更新日： 集計期間:2026年01月14日～2026年02月10日
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ギ酸ガス・水素ガス還元両対応！鉛フリー、ボイドレス、フラックスレスを実現！
『RSO-300/200』は、大気・窒素・真空・ギ酸・水素などの各リフローに1台で 対応し、タッチパネルを搭載した多機能なはんだリフロー装置です。 ホットプレート下部に、縦12本・横12本の高速赤外（IR）光ヒーターを 交差するように（クロス配列）装備することで、対象物の熱容量に 左右されづらい、安定した加熱と高速昇温を実現。 通常のリフローの他、金属ナノペーストなどの焼結にも好適です。 【特長】 ■高純度石英チャンバー：オプション対応 ■クロス配列：高速赤外（IR）光ヒーター搭載 ■7インチタッチパネルを標準装備 ■窒素パージによる冷却 ■真空はもちろん、ギ酸や水素など多彩なリフロー環境を設定可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
先端材料の研究開発などに！ご使用に応じた設計製作も可能ですので、何なりとご相談下さい
株式会社ヤマトでは『真空装置』に関連する製品を取り扱っております。 1100℃と高温まで加熱できる能力を持ち、プログラム温度調節計にて 温度ステップを設けることができる「高温管状炉」をはじめ、気密性の高い ステンレス製の容器にグローブを取付け、空気中で扱えない試料をグローブを 使用して取扱い、作業することができる「ピュアボックス」を各種ご用意。 また、ご使用に応じた設計製作も可能ですので、何なりとご相談下さい。 【ラインアップ】 ■高温管状炉 ■ピュアボックス(グローブボックス) ■サウンド・ピュアボックス ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
球状シリカシリーズ / ゾルーゲル法による単分散粉末
Sukgyung ATでは、トナーの使用量を節約するための球状シリカ粉末を開発しました。ゾルーゲル法を用いて製造される球状シリカ粉末をトナー粒子に塗布することによってトナーの使用量の大幅な削減が可能となります。 すでに多くの海外有力企業様にご好評頂いております弊社の球状シリカ粉末から、RoHS規制対象の元素は検出されておりません。 さらに、弊社の研究開発センターでは、お客様のご用途に対して、様々なご要望に対応する、最適な粒子サイズの調整と多様な表面処理をご提供いたします。
長年に渡り蓄積された熱工学の集大成！容器内の大気にさらされるサンプル材料の表面積を増やすのに役立ちます
『TSO回転式(揺動)チューブ炉』シリーズは、高品質の発熱体と革新的な 断熱設計を組み込んでおり、ケース温度と消費電力の両方を抑えながら、 ファーストクラスのパフォーマンスを実現する回転炉です。 当製品は、高温での粉末または粒状材料の処理またはテスト用に特別に設計。 材料が入れられる炉の中に石英容器が取り付けられています。 可変速駆動システムは、加熱ゾーン内で容器を314°回転させて揺動運動を 生成します。 【概要】 ■最高温度：1100℃ ■加熱長：400,600,800,1000mm ■使用方向：水平 ■原子炉容器Ø：120mm ■加熱ゾーン数：1ゾーン、及び3ゾーン ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
炉内全域にむらのない熱風がゆき渡る循環方式設計。タイマーによる無人処理も可能
『ベーキング炉』の循環方式は炉内全域にむらのない熱風がゆき渡るよう 設計されています。 ベーキング特有の高温、長時間処理に応じた使い易さにするために 工場運搬用2台、処理用台車（耐熱トロッコ付）2台を使用。※別売り 自動温度調整により一般乾燥、焼付等にも兼用できます。 また、タイマーによる退社後の無人使用も可能な設計になっております。 【特長】 ■台車利用で高温、長時間処理に応じた使い易さを実現 ■炉内全域に熱風がゆき渡る循環方式設計 ■自動温度調整 ■タイマーによる無人使用も可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
上部より試料を取り出す方式のポット炉で簡単操作で簡易雰囲気が得られます。
上部より試料を取り出す方式のポット炉で、簡単に操作出来、簡易雰囲気が得られます。 電気炉本体はSUS仕上げにより、耐酸性にも優れています。 オプションで各種フローメーターも用意されております。 高温仕様及び真空仕様が可能です。
ガスフロー式で、N2,O2ガスを流すことが可能！オプションにて第三のガスも流せます
『MAT-200KA』は、4”＆6”GaAs-VGF炉の関連設備として開発された 電気炉です。 ガスフロー式で、N2,O2ガスを流すことが可能。 均一温度領域を長くするために3ゾーンに分離独立制御されます。 また、オプションにて第三のガスを流すことができます。 【特長】 ■4”＆6”GaAs-VGF炉の関連設備として開発 ■均一温度領域を長くするために3ゾーンに分離独立制御される ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
卓上に置いて即実験！小型真空炉として使用可能！ガス系等及び真空装置を接続すればCVD装置の完成
【特徴】 ・ガス系等(オプション)及び真空装置(オプション)を接続すればCVD装置の完成 ・9パターン×9ステップのパソコン通信対応プログラムコントローラーが標準装備(オプションにて16×16プログラム可能) ・専用MPCS(オプション)使用にてパソコンリンク可能 ・MAX1200℃(R：t/c使用時) ・電源はA.C100V 1.3Kw 省エネタイプ ・標準でブルドン真空計付き
高温下でのセラミックスの焼結、ガラスの溶融状態等の炉内観察用炉
電気炉・雰囲気炉／加熱・熱処理技術のエキスパート企業 丸祥電器社が取り扱う『高温挙動観察炉』のご案内です。 ■□■特徴■□■ ■炉内寸法：W100mm×D100mm×H150mm ■最高温度：1400℃ ■プログラム酸素濃度制御 のぞき窓、天井1カ所、側面2カ所 ■詳細は、お問い合わせ下さい。
赤外線集光加熱により秒速・高温・均一加熱が可能です。お客様のニーズに合わせて製作致します。
「IR-FP Series」は、Max1100℃まで加熱可能な平板型の赤外線加熱炉です。 各ゾーンごとの出力調整が可能なため、色々な温度環境での加熱が可能です。 クリーンな加熱で真空対応やガスフロー、観察も可能です。シリコンウエハ、化合物半導体及び薄版鋼板加工の加熱に最適です。 樹脂やフィルム、接着剤の耐熱・変形・観察の用途に使用できます。 試料サイズにより炉サイズの対応が可能です。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
手のひらサイズでわずか2.8Kgの軽量ボディ！4分で1200℃の急速昇温！100Vコンセントの省エネ小型電気炉！
フルテックの『FT-01X』は「手のひらサイズ」の超小型電気炉です。 【特徴】 ■わずか4分で1,200℃の急速昇温！ ■省スペース・省エネで｢手のひらサイズ｣の卓上超小型設計！ ■100Vコンセントが使用できて0.8Kwと省エネタイプ ●デジタル温度コントローラー・過昇温防止計 標準装備 デジタル温度コントローラーで温度管理も楽々！ オプションのプログラムコントローラー＋管理ソフトウェアを導入すれば昇温プログラム時間の設定がマウスで自由に設定出来ます。 ソフト内のチャート機能を使用する事でデータの再現性・焼成データ管理が向上してさらに便利になります。 ●詳しくはお問合せ、またはカタログをダウンロードしてください。
ヒーター、断熱材は均熱性に優れたグラファイト製を基本にしている真空焼結炉をご紹介
『FVS-Rシリーズ』は、最高2500℃までの高温に対応している抵抗加熱式の 真空焼結炉です。 タンク形状には、通常の横丸型、角型のほかに、当社独特の「前割り型」 （縦置き・前扉方式）を採用し、試料の装填、取出しが容易でメンテナンス性にも 優れています。 連続式の設計・製作も多数実績がありますので、ご相談下さい。 【特長】 ■最高2500℃までの高温に対応 ■6.65×10^-4Paまでの高真空の製作実績がある ■焼結条件に応じてモリブデンなどの金属ヒータも使用 ■冷却方式：熱交換機とファンを組み合わせて焼結後の試料冷却速度を高める ■脱脂：バインダを昇華させ回収する ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
非磁性加熱源を採用で、磁場中での高温熱処理が可能！熱処理後に雰囲気をキープしたまま冷却チャンバにに移動しガス冷却することが可能！
非磁性加熱源を採用している為、磁場中での高温熱処理ができ、熱処理後 に雰囲気をキープしたまま冷却チャンバに移動し、ガスフローすること によりガス冷却することが可能。 また、冷却水循環装置、各種インターロック付きで、オプションとして 外径50及び60用熱処理チャンバとの交換取付ができます。 【仕様（抜粋）】 ＜熱処理チャンバ/加熱機構＞ ■外径40×長さ236mm 水冷式二重SUS316L円筒型 ■到達圧力：E-3Pa以下 ■真空排気/ガス導入：SWG1/4ベローズバルブ ■加熱方式：カーボン円筒ヒータ ■サンプルホルダー：φ15×φ12×50L 石英坩堝 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
丸祥電器社が取り扱う『特殊炉【単結晶引上装置】』
電気炉・雰囲気炉／加熱・熱処理技術のエキスパート企業 丸祥電器社が取り扱う『特殊炉【単結晶引上装置】』のご案内です。 ■□■特徴■□■ ■炉内寸法：Ф100mm×H250mm ■最高温度：2500℃ ■ヒーター：グラファイトヒーター ■真空排気：10-4Pa台 ■試料回転及び昇降機構を装備 ■詳細は、お問い合わせ下さい。
気相法による小型実験製造装置（カーボンナノファイバー製造装置）
電気炉・雰囲気炉／加熱・熱処理技術の エキスパート企業、丸祥電器社が取り扱う 『特殊炉【小型カーボンナノファイバー製造装置】』のご案内です。 ■□■特徴■□■ ■気相法による小型実験製造装置 ■均一なガスの分散と精度な温度制御により、 均質なナノファイバーを作る事ができる ■カーボンナノファイバー及び、カーボンナノチューブまでの 実験生産に使用することができる ■詳細は、お問い合わせ下さい。
プログラム冷却システム、排気ガス脱臭装置を装備 した特殊炉
電気炉・雰囲気炉／加熱・熱処理技術のエキスパート企業 丸祥電器社が取り扱う『特殊炉【熱風循環型脱脂炉】』のご案内です。 ■□■特徴■□■ ■炉内寸法：W1000mm×D1000mm×H1000mm ●常用/最高温度：700℃/750℃ プログラム冷却システム、排気ガス脱臭装置を装備 ■詳細は、お問い合わせ下さい。
100Vコンセント 0.7Kwの省エネ仕様！重量は約4Kg！1200℃まで約2分で昇温可能な高性能ミニチュア管状雰囲気電気炉です
こんなユーザーに朗報！！ ｢精度高い実験がしたい｣ ｢ガスのフローを一方向に綺麗に流し続けたい｣ ｢昇温速度を更に早くしたい｣ ｢1.5kwコンセントで2台使用したい｣ ｢高価な希少性ガスを使用したい為、出来るだけ極小容積のチャンバーにて雰囲気加熱したい｣ 手のひらサイズ電気炉シリーズ第4弾！ 両側マニホールドに最小外径15Φ(内径12Φ)高純度透明石英管を装着！ 長3封筒（定形郵便規格）サイズで重量は約4Kg！ A.C100Vコンセント 0.7Kwの省エネ仕様！ MAX1,200℃まで約2分で昇温可能な高性能ミニチュア管状雰囲気電気炉です！
高周波電源にはサイリスタインバータを使用！様々な業種で必要とされる熱加工方法に対応できます
『FBT シリーズ』は、電流による金属のジュール発熱を利用し、 金属を溶解する炉です。 溶解する金属を耐火るつぼの中に入れ、その周囲に巻かれた コイルに高周波電流を流すと電磁誘導作用により金属に 2次電流が生じます。 高周波電源にはサイリスタインバータを使用し、据付面積も小さく、 騒音・振動なども少なく、ライフサイクルの長い構造となっています。 【特長】 ■電流による金属のジュール発熱を利用し、金属を溶解 ■高周波電流の急速な誘導作用により、迅速な溶解が行える設計製作 ■高周波電源にはサイリスタインバータを使用 ■据付面積も小さく、騒音・振動なども少なく、ライフサイクルの長い構造 ■溶湯の出湯はギヤーハンドルによる手動式や油圧シリンダーによる 油圧方式がある ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
1100℃まで昇温可能な高温雰囲気熱処理炉！真空及びガス置換雰囲気下での熱処理に対応し！高温焼成及び溶融、ガス分析に！
『HFQ-1100』は、高温化での熱処理ができ、常用1100℃（最大1150℃） まで昇温可能な高温雰囲気熱処理炉です。真空及びガス置換雰囲気下での 熱処理に対応。高温焼成及び溶融、ガス分析に適してます。Oリング部は 強制空冷の為、冷却水循環装置が不要です。 【特長】 ■常用1100℃（最大1150℃）まで昇温可能 ■真空及びガス置換雰囲気下での熱処理に対応 ■Oリング部は強制空冷の為、冷却水循環装置が不要 ■所要電力：AC100V 2kW ※オプションによりAC200V ■設置スペースはW540×D420×H568mmと省スペース ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
炉内圧カプログラム制御システムを装備した特殊炉
電気炉・雰囲気炉／加熱・熱処理技術のエキスパート企業 丸祥電器社が取り扱う『縦型マルチ雰囲気炉』のご案内です。 ■□■特徴■□■ ■炉内寸法：Ф380mm×H600mm ■常用/最高温度：700℃/800℃ ■炉内圧力：最高0.1MPa ■ヒーター：当社製モジュールヒーター（カンタル線エレメント） 縦型3ゾーン制御、真空置換型、 炉内圧カプログラム制御システムを装備 ■詳細は、お問い合わせ下さい。
丸祥電器社が取り扱う『露点制御式高温雰囲気炉』
露点制御式高温雰囲気炉は、セラミックス、電子部品等の様々な研究開発、少量生産 用として、還元雰囲気、露点制御雰囲気などの高度な雰囲気制御下で使用でき、ユー ザーの要望による特別仕様にも対応可能です。 ■□■特徴■□■ ・炉内寸法 W150mm×D150mm×H180mm〜W300mm×D300mm×H300mm ・使用温度 常用1600℃ 最高1700℃ ・真空置換型 ・露点制御システム（ウエッター最高80℃）を装備 ■詳細は、お問い合わせ下さい。
1800℃で気密タイプによる各種ガス雰囲気が出来る高性能スペック電気炉
安定した温度域で各種実験が行える横型管状電気炉です。 オプションを使用する事で、制御は温度だけではなくガス・炉内部圧力をコンピューター通信による管理にてコントロール出来る為、再現性の良い実験が可能なハイパフォーマンス機種です。 ヒーターは信頼性の高いカンタル社の高温発熱体｢カンタルスーパー1900｣を使用しており、上部ドアー開閉方式によるヒーターメンテナンスを容易に出来る構造になってます。 またCAD設計による一体構造で場所のとらないコンパクト設計が実現。 【特徴】 ・低価格・省スペースにて精密焼成が実現 ・プログラムコントローラー・デジタルマスフローメーター装備による精密な温度雰囲気制御が可能 ・100V電源で経済性の優れた1200℃仕様もラインナップ ・標準部品構成による短納期製作が可能 ・その他幅広いオプションが可能
１０００℃以上の耐熱性や耐薬品性が高い特長の『シリカ』の知識が深まる技術資料進呈中！
「ハイシリカ」（精製珪石粉等）を幅広い産業分野に提供している株式会社ニッチツが シリカの分類や特性、石英の特徴などを解説した技術資料です。 そのほか、石英粉末を溶融して製造した「溶融石英ガラス」や「合成石英ガラス」などの 活用例もご紹介しています。 ■シリカの特長 ・耐熱性が高い。１０００℃以上の高温に耐えることができます！ ・耐薬品が高い。酸、アルカリにわずかに溶けるが溶ける速度が極めて低い。 ■用途 半導体工業用、液晶用、光ファイバ、光学用、理化学用、 水銀灯、殺菌灯、赤外線ランプ、光ファイバ、半導体精製容器、シリコン単結晶引き上げ用るつぼなど… ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
従来では不可能だった電磁石ギャップ80mmの狭い空間で800℃まで加熱できる電気炉
株式会社和泉テックで取り扱う『磁場中加熱炉』をご紹介します。 炉内寸法φ50石英管。 サンプルサイズは12mm口 x 縦配列5枚です。 従来では不可能だった電磁石ギャップ80mmの狭い空間で800℃まで 加熱できます。 【仕様】 ■炉内寸法φ50石英管 ■サンプルサイズ12mm口 x 縦配列5枚 ■10^-5Pa (PR. 分子ポンプ） ■Minギャップ80mmまで可能 ■MAX 800℃ ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
容易に欠陥(EPD)の少ない結晶を得ることが可能な炉体移動式のVGF炉です
『MAT-200VGFHQ』は、石英管式炉体移動型の炉構造であるVGF製造炉です。 ヒ素圧1atm中で育成するので、容易に欠陥(EPD)の少ない結晶を得ることが 可能。常用温度は1200℃、最高温度は1300℃です。 また、育成後のGaAsインゴットとPBN坩堝は、液体に浸漬することで分離します。 さらにPBNるつぼと石英アンプルは、再使用が可能です。 【特長】 ■育成後のGaAsインゴットとPBN坩堝は、液体に浸漬することで分離 ■PBNるつぼと石英アンプルは、再使用が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
堆積膜・反応生成物を塩化揮発で選択除去！母材の寸法や表面粗さを維持します
「小型塩素炉」は、Cl2/HClによる“選択塩素化→揮発"を用いた治具向け ドライクリーニング装置です。 MOCVD/エピ炉サセプタ、石英ボート・管等に付着したGaN/AlN/Si系生成物を 対象に、材料に応じた温度段階とガス組成で塩化物へ変換し、低温で揮発除去。 また、酸洗い不要で廃液負担を抑え、寸法変化・歪み・粒界損傷を最小化します。 【特長】 ■選択塩素化×段階温度：付着物を塩化物化→低温で揮発、 母材ダメージを抑制 ■乾式で廃液最小：酸洗いレス、洗浄・乾燥工程を短縮 ■寸法・表面を維持：負圧運転/酸素分圧制御で歪み・粗さ変化を抑える ■多材料対応：石英・SiC・C/C・金属(Mo/W/Al系)などの治具に適用可 ※さらに詳しい情報についてはダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
