ワニス処理乾燥炉 ワニス滴下式連続乾燥炉熱風循環方式
ロボットにて滴下位置を少しずつずらしながら行います。
動作中のポジション・速度変更に対応します。また、炉内ワークデータを管理し、ワーク毎に滴下位置を変更する事が可能です。
- 企業:日本フルックス株式会社
- 価格:応相談
更新日: 集計期間:2025年03月26日~2025年04月22日
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ロボットにて滴下位置を少しずつずらしながら行います。
動作中のポジション・速度変更に対応します。また、炉内ワークデータを管理し、ワーク毎に滴下位置を変更する事が可能です。
着脱式ロボットに連結します
予熱炉が高周波加熱方式のワニス滴下式連続乾燥炉です。設定温度・タクトタイム・各ステーション数については、ワークの条件に合わせて設計いたします。
遠赤外線ヒーターの放射熱を有効利用してアニール時間を大幅に短縮
遠赤外線ヒーターの放射熱を有効利用してアニール時間を大幅に短縮します。 樹脂成形品のアニール処理を画期的に変えるシステムです。 ●処理時間の大幅短縮 遠赤外線の放射加熱及び熱風拡散を併用する事により処理時間を大幅に短縮できます。 従来温風バッチ炉 1〜2時間→ノリタケアニール炉 3〜5分 ●コンベア式による連続処理 処理時間が短くなる事により、コンパクトな連続炉となります。その為、成形機直結の連続処理にも対応でき、生産効率が上がります。 ●品質向上 応用性に優れた遠赤外線ヒーターと熱風加熱の併用により、均一に加熱する事ができます。さらに、連続処理する事により寸法精度が安定します。 寸法精度:±5/100mm→±2/100mm
遠赤外線コンベア炉!遠赤外線セラミックヒーターを使用した連続方式の加熱炉です。
※その他、SUSメッシュベルト、ウォーキングビーム搬送、トンネル炉など 製品・用途・処理温度などに合わせたカスタム設計ができます。
400℃までの加熱に対応、卓上型リフロー炉(加熱炉)
標準で250x330mmまでの実装基板や平板状ワークの加熱が行える卓上型加熱炉です。加熱温度プロファイルは8ゾーンまで設定可能。リフローはんだ付けとしての使用はもちろん、一定温度での長時間運転も可能なため、基板の乾燥、アンダーフィル材やダイボンディングペーストの熱硬化等の用途にもご利用いただけます。
非鉄金属や特殊合金の溶融に!多様な実験目的に適した卓上型の溶解炉・鋳造炉
非鉄金属と特殊合金の溶融用の特長を数多く備えた、 技術的に比類ない卓上型溶解炉機種
樹脂乾燥炉・金属塗装乾燥炉・天板乾燥炉・水切乾燥炉もございます!
当社の乾燥炉の熱源は、電気、スチーム、ガス、灯油です。 形式は直火式、交換式、遠征期外線式等、用途により選定します。 水・油・プラスチック・金属・木材等、様々な乾燥に適応し、 作業効率の合理化ができる装置です。 【製造実績炉】 ■プラスチック乾燥炉 ■基板乾燥炉 ■ファンネル乾燥炉 ■洗浄油乾燥炉 ■フラッシュドライヤー など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
応答性に優れた遠赤外線ヒーターと熱風加熱の併用により、均一に加熱することが可能!
『遠赤外線アニール炉』は、樹脂成形品のアニール処理を画期的に変える システムです。 遠赤外線ヒーターの放射熱を有効利用してアニール時間を大幅に短縮。 処理時間が短くなる事により、コンパクトな連続炉となり、 成形機直結の連続処理にも対応でき、生産効率が上がります。 【特長】 ■処理時間の大幅短縮 ■コンベア式による連続処理 ■品質向上 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
特別ラボラトリーにおける熱損失量測定と熱重量分析(TGA)のためにこの高温炉が開発されました。
<説明> ■ 総合システムは、1600 °C または1750 °Cの高温炉、台型テーブル、炉内測定の精密計量器、および時間内での温度変化の進行と重量損失を記録する高性能のソフトウェアからなります。
廃プラ屑やゴム屑、木屑なども混合処理可能!綺麗に金属が取り出せます。
「金属と樹脂が一緒にくっ付いている物や、電線被覆などから金属だけを 取り出したい」そんなお悩みにお応えします。 当社の取り扱う装置を使用して処理すると、綺麗に金属が取り出すことが 可能となります。 また「もっと処理量を増やしたい」という要望がある企業様には 連続投入炉もご用意しております。まずはお気軽にご相談ください。 【メリット】 ■始めから終わりまで、煙・臭い無しで環境に配慮している ■減容率も約2~8%まで落とせる ■他の廃プラ屑やゴム屑、木屑なども混合処理可能 ■小型であれば、面倒な行政への届出や許可不要(自社ゴミの場合) ■運転に人手が殆ど掛からず省力的 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
上下加熱、最高400℃までの加熱に対応、卓上型リフロー炉(加熱炉)
昇温速度と温度均一性の更なる向上を目的に、SVO-1の上位機種として 新たにラインナップに追加した卓上型リフロー炉 SVO-1 Plusです。 炉内の上下にヒーターを配置し、各ヒーター出力も個別に設定できます。 対象ワークに適した加熱温度設定やヒーター出力の最適化により、 サイクルタイムの短縮およびワーク温度の均一性の向上を図ることができます。 リフローはんだ付けとしての使用はもちろん、一定温度での長時間運転も可能なため、 基板の乾燥や、熱硬化等の用途にもご利用いただけます。 【特長】 ■基板の上下加熱に対応 ■ 各ヒーター出力の設定が可能 ■ 最大400℃までの加熱に対応 ■ 最大8ゾーンまでの温度プロファイル設定 ■ 一定温度で最長10時間までの継続運転 ※詳しくはPDFダウンロード、またはお問い合わせください。
赤外線集光加熱により秒速・高温・均一加熱が可能です。お客様のニーズに合わせて製作致します。
「IR-FP Series」は、Max1100℃まで加熱可能な平板型の赤外線加熱炉です。 各ゾーンごとの出力調整が可能なため、色々な温度環境での加熱が可能です。 クリーンな加熱で真空対応やガスフロー、観察も可能です。シリコンウエハ、化合物半導体及び薄版鋼板加工の加熱に最適です。 樹脂やフィルム、接着剤の耐熱・変形・観察の用途に使用できます。 試料サイズにより炉サイズの対応が可能です。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
小型で安全、低価格。ラボ用途に最適なUV硬化炉。
・長寿命のLEDタイプ(LEDタイプのみ) 20 000時間以上の長寿命を実現し、熱も殆ど発生しません。 ・パワーコントロール(LEDタイプのみ) 照射パワーを2%から100%まで調整することが出来ます。 ランプの場合は最大照射強度に達するまで時間が掛かりますが、 LEDはスイッチをONした瞬間から最大強度で照射出来ます。 ・アイアン(Iron)・水銀(Hg)・ガリウム(Ga)の3種類のランプから 選択が可能です。 ・安全性 密閉される扉により光の漏れを防止します。 照射シャッター開閉によるインターロックも付いており、 タイマーによる照射時間の設定も可能です。 ・コンパトなサイズ コンパクトでありながら約180×180×180mmの 実用的なワークスペースがございます。 (ランプタイプ、LEDタイプ共通) より大きなワークスペースをご希望の場合、UV PITARI 400を ご選択頂けます。 ・均一な照射 チャンバーの内壁はディンプル加工された反射板なので、 ワークに対して均一なUV照射が可能です。
独立した過昇温防止機能搭載!流動エアはシステムによって自動的に制御されます
『FTBLL27/FTBLL47』は、より効果的な熱処理を行うための4つの制御ゾーンを 持つPID温調器が使用されている流動層熱処理炉です。 温度が610℃を超えた場合や、エア供給圧力が4.1barを下回った場合には、 独立した過昇温防止機能によって加熱が停止。 また、コントロール・ボックスは多関節アームに設置されているため、 流動層炉が使いやすいようにボックスを邪魔にならない位置に動かすことが できます。 【特長】 ■流動エアは全自動制御 ■独立した過昇温防止機能 ■より良い仕上がりを可能にする高度なPID温調器 ■確実な動作を可能にする堅固な構造 ■ほとんどの工具を60分未満で洗浄 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
さまざまな種類のポリマー、塗料、接着剤、樹脂を除去!ほとんどの工具を60分未満で洗浄
『FTBLL12、FTBLL12W、FTBLL26』は、より効果的な熱処理を行うための 4つの制御ゾーンを持つPID温調器が使用されている流動層熱処理炉です。 温度が615℃を超えた場合や、システムの不具合が発生した場合には、 独立した過昇温防止機能によって加熱が停止します。 システムは2つのヒューズで保護され、安全性が向上し、さらに PC接続用のRS485コンピューター・インターフェースを装備。 メーカーのwebサイトからソフトウェアをダウンロードいただけます。 【特長】 ■流動エアは全自動制御 ■独立した過昇温防止機能 ■最良の仕上がりを可能にする高度なPID温調器 ■長期にわたる確実な動作を可能にする堅固な構造 ■ほとんどの工具を60分未満で洗浄 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。