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炉(ヒーター) - メーカー・企業と業務用製品 | イプロスものづくり

更新日: 集計期間:2026年06月10日~2026年07月07日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

炉の製品一覧

271~300 件を表示 / 全 315 件

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るつぼ形低周波誘導炉

電磁誘導作用により、溶解物を直接加熱し溶解させるので、効率のよい溶解が可能!

弊社では、誘導炉の設計、製造、現地工事、修理、改造を行っております。 自社製・他社製を問わず提供してきたメンテナンス業務は、長年の歴史の中で 研ぎ澄まされ、大型誘導炉から小型ヒータまで21世紀の先進技術を注入しています。 【特徴】 ■炉容量(鋳鉄換算値):800 ~ 30000kg ■適用周波数:50/60Hz ■撹拌力:大きい ■操業性:残湯操業 ■スターティングブロック:必要 ■残湯溶解:必要 ■高調波対策:不要 ■設備費用の比率:1 ■残湯溶解で単一品種の繰り返し。 ■長時間の連続操業に適する。

  • 製造受託

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ストランド炉(線材光輝焼鈍炉) 

一つの炉で径の異なる線材の熱処理が可能です。また、角型、丸型、楕円型など様々な形状にも対応できます。

サンファーネスでは連続式の『ストランド炉(線材光輝焼鈍炉)』を得意としています。ヒータ交換や定期メンテナンス作業の簡略化、焼鈍管の炉内への出し入れがスムーズに行えるような築炉構成をいたします。 【課題解決】こんな課題を解決してきました ■炉内に体積する酸化スケールの清掃、点検を簡単に行いたい ■コ炉の電力コストの抑制、作業効率を上げたい ■焼鈍管交換を簡単に行いたい 制御盤のプログラムの工夫により電力コスト削減や作業効率を上げることも可能です。 小ロット生産 ・ 熱処理試験・ 少量サンプル製造などご相談ください。 ​ ※詳しくはお問い合わせ、またはPDFをダウンロードしてください。

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半自動真空ホットプレートチャンバー 「PH-224S-42型」

小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。

半自動真空ホットプレートチャンバー 「PH-224S-42型」は、小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。 加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 ウエハ加熱バッチ炉として、6”ウエハ3枚、8”ウエハ2枚の処理能力があります。 【特徴】 ○最高温度 300℃ 対応 ○温度コントローラーは、専用タイプにより  プロセスの確認に必要なデータを取得(アナログ出力)できる ○バルブ動作 自動対応(レシピに合わせてプログラム可能) 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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高温熱処理炉『TOR-14』

炉内温度分布の均一性が特長!試料着脱は簡易蓋開閉方式及び試料昇降機構によります

『TOR-14』は、加熱温度2000℃(Max.)、1800℃(Nor.)の高温熱処理炉です。 省スペース、省電力、省冷却水によるエコ設計。 排気系はターボ分子ポンプ又はDPに変更が出来ます。 オプションとして、ルツボ形状選択や、真空排気ユニット取付、冷却水チラー取付をご用意しております。 【特長】 ■炉体、制御部一体化によるコンパクト設計 ■試料着脱は簡易蓋開閉方式及び試料昇降機構による ■炉内温度分布の均一性 ■省スペース、省電力、省冷却水によるエコ設計 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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特殊炉【雰囲気プレス炉】

プレス圧力最高14MPaの特殊炉【雰囲気プレス炉】

電気炉・雰囲気炉/加熱・熱処理技術のエキスパート企業 丸祥電器社が取り扱う『特殊炉【雰囲気プレス炉】』のご案内です。 ■□■特徴■□■ ■常用/最高温度:900℃/1000℃ ■プレス圧力:最高14MPa ■詳細は、お問い合わせ下さい。

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ストランド式炉(線材光輝焼鈍炉) 

水冷パイプや冷却管の交換も可能。

サンファーネスでは連続式の『ストランド式炉(線材光輝焼鈍炉)』を得意としています。加熱パイプの交換はもちろんのこと、水冷パイプや冷却管の交換も可能です。また冷却帯(水槽)にもシール機構を組み込むことで1本単位で交換することも可能です。 【製品例】ストランド式炉でつくられる身近な製品例 ■ステープル ■眼鏡フレーム材 ■CPUヒートパイプ ■釣針 ■ばね用線材 ■ボルト・ナット用線材 ■金網 ■カテーテル用マーカーパイプ ■補償導線素材 ■溶接棒材 ■熱電対素線 制御盤のプログラムの工夫により電力コスト削減や作業効率を上げることも可能です。 小ロット生産 ・ 熱処理試験・ 少量サンプル製造などご相談ください。 ​ ※詳しくはお問い合わせ、またはPDFをダウンロードしてください。

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雰囲気制御一方向凝固炉『VFK-1800-BR』

粉体焼成から結晶成長までの多目的な使用が可能な雰囲気制御一方向凝固炉

『VFK-1800-BR』は、空気中で1800℃までのニ硅化モリブデン発熱体を 用いた高温電気炉に炉芯管及び、坩堝の昇降機構を加えた縦型昇降炉です。 炉芯管及び坩堝の昇降機構により、雰囲気を制御しながら、粉体焼成から 結晶成長(ブリッジマン法)までの多目的な使用が可能です。 プログラムコントローラからのイベント出力により、遅送りモータの駆動の 自動運転、停止ができ、温度とモータ駆動のプログラムがPC上で自在に 操作できます。 【特長】 ■粉体焼成から結晶成長までの多目的な使用が可能 ■遅送りモータの駆動の自動運転、停止が可能 ■温度とモータ駆動のプログラムがPC上で自在に操作可能 ■制御温度と炉内温度はPC画面上でモニターできる ■データ取りも簡単に操作可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ウォーキングビーム式封止炉

微細振動が少なくワークに負担がかからずに搬送が可能です

コンベヤ搬送のような微細な振動が少ないため、ワークを静かに搬送することが可能です。また、摩擦が小さいのでコンタミが少ないのも特長です。 【仕様】 ● 温度:480~600℃ ● 雰囲気:窒素 ● 用途:焼成 ● 処理物:ガラス ● 処理量:70Kg/ch ● 電気容量:120kW 【製品例】雰囲気炉でつくられる身近な製品例 ■ 表示管ガラス ■ カテーテル用マーカーパイプ ■ 磁性材料 ■ 通電検査機器用精密管 ■ CPUヒートパイプ ■ エンジン部品 ■ ブレーキ部品 【その他の導入事例】 ■ 酸化させずにアルミを焼鈍処理したい →『ローラーハース式軟化炉』 ■ 材料を浸炭させたい →『バッチ型雰囲気ガス浸炭炉』 ■ 粉体を窒化処理させたい →『レトルト回転式窒化炉』 省エネ化、自動化、環境への配慮、安全性など新しい課題やご相談がございましたらお気軽にお声がけください。 *詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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磁場中熱処理炉『HV-0.5TS』【磁場中での高温熱処理が可能】

非磁性加熱源を採用で、磁場中での高温熱処理が可能!熱処理後に雰囲気をキープしたまま冷却チャンバにに移動しガス冷却することが可能!

非磁性加熱源を採用している為、磁場中での高温熱処理ができ、熱処理後 に雰囲気をキープしたまま冷却チャンバに移動し、ガスフローすること によりガス冷却することが可能。 また、冷却水循環装置、各種インターロック付きで、オプションとして 外径50及び60用熱処理チャンバとの交換取付ができます。 【仕様(抜粋)】 <熱処理チャンバ/加熱機構> ■外径40×長さ236mm 水冷式二重SUS316L円筒型 ■到達圧力:E-3Pa以下 ■真空排気/ガス導入:SWG1/4ベローズバルブ ■加熱方式:カーボン円筒ヒータ ■サンプルホルダー:φ15×φ12×50L 石英坩堝 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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雰囲気熱処理炉【バッチ型/連続式】

炉の出入口にエアの侵入を防ぐシール構造を採用しているため雰囲気ガスが漏れにくく特殊雰囲気ガスの使用も可能です

熱処理の用途に応じて雰囲気ガスを炉内に充填させて加熱処理する雰囲気炉が多く用いられています。充填する雰囲気ガスは、窒素やアルゴンなどの不活性ガスをはじめ、水素やAXガスなど、材料の性質や熱処理の目的によって多岐にわたります。 雰囲気炉メーカーであるサンファーネスでは、気密性が高い炉を仕様要件に沿って、オーダーメイドで製作いたします。 【特長】 ● 熱処理中にガスの切替が可能です。 ● バッチ式や連続式などのさまざまな形状の炉の取扱いがあります。 ● 粉末冶金向け脱脂炉の取扱いがあります。 【製品例】雰囲気熱処理炉でつくられる身近な製品例 ■ エンジン部品 ■ カテーテル用マーカーパイプ ■ 表示管ガラス ■ フライパン ■ ドライブトレーン部品 ■ カーエアコン部品 ■ 磁性材料 ■ 通電検査機器用精密管 ■ CPUヒートパイプ 【おもな雰囲気熱処理炉】 ■ バッチ型還元炉 ■ 竪型還元ろう付け炉 ■ ベル型窒化炉 ■ ピット型滴注浸炭炉 省エネ化、自動化、環境への配慮、安全性など新しい課題やご相談がございましたらお気軽にお声がけください。

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【塗装乾燥テスト設備】クイックキュアリングオーブンのご紹介

熱源最適化!4つの熱源でテスト可能。ガス/電気/ハイブリッド熱源でワークに好適な熱設備をご提案!お客様と共に徹底テストが可能です

QCOテスト設備 ■実際の生産現場に近い環境で塗装~乾燥の工程をテストいただけます。 ワークの温度測定を行うことができますので、 熱源を変えながら好適な加熱パターンを導き出すことが可能。 ワークは大物・長尺物にも対応可能ですので、お気軽に条件をご相談ください。 ■ガス熱風&ジェット加熱ゾーン 350℃&50m/secの噴流で塗装乾燥は勿論その他の加熱用途に対応可。 水素燃焼も可能ですので製品への影響を評価できます。 積載ワーク:800Wx800Dx1400H(最大)       50kg/ハンガー(最大) 搬送方式:トロリーコンベア(ハンガーピッチ300mm) 搬送速度:1~10m/min 塗装ブース:ノーポンプ型 乾燥炉:ガス赤外線バーナ(底面23kWx2、側面35kWx2、Max.800℃)     ガス遠赤外線パネル(116kWx1 Max.350℃)     ガス熱風&ジェット加熱(233kWx1、Max.350℃、50m/sec)※1     電気赤外線ヒータ(底面11kWx2、側面17.5kWx2、Max.800℃) ※1水素燃焼はご相談ください。

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加圧ガス冷却横型真空炉『PQシリーズ』

高い保持温度精度を実現する真空熱処理炉

『PQシリーズ』は、幅広い冷却ガス圧に対応可能な横型真空炉です。 加熱室内面はシールド板で被覆することで断熱材の飛散を抑制。 オプションとしてモリブデン板で被覆することで、加熱室内の放射効率を高め 温度分布均一性および均一加熱性を向上します。 また、低温度から高温度までの広範囲において、熱処理品の均一加熱と 分布の均一性を最良にするため、ヒータを上下および両サイドの4面に配置し、 前後方向に3分割制御しています。 【特長】 ■省エネルギー性を高めるため、インターナルチャンバ外表面温度を200℃以下に維持 ■開閉ドアは、クラッチ式ドアを採用し加圧下での安全性向上 ■加熱室下方からの冷却ガス吹き込み ■減圧:87kPa、加圧:130kPa~200kPa(オプション:280kPa)による冷却が可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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電気炉

電気炉

ファニー eKCB シリーズは、安全で扱いやすさを追求した小型タイプの電気炉です。 炉壁には高品質断熱レンガ、セラミックファイバー、スーパーボード、シリカボードを 4 層に重ね断熱保温効果を高めています。 発熱体は、世界的に信頼性の高いスウェーデンのカンタルヒーター線を採用し、ヒーターの表面積あたりの負荷を低く抑えていますので丈夫で長寿 命です。またヒーターはスパライル方式で溝に収納されていますので製品 の出し入れや線の交換が容易です。 焼成温度の制御は、プログラム式 PID 制御で、安定した昇温とキープができ、プログラムの変更が簡単なので、自分の焼成パターンを自由に組むことが出来ます。上扉の開閉は三箇所で止まりますので効果的な除湿、冷却ができます。オプションの還元バーナーをセットすれば本格的な還元雰囲気焼成も出来ます。

  • 電気炉
  • 分析機器・装置
  • その他FA機器

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真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉

◉最高使用温度 Max2000℃ ◉カスタマイズ自在なヒーター構造: - 円筒状ヒーター:るつぼ内サンプル焼成(固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用) - 面状ヒーター:Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉PLCセミオートコントロール タッチパネル画面で温度調節計以外の全ての操作を行います。 煩わしいバルブ開閉・ポンプ起動操作が不要、焼成作業前の「真空/パージ」サイクルと焼成作業後の「ベント」を1ボタンで自動シーケンスで行います。 ◉MFC最大3系統 自動流量制御(又は手動調整) ◉APC自動圧力コントロール ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm(*ロータリーポンプ筐体内設置) 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。

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アニール炉 Mini-BENCH-prism Max2000℃

最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉

◉最高使用温度 Max2000℃ ◉カスタマイズ自在なヒーター構造: - 円筒状ヒーター:るつぼ内サンプル焼成(固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用) - 面状ヒーター:Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉PLCセミオートコントロール タッチパネル画面で温度調節計以外の全ての操作を行います。 煩わしいバルブ開閉・ポンプ起動操作が不要、焼成作業前の「真空/パージ」サイクルと焼成作業後の「ベント」を1ボタンで自動シーケンスで行います。 ◉MFC最大3系統 自動流量制御(又は手動調整) ◉APC自動圧力コントロール ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm(*ロータリーポンプ筐体内設置) 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。

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【遠赤の話】遠赤外線加熱炉の特徴について

品質の向上!省力化!一般的な遠赤外線加熱炉の特徴についてご紹介

有限会社AMKは、工業用遠赤外線ヒーターと加熱装置・乾燥装置を取り扱っている会社です。 遠赤外線ヒーターを配置した面に平行に被加熱物を連続的に搬送させ加熱することが一般的な遠赤外線加熱炉であります。 これにより加熱処理時間の短縮、品質の向上、工程合理化、省力化ができるのが大きな特徴です。 そのため、熱風炉から連続式遠赤外線炉への転換が進んできたことは知られていることです。    ただし光と同じ作用であることから、陰になる所、立体形状でヒーターからの距離が部位により異なる場合、ファンを併用しても均一加熱は難しいことが多いのです。 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他ヒータ
  • 加熱装置
  • 乾燥機器

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アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板対応、 高真空アニール装置(<5 × 10-7 mbar)

高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により3種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター:Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター:Max1000℃(真空中、不活性ガスのみ) ・SiCコーティングヒーター:Max1000℃(真空、不活性ガス、O2)

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真空炉『Mini-BENCH furnace卓上型実験炉』

卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。

◉ 卓上サイズ 省スペース:258(W) x 360(D) x 363(H)mm(*2inch用チャンバー本体設置寸法) ◉ カスタマイズ自在なヒーター構造: - 円筒状ヒーター:るつぼ内サンプル焼成(固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用) - 面状ヒーター:Φ2"〜Φ4"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉ 昇温時間最速約15分(1500℃)、降温1500℃→100℃まで最短約40分(真空、およびガス置換雰囲気) ◉ ハイスペック&ハイコストパフォーマンス ◉ シンプルな構成、優れた操作性 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。

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電気炉『連続式燃焼雰囲気炉』

エージング処理などの用途に!900℃まで対応の連続式燃焼雰囲気炉

電気炉、変圧器、製缶、電気機器の製造・販売・修理を行う 株式会社日本電炉工業では、多様な電気炉を取り揃えております。 『連続式燃焼雰囲気炉』は、900℃まで対応の雰囲気路です。 エージング処理などの用途に適しています。 その他、各種炉のカスタム対応も可能です。 【仕様】 ■炉内:マッフル構造 ■駆動:全自動プッシャー ■冷却:水冷 ■温度:~900℃ ■雰囲気:燃焼ガス λ=0.8~1.0 ■ヒーター:パネルヒーター ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』

Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置 研究開発から小規模生産まで多目的に幅広く対応するハイパフォーマンス機

◾️ Max2000℃ ◾️ 有効加熱範囲:Φ6〜Φ8inch 枚葉式、又はバッチ式(多段5枚カセット) ◾️ ヒーター制御:1ゾーン、又は2ゾーン(カスケード制御) ◾️ ヒーター材質: ・C/Cコンポジット:Φ6〜Φ8inch ・PGコーティング 高純度グラファイト:Φ6〜Φ8inch ◾️ 使用雰囲気: ・真空(1x10-2Pa)、不活性ガス(Ar, N2) ◾️ PLCセミオート運転 ・真空/パージサイクル、ベントの自動シーケンス制御 ・フルオート自動運転(オプション) ・タッチパネル操作、操作が分散せず一元管理が可能です。 ◾️ プロセス圧力制御 ・APCコントロール(MFC流量、又は自動開度調整バルブ PIDループ制御) ・MFC最大3系統流量自動制御、又はフロートメーター/ニードルバルブの手動調整 ◾️ PLOT画面グラフ表示、CSVデータ出力

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小型カーボン炉|低酸素×3000℃級を実現する設計構造

真空置換・高気密構造・グラファイト加熱で、低酸素と3000℃級処理を両立

当社で取り扱う「小型カーボン炉」は、低酸素雰囲気と3000℃級の超高温処理を両立できる加熱炉です。 高温処理では、炉内に残った酸素や微小リークが、酸化・再酸化・材料劣化の原因となる場合があります。 本設備では、真空ポンプによる置換、高気密シール設計、グラファイトヒーターによる高効率加熱により、酸素の影響を抑えた超高温処理が可能です。 炭素材料の黒鉛化、SiC・B4Cなどのセラミックス焼成、高融点材料の熱処理など、一般的な電気炉では温度や雰囲気が不足する用途に適しています。 【特長】 ■ 真空置換により炉内残留酸素を低減 ■ 高気密シール設計で微小リークを抑制 ■ グラファイトヒーターで短時間に超高温域へ昇温 ■ 3000℃クラスまで安定到達可能 ■ 長時間運転でも低酸素雰囲気を維持しやすい構造 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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熱処理炉 『ヒーター リフレクター シールド キャリア』

タングステン・モリブデン製ホットゾーンの設計からメンテナンスまでトータルサービスを提供。

真空中や制御雰囲気の炉内では、最高温度 が3000℃にも及ぶ事があります。その様な過酷な環境では、モリブデン、タングステン、タンタル、ニオブが最適な材料です。 特に高度な焼結技術、熱処理技術、真空ロウ付け、最先端研究などで使用される高温炉のホットゾーン構造体には、プランゼーの高温安定性とクリープ特性に優れた高品質材料と、長い経験とノウハウに裏付けられた確かな設計力が必要不可欠です。 プランゼーは創業以来90年に及ぶ粉末冶金技術と、最新の材料・接合技術・シミュレーションを活用し、お客様に最高品質の高温炉構造体と周辺部品をお届け致します。

  • 工業炉
  • アニール炉
  • 加熱装置

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焼鈍炉 『ヒーター リフレクター シールド キャリア』

タングステン・モリブデン製ホットゾーンの設計からメンテナンスまでトータルサービスを提供。

真空中や制御雰囲気の炉内では、最高温度 が3000℃にも及ぶ事があります。その様な過酷な環境では、モリブデン、タングステン、タンタル、ニオブが最適な材料です。 特に高度な焼結技術、熱処理技術、真空ロウ付け、最先端研究などで使用される高温炉のホットゾーン構造体には、プランゼーの高温安定性とクリープ特性に優れた高品質材料と、長い経験とノウハウに裏付けられた確かな設計力が必要不可欠です。 プランゼーは創業以来90年に及ぶ粉末冶金技術と、最新の材料・接合技術・シミュレーションを活用し、お客様に最高品質の高温炉構造体と周辺部品をお届け致します。

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電気炉 『ヒーター リフレクター シールド キャリア』

タングステン・モリブデン製ホットゾーンの設計からメンテナンスまでトータルサービスを提供。

真空中や制御雰囲気の炉内では、最高温度 が3000℃にも及ぶ事があります。その様な過酷な環境では、モリブデン、タングステン、タンタル、ニオブが最適な材料です。 特に高度な焼結技術、熱処理技術、真空ロウ付け、最先端研究などで使用される高温炉のホットゾーン構造体には、プランゼーの高温安定性とクリープ特性に優れた高品質材料と、長い経験とノウハウに裏付けられた確かな設計力が必要不可欠です。 プランゼーは創業以来90年に及ぶ粉末冶金技術と、最新の材料・接合技術・シミュレーションを活用し、お客様に最高品質の高温炉構造体と周辺部品をお届け致します。

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研究開発向けメタル炉|真空・還元雰囲気・高温熱処理対応

真空・還元雰囲気で、材料開発や高温熱処理をサポート

研究開発や試作評価では、材料ごとに温度・雰囲気・処理時間を細かく検討できる高温炉が必要です。 特に、セラミックスと金属の接合、ろう付け、アニール、焼成、還元雰囲気処理では、炉内の清浄性や雰囲気制御が品質に影響します。 弊社のメタル炉は、Mo・Wなどの金属ヒーターを用いた高温雰囲気炉で、真空・N2・Ar・H2などの雰囲気に対応可能です。 大学・研究機関・企業研究所での材料評価、試作、量産前検討まで、処理物の材質・サイズ・温度・雰囲気に応じてカスタム設計します。 ■ 研究開発用の高温炉を探している ■ セラミックスと金属の接合・封着を検討したい ■ ろう付け、アニール、焼成条件を評価したい ■ 真空・N2・Ar・H2雰囲気で処理したい ■ 既製炉では温度、炉内寸法、雰囲気条件が合わない

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メタル炉|光学部品の封着・ろう付け・高純度雰囲気焼成向け

高純度雰囲気で、光学部品の封着・ろう付け・熱処理をサポート

光学部品の製造では、材料の酸化や汚染を抑えながら、安定した温度・雰囲気で処理することが重要です。 特に、セラミックスと金属の気密封着、ガラス封着、ろう付け、アニール、焼成では、炉内雰囲気の清浄性や温度均一性が品質に影響します。 弊社のメタル炉は、Mo・Wなどの金属ヒーターを用いた高温雰囲気炉で、真空・N2・Ar・H2などの雰囲気に対応可能です。 光学部品、センサ部品、電子部品、セラミックス部品など、処理物の材質・サイズ・温度・雰囲気に応じてカスタム設計します。 ■ セラミックスと金属の気密封着を行いたい ■ 光学部品のろう付け・アニール条件を検討したい ■ 酸化や汚染を抑えた雰囲気で熱処理したい ■ 真空・N2・Ar・H2雰囲気で処理したい ■ 既製炉では温度、炉内寸法、雰囲気条件が合わない

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カーボン炉|炭化・黒鉛化・高温焼成向け 最高3000℃対応

最高3000℃の高温焼成に対応。炭化・黒鉛化・脱脂処理を低酸素雰囲気でサポート

カーボン炉は、炭化処理・黒鉛化処理・高温焼成・脱脂処理・粉末冶金・セラミックス焼成など、2000℃を超える高温プロセスに対応した電気炉です。 炉内ヒーターにカーボン材を使用することで、常圧~最高3000℃クラスの高温処理に対応可能です。 また、真空引き後にAr・N2などの不活性ガスへ置換することで、材料の酸化を抑制しながら焼成できます。 特に、以下のような課題をお持ちのお客様に適しています。 ■2000℃以上の高温焼成を実施したい ■炭素材料、C/Cコンポジット、SiC、セラミックスを焼成したい ■脱脂後の炭化・黒鉛化処理を一貫して行いたい ■Ar、N2、真空、必要に応じてH2含有雰囲気で処理したい ■酸化を抑えた低酸素雰囲気で焼成したい ■ラボ試験から量産設備まで検討したい 弊社では、処理物のサイズ、処理温度、雰囲気ガス、到達酸素濃度、昇温パターン、冷却条件に応じて、カスタム仕様のカーボン炉を設計・製作します。

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真空雰囲気焼成の炉選定|脱ガス・酸化抑制・高純度処理に対応

真空度・処理目的に応じて適した電気炉を選定

真空雰囲気焼成では、目的によって必要な到達圧力や炉構成が変わります。 脱ガス・乾燥であれば数Pa~数百Pa程度、酸化抑制であれば真空排気とN₂・Ar置換、高純度処理では10⁻³~10⁻⁴Pa級の高真空が必要になる場合があります。 そのため、単に「真空で焼成したい」という条件だけではなく、処理目的、温度帯、残留O₂、発生ガス量、炉内材質、ヒーター材質、排気系、安全対策まで含めて検討することが重要です。 本資料では、真空雰囲気焼成の目的別に必要な圧力目安、炉種選定、設備仕様に影響する確認ポイントを整理しています。 ■脱ガス・乾燥・酸化抑制の検討に ■高真空・高純度雰囲気での焼成検討に ■メタル炉・マルチ炉・カーボン炉・管状炉の使い分けに ■設備導入前の仕様整理・焼成テスト検討に

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材料開発の焼成条件探索|小型炉で試作評価から設備設計まで対応

条件未確定の段階から、焼成テストと設備仕様化を支援

材料開発で、焼成温度・保持時間・雰囲気条件が決まらずお困りではありませんか? 材料開発の初期段階では、焼成温度、保持時間、雰囲気、炉種、サンプル量、回収方法などが未確定なケースが多くあります。 また、N₂、Ar、H₂、NH₃、真空、加湿、Cl₂、HClなど、複数雰囲気で比較したい場合や、粉末・成形体・基板・治具・部品に合う炉構成を確認したい場合もあります。 Thermonik ENGでは、条件が固まっていない段階から、目的・サンプル条件を整理し、小型炉で温度・時間・雰囲気を変えた試作評価に対応します。 得られた結果は、炉内寸法、ヒーター、断熱、ガス系、排気安全設計など、設備仕様・炉設計へ反映します。 ■材料開発段階の焼成条件探索に ■小型炉での試作評価・反応性確認に ■複数雰囲気・複数炉種の横断検討に ■設備導入前の仕様化・炉設計検討に

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メタル炉|極真空・高純度雰囲気でO・C・H₂O由来の影響を低減

酸化物・窒化物材料の脱ガス・脱水・脱炭を、極真空〜還元雰囲気で制御

当社で取り扱う「メタル炉」は、極真空雰囲気での高純度熱処理に対応した電気炉です。 炉内のホットゾーンをメタル材で構成することで、黒鉛材・断熱材・有機物由来のアウトガスやカーボンコンタミを抑制し、 酸素・炭素・水分の影響を低減したクリーンな熱処理環境を形成します。 メタル炉では、金属ヒーター・金属チャンバー構造により、極真空からAr/N₂/H₂などの雰囲気制御まで対応し、 高純度粉末やセラミック部材の脱ガス、脱水、脱炭、還元処理に適用できます。 【特長】 ■ 極真空雰囲気に対応 ・10^-3〜10^-5 Paの真空到達に対応 ■ メタルホットゾーン構成 ・金属ヒーター、金属チャンバー構造により、炉材の混入を抑制 ■ 高精度な温度・雰囲気制御 ・真空、Ar、N₂、H₂など、目的に応じた雰囲気制御に対応 ■ 小型から大型へのスケールアップに対応 ・小型機で条件確認後、大型炉への展開も検討可能 また、設備導入前の条件確認として、実サンプルを用いた焼成テストにも対応可能です。 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

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