更新日： 集計期間:2025年11月12日～2025年12月09日
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卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
◉ 卓上サイズ 省スペース：328(W) x 220(D) x 250(H)mm（*2inch用チャンバー参考値） ◉ カスタマイズ自在なヒーター構造： - 円筒状ヒーター：るつぼ内サンプル焼成（固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用） - 面状ヒーター：Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉ 昇温時間最速約15分（1500℃）、降温1500℃→100℃まで約40分（真空、およびガス置換雰囲気） ◉ ハイスペック&ハイコストパフォーマンス ◉ シンプルな構成、優れた操作性 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。
急冷や徐冷などの精密な温度コントロールにより生産効率を向上することができます
厚みのあるワークでも事前にシミュレーションを行なうことで必要な冷却風量を算出後、ファンを最適配置して冷却の規定時間を達成することができました。また、ワーク入替時の熱ロスを最小限に防ぎ、回転率や省エネ性能も上げることができました。 【仕様】 ● 温度：620〜700℃ ● 有効寸法：W2000 x L2000 x H1000 ● 雰囲気：大気 ● 用途：応力除去焼鈍 ● 処理物：炭素鋼 / ステンレス鋼 ● 処理量：3000kg/ch ● 電気容量：180kW 【その他の導入事例】 ■ 銅を酸化させず焼鈍したい →『真空光輝焼鈍炉』 ■ 鋼を完全焼鈍したい →『ピット型無酸化焼鈍炉』 ■ 鋳物を焼鈍したい →『台車式焼鈍炉』 ■ プレス品の大物部品を焼鈍したい →『台車式焼鈍炉』『ピット型焼鈍炉』 ■ 光学ガラス成型品のアニールしたい →『台車式アニール炉』 ＊詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
集光加熱方式で約50℃/secの急速昇温、加熱ランプOFFで急冷も可能。各種雰囲気への対応
世界中の様々な研究機関で使用されている、米倉製作所の集光式加熱炉「IR Series（アイアールシリーズ）」は、近赤外線集光加熱を利用したIRイメージ炉です。 クリーンな環境構造で、超高速加熱冷却が行えます。 製品ラインナップとしては、6方向からの急速加熱冷却で従来の加熱炉に比べ、温度分布領域を飛躍的に拡大した「IR-HP（6放物面輻射）」、4方向からの急速加熱冷却で従来の加熱炉に比べ2倍の温度分布領域と急加熱「IR-QP（4楕円共有集光）」、2方向からの急速加熱冷却で従来の加熱炉に比べ顕微鏡観察を可能にした「IR-TP（2楕円共有）」を取り揃えております。 【主な特徴】 ○クリーン・省エネ・高性能 ○真空・ガス置換＋観察 ○低電力で高速加熱（わずか4kwで1500℃/30sec） ○ヒータはタングステンフィラメントで、発熱温度は3400Kと高温 ○ワット密度はニクロムヒータに比べ、10～20倍 ○リアルタイムで温度制御が可能 ○コンパクトサイズ 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
真空置換→空気/N2/Ar/(必要に応じ少量H2)をプログラム切替。相転移・相安定性・表面化学を再現よく評価
当社では、酸化/還元雰囲気での材料評価・相転移試験を“雰囲気×温度"の 二軸で精密設計した「マルチ雰囲気炉」を取り扱っております。 真空システムを内蔵しており、処理前後に真空置換→所定ガス置換が可能で、 炉内解放時の残留ガスリスクを低減。 また、トレイ設計の自由度が高く、同条件・多検体の並行DOEでスケールアップの 当たり条件を短サイクルで抽出します。 【当社カーボン炉が黒鉛化で効く理由】 ■NH3・COなどの発生ガスに対応：ガス種特性に合わせた材質・配管温調・ 計装で設計 ■真空システム内蔵：処理前後に真空置換→所定ガス置換が可能で、 炉内解放時の残留ガスリスクを低減 ■角型サヤ×棚積み：トレイ設計の自由度が高く、同条件・多検体の並行DOEで スケールアップの当たり条件を短サイクルで抽出 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
真空置換→雰囲気制御→加熱→排ガス無害化(スクラバー/触媒酸化/熱酸化)まで、一気通貫で設計します
当社では、NH3・COなどの発生ガスに対応した「マルチ雰囲気炉」を 取り扱っております。 真空置換→雰囲気制御→加熱→排ガス無害化(スクラバー/触媒酸化/ 熱酸化)まで、一気通貫で設計。 また、小型機以外にも量産スケールの炉も製作実績があります。 【当社カーボン炉が黒鉛化で効く理由】 ■NH3・COなどの発生ガスに対応：ガス種特性に合わせた材質・配管温調・ 計装で設計 ■真空システム内蔵：処理前後に真空置換→所定ガス置換が可能で、 炉内解放時の残留ガスリスクを低減 ■角型サヤ×棚積み：トレイ設計の自由度が高く、同条件・多検体の並行DOEで スケールアップの当たり条件を短サイクルで抽出 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
充填する雰囲気ガスは、材料の性質や熱処理の目的によって多岐にわたります！
鋼は大気中で熱処理を行うと酸化や脱炭が起こるため、表面仕上げなどの 加工が必要になる場合があります。 そのため、後加工の手間を省いたり、酸化や脱炭を抑制したりするなどの 用途に応じて雰囲気ガスを炉内に充填させて加熱処理する『雰囲気炉』が 多く用いられています。 充填する雰囲気ガスは、窒素やアルゴンなどの不活性ガスをはじめ、 水素やAXガスなど、材料の性質や熱処理の目的によって多岐にわたります。 【特長】 ■熱処理中にガスの切替が可能 ■バッチ型や連続式などのさまざまな形状の炉の取扱いがある ■粉末冶金向け脱脂炉の取扱いがある ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
処理量やワークサイズ、用途、前後工程などご要望をお聞きし、周辺領域も含めて、好適な雰囲気炉をご提案いたします。
窒素や水素以外でも特殊な雰囲気下の熱処理に対応可能です。サンファーネスでは処理量やワークサイズ、用途、前後工程などご要望をお聞きし、周辺領域も含めて最適な雰囲気炉をご提案いたします。 【雰囲気一覧】 窒素 / 水素 / 酸素 / アルゴン / メタノール分解ガス / アンモニアガス 一酸化炭素 / 二酸化炭素 /AXガス / DXガス / RXガス / 三フッ化窒素 省エネ化、自動化、環境への配慮、安全性など新しい課題やご相談がございましたらお気軽にお声がけください。 ※詳しくはPDF資料をダウンロードいただくかお気軽にお問合せください。
長年のシール設計・加工精度・組立手順により微小リークを抑制！長時間運転でも低O2をキープ
当社で取り扱う小型カーボン炉について、なぜ低酸素・超高温が実現できる のかをご紹介します。 カーボン炉材が残留酸素と反応し、“漏らさない"設計と製作ノウハウが 特長で、真空ポンプ＋置換で粉末内部の空気まで除去します。 放射率の高いグラファイトヒーター×均熱ホットゾーン×高断熱で効率よく 加熱し、局所過熱を避けつつ3000℃クラスまで安定到達が可能です。 【小型カーボン炉の特長】 ■3000℃まで昇温可能：グラファイトヒーターの輻射熱で短時間に超高温へ ■低酸素での焼成がしやすい：炉内カーボンが残留O2と反応 ■粉末内部の空気も置換：真空→不活性ガスの繰り返しで粒子間のO2を低減 ■温度ムラを抑制：均一に温める"均熱ゾーン"で中央/端部/厚み方向の差を縮小 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
なぜ極低酸素＆3000℃級が可能か！小型カーボン炉の原理を解説します
小型カーボン炉は、極低酸素環境と超高温(～3000℃級)を両立できる点が 特長です。今回は"なぜそれができるのか"を原理からシンプルに解説します。 1)なぜ「極低酸素」になるのか？ ■炉材自体が“酸素ゲッター" 炉のホットゾーンはカーボン(黒鉛)で構成。残留O2/CO2/H2Oはカーボンと 反応してCO/CO2へ還元·固定化され、実効的に酸素活量が下がります。 結果として、酸化に弱い材料でも穏やかな雰囲気で処理しやすい。 ■真空システム内蔵＋置換 加熱前に真空引き→不活性ガス(Ar/N2など)でパージを繰り返すことで、 試料内部の空気まで事前に追い出せます。単なる“通気"では届かない 細孔・粉末間隙のガス置換に有効。 2)なぜ「3000℃級」が可能なのか？ ■発熱体＝黒鉛の高温安定性 黒鉛は不活性雰囲気·真空下できわめて高い耐熱性を示し、抵抗加熱で 効率的にホットゾーンを昇温できます。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
SiC/TiC/ZrCを高温・極低酸素で“速く・再現よく"。固相炭化・複合炭化(B4C併用)や炭素供給条件の最適化を短サイクルで
当社では、真空→不活性ガスへ段階置換できる小型の「カーボン炉」を 取り扱っております。 固相炭化(粉末混合法・被覆法・浸炭)や複合炭化(B4C併用など)による 高硬度化、炭素供給条件の最適化(炭素材の種類・比率・接触状態)などの 実験・プロセスに使用可能です。 ご要望の際は、当社までお気軽にお問い合わせください。 【当社カーボン炉が選ばれる理由(一部)】 ■短時間で高温域へ ・1600-2800℃＊＊を安定到達・保持 ・炭化に効く温度目安：SiC 1600–2000℃、TiC 1500–2100℃、ZrC 1800–2300℃ ■極低酸素分圧で副反応を抑制 ・真空引き→Ar/N2へ置換 ・炉材カーボンのゲッタリングで残存酸素を低減、CO生成を抑える ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
こんな課題でお困りではありませんか？「COガスの出る炉を使用しているが、メンテナンス時に危険が伴う」
炉内で使用した雰囲気ガスを廃棄せずに加熱前のスペースで予熱として再利用することができます。その結果、常温から加熱する時よりもエネルギー使用量が少なく省エネとなります。 窒素や水素以外でも特殊な雰囲気下の熱処理に対応可能です。サンファーネスでは処理量やワークサイズ、用途、前後工程などご要望をお聞きし、周辺領域も含めて最適な雰囲気炉をご提案いたします。 【その他の特長】 ● バッチ式や連続式などのさまざまな形状の炉の取扱いがあります。 ● 粉末冶金向け脱脂炉の取扱いがあります。 【その他の課題解決】 ■ 攪拌ファンのシャフトが摩耗してガスが漏れるので交換の頻度が多い ■ 粉体静置処置で粉体と反応ガスの接触が少なく処理時間が長い 【おもな雰囲気熱処理炉】 ■ バッチ型還元炉 ■ 竪型還元ろう付け炉 ■ ベル型窒化炉 ■ ピット型滴注浸炭炉 省エネ化、自動化、環境への配慮、安全性など新しい課題やご相談がございましたらお気軽にお声がけください。
処理量やワークサイズ、用途、前後工程などご要望をお聞きし、周辺領域も含めて、好適な雰囲気炉をご提案いたします。
炉内で使用した雰囲気ガスを廃棄せずに加熱前のスペースで予熱として再利用することができます。その結果、常温から加熱する時よりもエネルギー使用量が少なく省エネとなります。 窒素や水素以外でも特殊な雰囲気下の熱処理に対応可能です。サンファーネスでは処理量やワークサイズ、用途、前後工程などご要望をお聞きし、周辺領域も含めて最適な雰囲気炉をご提案いたします。 【その他の特長】 ● バッチ式や連続式などのさまざまな形状の炉の取扱いがあります。 ● 熱処理中にガスの切替が可能。 ● 粉末冶金向け脱脂炉の取扱いがあります。 【その他の課題解決】 ■ 攪拌ファンのシャフトが摩耗してガスが漏れるので交換の頻度が多い ■ COガスの出る炉を使用しているが、メンテナンス時に危険が伴う ■ 粉体静置処置で粉体と反応ガスの接触が少なく処理時間が長い 省エネ化、自動化、環境への配慮、安全性など新しい課題やご相談がございましたらお気軽にお声がけください。
1200℃最高温度の真空管状炉 石英・セラミック炉心管対応
• 最高温度は1200℃で、カンタルワイヤー発熱体を使用しています • 真空ポンプと配管を接続することで、低真空・中真空下での熱処理が可能です • 真空置換機能により、不活性ガスや反応ガスなどの制御雰囲気での加熱が可能です • 大気での加熱も可能で、3種類の加熱方法を1機で実現できます • 温度制御器は本体に内蔵されており、制御箱を別置きにする必要がありません • 熱電対や炉心管の取り外しや交換が容易です • 科学研究所や教育機関などで、様々な材料試験や熱処理に使用されています
材料の出し入れが便利な箱型構造を採用した、マッフル炉です。
最高温度1,200℃、1,400℃及び1,700℃の3タイプからお選びいただけます。 エネルギー効率を最大限に保つため、高純度繊維状アルミナ断熱材を使用。 炉の外部に触れても安全な空冷ファン付きの二層鉄骨構造。 安全インターロック機構で、ドアが開くと自動的に炉の電源をオフにします。 30 セグメントのPID制御による温度管理。
容易に欠陥(EPD)の少ない結晶を得ることが可能な炉体移動式のVGF炉です
『MAT-200VGFHQ』は、石英管式炉体移動型の炉構造であるVGF製造炉です。 ヒ素圧1atm中で育成するので、容易に欠陥(EPD)の少ない結晶を得ることが 可能。常用温度は1200℃、最高温度は1300℃です。 また、育成後のGaAsインゴットとPBN坩堝は、液体に浸漬することで分離します。 さらにPBNるつぼと石英アンプルは、再使用が可能です。 【特長】 ■育成後のGaAsインゴットとPBN坩堝は、液体に浸漬することで分離 ■PBNるつぼと石英アンプルは、再使用が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
