更新日： 集計期間:2026年06月10日～2026年07月07日
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真空置換・高気密構造・グラファイト加熱で、低酸素と3000℃級処理を両立
当社で取り扱う「小型カーボン炉」は、低酸素雰囲気と3000℃級の超高温処理を両立できる加熱炉です。 高温処理では、炉内に残った酸素や微小リークが、酸化・再酸化・材料劣化の原因となる場合があります。 本設備では、真空ポンプによる置換、高気密シール設計、グラファイトヒーターによる高効率加熱により、酸素の影響を抑えた超高温処理が可能です。 炭素材料の黒鉛化、SiC・B4Cなどのセラミックス焼成、高融点材料の熱処理など、一般的な電気炉では温度や雰囲気が不足する用途に適しています。 【特長】 ■ 真空置換により炉内残留酸素を低減 ■ 高気密シール設計で微小リークを抑制 ■ グラファイトヒーターで短時間に超高温域へ昇温 ■ 3000℃クラスまで安定到達可能 ■ 長時間運転でも低酸素雰囲気を維持しやすい構造 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
焼成・熱処理・脱脂・還元に適した電気炉を整理
焼成・熱処理・脱脂・還元の違いを整理できていますか？ 同じ「加熱処理」でも、目的が変われば、必要な温度域、雰囲気、排ガス対策、安全対策、温度分布、サンプル回収方法が変わります。 例えば、焼成では反応完了や温度分布、脱脂では発生ガス・タール・急反応、還元ではH₂濃度・置換管理・爆発下限、熱処理では均熱性・冷却条件・高純度雰囲気が重要になります。 本資料では、焼成・熱処理・脱脂・還元について、代表条件、主な雰囲気、重視点、向く炉種、事前確認項目を一覧で整理しています。 ■処理目的に合う電気炉・雰囲気炉の選定に ■設備導入前の条件整理に ■焼成テスト・条件探索の事前検討に ■見積依頼前の社内確認資料として活用可能
処理量やワークサイズ、用途、前後工程などご要望をお聞きし、周辺領域も含めて、好適な雰囲気炉をご提案いたします。
窒素や水素以外でも特殊な雰囲気下の熱処理に対応可能です。サンファーネスでは処理量やワークサイズ、用途、前後工程などご要望をお聞きし、周辺領域も含めて最適な雰囲気炉をご提案いたします。 【雰囲気一覧】 窒素 / 水素 / 酸素 / アルゴン / メタノール分解ガス / アンモニアガス 一酸化炭素 / 二酸化炭素 /AXガス / DXガス / RXガス / 三フッ化窒素 省エネ化、自動化、環境への配慮、安全性など新しい課題やご相談がございましたらお気軽にお声がけください。 ※詳しくはPDF資料をダウンロードいただくかお気軽にお問合せください。
黒鉛化・炭化・焼結・高温反応評価など、小型カーボン炉の用途を紹介
当社で取り扱う「小型カーボン炉」は、低酸素雰囲気での3000℃級高温処理に対応した電気炉です。 炉内にグラファイト部材を採用し、真空置換後にAr、N2などの不活性ガス雰囲気で処理することで、 高温域での酸化・再酸化を抑えた安定した加熱環境を形成します。 本資料では、小型カーボン炉の主な用途として、高温材料の合成・焼結、炭素材料の高結晶化、 金属材料の高温処理・還元反応、高温ガス反応評価、研究開発向けの小スケール試験をご紹介します。 【主な用途例】 ■ 高温材料の合成・焼結 ■ 炭素材料の黒鉛化・高結晶化処理 ■ 金属材料の高温処理・還元反応 ■ N2、H2、Arなどを用いた高温ガス反応評価 ■ 研究開発・試作スケールでの材料プロセス評価 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
こんな課題でお困りではありませんか？「COガスの出る炉を使用しているが、メンテナンス時に危険が伴う」
炉内で使用した雰囲気ガスを廃棄せずに加熱前のスペースで予熱として再利用することができます。その結果、常温から加熱する時よりもエネルギー使用量が少なく省エネとなります。 窒素や水素以外でも特殊な雰囲気下の熱処理に対応可能です。サンファーネスでは処理量やワークサイズ、用途、前後工程などご要望をお聞きし、周辺領域も含めて最適な雰囲気炉をご提案いたします。 【その他の特長】 ● バッチ式や連続式などのさまざまな形状の炉の取扱いがあります。 ● 粉末冶金向け脱脂炉の取扱いがあります。 【その他の課題解決】 ■ 攪拌ファンのシャフトが摩耗してガスが漏れるので交換の頻度が多い ■ 粉体静置処置で粉体と反応ガスの接触が少なく処理時間が長い 【おもな雰囲気熱処理炉】 ■ バッチ型還元炉 ■ 竪型還元ろう付け炉 ■ ベル型窒化炉 ■ ピット型滴注浸炭炉 省エネ化、自動化、環境への配慮、安全性など新しい課題やご相談がございましたらお気軽にお声がけください。
処理量やワークサイズ、用途、前後工程などご要望をお聞きし、周辺領域も含めて、好適な雰囲気炉をご提案いたします。
炉内で使用した雰囲気ガスを廃棄せずに加熱前のスペースで予熱として再利用することができます。その結果、常温から加熱する時よりもエネルギー使用量が少なく省エネとなります。 窒素や水素以外でも特殊な雰囲気下の熱処理に対応可能です。サンファーネスでは処理量やワークサイズ、用途、前後工程などご要望をお聞きし、周辺領域も含めて最適な雰囲気炉をご提案いたします。 【その他の特長】 ● バッチ式や連続式などのさまざまな形状の炉の取扱いがあります。 ● 熱処理中にガスの切替が可能。 ● 粉末冶金向け脱脂炉の取扱いがあります。 【その他の課題解決】 ■ 攪拌ファンのシャフトが摩耗してガスが漏れるので交換の頻度が多い ■ COガスの出る炉を使用しているが、メンテナンス時に危険が伴う ■ 粉体静置処置で粉体と反応ガスの接触が少なく処理時間が長い 省エネ化、自動化、環境への配慮、安全性など新しい課題やご相談がございましたらお気軽にお声がけください。
設備仕様を決める前に、少量サンプルで反応性を確認
電気炉・雰囲気炉の設備仕様を決める前に、焼成テストで確認すべき条件を整理できていますか？ 設備導入前の焼成テストでは、少量サンプルを用いて「目的の反応が起きるか」「安全に処理できるか」「量産条件へ展開できるか」を確認することが重要です。 本資料では、焼成・脱脂・還元・酸化・窒化・脱ガス・不純物除去などを対象に、温度・雰囲気・処理時間・流量・圧力を変えながら、反応性・安全性・再現性を確認するための計画項目を整理しています。 ■設備導入前の条件探索に ■焼成テスト計画の抜け漏れ防止に ■炉内容積・ガス系統・排ガス処理・治具仕様の検討に ■量産炉へのスケールアップ判断に
黒鉛化、炭化、焼結、結晶化など、小型カーボン炉で検討できる用途を紹介
当社で取り扱う「小型カーボン炉」は、低酸素雰囲気での3000℃級高温処理に対応した電気炉です。 炉内に炭素部材を採用し、真空置換後にAr、N2などの不活性ガス雰囲気で処理することで、高温域での酸化・再酸化を抑えた安定した加熱環境を形成します。 本資料では、小型カーボン炉の主な用途として、炭素材料の黒鉛化、セラミックスの炭化・焼結、高融点材料の高温処理、研究開発向けの小スケール試験などをご紹介します。 【主な仕様例】 ■ 設備寸法：1000W×1000D×2100H mm ■ 炉内有効寸法：200W×200D×200H mm ■ 対応雰囲気：不活性ガス Ar、N2、および真空 ■ 炉内材質：グラファイト ■ ドア構造：開き方式 ■ 真空ポンプ：ロータリーポンプ ■ 記録監視：温度、流量、圧力など ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
乾式還元・黒鉛化・炭化処理に向けた、小型カーボン炉の開発背景を解説
乾式・還元系の熱処理ニーズが高まる一方で、研究現場では「温度が足りない」「仕込みサイズが合わない」「低酸素雰囲気を維持しにくい」といった課題があります。 特に、炭素材料の黒鉛化、セラミックスの炭化・窒化、電池材料・触媒担体の乾式処理では、一般的な電気炉では温度・雰囲気・処理スペースが不足する場合があります。 当社の小型カーボン炉は、グラファイト発熱体と高断熱構造、真空置換、不活性ガス雰囲気制御により、短時間加熱・高温均一性・低酸素雰囲気の両立を目指した装置です。 【研究現場の主な課題】 ■ 最大到達温度の制限により、高温処理条件を再現できない ■ 仕込みサンプル量や有効加熱域が小さく、スケール検討しにくい ■ 低酸素雰囲気の維持が難しく、酸化・再酸化が発生する ■ 乾式還元、黒鉛化、炭化、窒化条件を小型炉で検討したい ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
SiC・TiC・ZrCなどの炭化反応を、低酸素・高温環境で事前評価
設備導入前の炭化・高温焼成テストに対応可能です。 温度、雰囲気、処理時間などが未確定の段階でも、目的に応じたテスト条件の検討からご相談いただけます。 実サンプルを用いた事前評価により、反応性などを確認し、設備仕様の検討に活用できます。 当社では、真空→不活性ガスへ段階置換できる小型の「カーボン炉」を 取り扱っております。 固相炭化(粉末混合法・被覆法・浸炭)や複合炭化(B4C併用など)による 高硬度化、炭素供給条件の最適化(炭素材の種類・比率・接触状態)などの 実験・プロセスに使用可能です。 ご要望の際は、当社までお気軽にお問い合わせください。 【当社カーボン炉が選ばれる理由(一部)】 ■短時間で高温域へ ・1600-2800℃＊＊を安定到達・保持 ・炭化に効く温度目安：SiC 1600–2000℃、TiC 1500–2100℃、ZrC 1800–2300℃ ■極低酸素分圧で副反応を抑制 ・真空引き→Ar/N2へ置換 ・炉材カーボンのゲッタリングで残存酸素を低減、CO生成を抑える ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
容易に欠陥(EPD)の少ない結晶を得ることが可能な炉体移動式のVGF炉です
『MAT-200VGFHQ』は、石英管式炉体移動型の炉構造であるVGF製造炉です。 ヒ素圧1atm中で育成するので、容易に欠陥(EPD)の少ない結晶を得ることが 可能。常用温度は1200℃、最高温度は1300℃です。 また、育成後のGaAsインゴットとPBN坩堝は、液体に浸漬することで分離します。 さらにPBNるつぼと石英アンプルは、再使用が可能です。 【特長】 ■育成後のGaAsインゴットとPBN坩堝は、液体に浸漬することで分離 ■PBNるつぼと石英アンプルは、再使用が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
破断試験片・引張試験片・衝撃試験片・発光分光試験片やテストピースなど 1台でさまざまな形状を鋳造できる溶解炉
試験片用溶解炉はインダクション（高周波誘導加熱）で金属を溶解後 カーボン型や銅鋳型、鉄鋳型に注ぎ入れて形にします。 型を変更するだけで、さまざまな形状の試験片を製作することが可能です。 また切削加工で出るダライ粉からの製作も可能です。 鉄系・非鉄系合金など、高周波誘導加熱又はアークで溶解可能な金属は全て対象です。 その他金属の特性に合わせてオプション機構も取り付けられます。 ■溶解時／傾注時の真空加圧 ■鋳型回転 ■不活性ガス置換 ■真空中攪拌 ■真空中での添加元素 ■鋳型の冷却機構 ■アーク溶解 【その他の特長】 ～大がかりな設備投資がいりません～ キャスター移動式のコンパクトサイズのため配線・配管設備等の工事だけでご使用いただけます。 ～カスタマイズにも柔軟に対応します。～ ご希望の金属や溶解量、オペレーションや安全機構など、ヒアリングを行い適切な装置をご提案いたします。 オーダー機械の実績も多数ございますので、お気軽にお問い合わせください。 ～充実したアフターフォロー～ 機械メンテナンスだけでなく、導入後の技術的な伴走型支援を行います。
卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
◉ 卓上サイズ 省スペース：258(W) x 360(D) x 363(H)mm（*2inch用チャンバー本体設置寸法） ◉ カスタマイズ自在なヒーター構造： - 円筒状ヒーター：るつぼ内サンプル焼成（固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用） - 面状ヒーター：Φ2"〜Φ4"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉ 昇温時間最速約15分（1500℃）、降温1500℃→100℃まで最短約40分（真空、およびガス置換雰囲気） ◉ ハイスペック&ハイコストパフォーマンス ◉ シンプルな構成、優れた操作性 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。
2,000〜3,000℃級の高温処理で、酸化・特性ブレを抑える小型カーボン炉
「温度は出るのに、狙った反応場が作れない」 炭素材料、セラミックス、高融点材料の高温処理では、単に温度を上げるだけでは十分ではありません。 炉内酸素、昇温速度、熱履歴、炉内雰囲気のわずかな違いにより、酸化・再酸化、特性ブレ、反応ムラが発生する場合があります。 本資料では、極低酸素雰囲気と2,000〜3,000℃級の高温処理を両立する「小型カーボン炉」の実力を、現場目線で解説します。 【このような課題に】 ■ 昇温はできるが、サンプル状態や特性が安定しない ■ 大型炉では立ち上げに時間がかかり、条件出しが難しい ■ 高温処理中の酸化・再酸化を抑えたい ■ 酸素管理と熱履歴をそろえて、結晶性・導電性・微構造を再現したい 小型カーボン炉では、短時間試行、条件変更、酸素管理、熱履歴管理を行いやすく、研究開発・試作段階での条件検討に適しています。 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
