｄ とnkとを分離することができず、そのため精度が低下して正確な ｄ が求められないことがあります。 このような場合、ｄ の異なるサンプルを複数測定し、nkが同一であると仮定して同時解析（複数点同一解析）をします。これにより精度よくnkを求め、正確な ｄ を求めることが可能です。
- 企業：大塚電子株式会社
- 価格：応相談
【顕微分光膜厚計】で、複雑な形状のある任意ポイントの測定
さまざまな用途のDLCコーティング厚みの測定
DLC(diamond‐like carbon)はアモルファス（非晶質）な炭素系材料です。高硬度・低摩擦係数・耐摩耗性・電気絶縁性・高バリア性・表面改質やDLCの厚み測定は断面を電子顕微鏡にて観察する破壊検査が一般的でしたが、大塚電子の光干渉式膜厚計であれば非破壊かつ高速に測定が可能です。測定波長範囲を変えることで極薄膜から超厚膜まで幅広い膜厚が測定できます。 独自の顕微鏡光学系を採用することで、形状のあるサンプルの実測定が可能になりました。また、測定箇所をモニターで確認しながら測定を行うことで異常原因の分析に役立てることができます。 特注でさまざまな形状に対応した傾斜・回転ステージをご用意いたします。実サンプルの任意の複数箇所が測定可能です。 材料の光学定数（nk）が分からないと正確な膜厚測定ができない問題は、独自の解析手法：複数点解析を用いて、厚みの異なる複数サンプルを同時解析することで従来に比べ非常に高精度にnkを求めることが可能です。NIST検定の標準サンプルで校正を行うことでトレーサビリティを保証します。
- 企業：大塚電子株式会社
- 価格：応相談
