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炉(素材) - メーカー・企業と製品の一覧

更新日: 集計期間:2025年11月12日~2025年12月09日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

炉の製品一覧

76~90 件を表示 / 全 94 件

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MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃

Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置 研究開発から小規模生産まで多目的に幅広く対応するハイパフォーマンス機

◾️ Max2000℃ ◾️ 有効加熱範囲:Φ6〜Φ8inch 枚葉式、又はバッチ式(多段5枚カセット) ◾️ ヒーター制御:1ゾーン、又は2ゾーン(カスケード制御) ◾️ ヒーター材質: ・C/Cコンポジット:Φ6〜Φ8inch ・PGコーティング 高純度グラファイト:Φ6〜Φ8inch ◾️ 使用雰囲気: ・真空(1x10-2Pa)、不活性ガス(Ar, N2) ◾️ PLCセミオート運転 ・真空/パージサイクル、ベントの自動シーケンス制御 ・フルオート自動運転(オプション) ・タッチパネル操作、操作が分散せず一元管理が可能です。 ◾️ プロセス圧力制御 ・APCコントロール(MFC流量、又は自動開度調整バルブ PIDループ制御) ・MFC最大3系統流量自動制御、又はフロートメーター/ニードルバルブの手動調整 ◾️ PLOT画面グラフ表示、CSVデータ出力

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今更聞けない!『工業炉用語集』※工業炉総合カタログも配布中

実績豊富な工業炉メーカーが約160語の基礎用語をピックアップ。炉や素材の種類、処理方法など工業炉に関わる方なら読んでおきたい1冊

サンファーネスでは、工業炉に関する基礎用語をまとめた『工業炉用語集』を配布中です。炉や素材の種類、処理方法の名称など約160語を収録。初心者はもちろん、経験者が知識を確認するのにもお役立てください。 ★工業炉の総合カタログもあわせて配布中! 総合カタログの中で多様な製品事例についてもご紹介しております。 【当社取り扱い品目】 ■焼成炉・焼結炉    ■焼鈍炉・焼準炉 ■焼入炉・焼戻炉    ■線材光輝焼鈍炉     ■ロータリーキルン   ■ステンレス熱処理炉   ■アルミ熱処理炉    ■非鉄金属熱処理炉    ■雰囲気炉       ■真空炉 ■雰囲気ガス発生装置   ※詳しくはお気軽にお問い合わせください。

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“光輝焼準・光輝焼鈍”によくあるお困りごとと解決策

熱処理依頼時によくあるお困りごとを解決!解決事例を掲載したハンドブックを無料進呈中!

株式会社中遠熱処理技研では、「焼準・焼鈍で硬さのムラが大きい・・・」など、 “光輝焼準・光輝焼鈍”に関するお困りごとを解決します。 熱処理依頼時によくあるお困りごとと、解決事例を掲載した ハンドブックを只今、無料進呈中! 熱処理を外部に依頼している部品製造現場の方や技術者の方必見です。 【こんなお困りごとはありませんか?(一部を紹介)】 ■冷間鍛造品を浸炭焼入れしたところ結晶粒が  粗大化して製品にならない・・・ ■焼準・焼鈍において素材熱処理だが、  キズ・打痕は許さない品質のもの・・・ ■焼準・焼鈍した直径35mmのシャフトが曲がった・・・ ※解決策は、PDF資料をダウンロードしてご覧ください。

  • その他表面処理装置
  • 加工受託
  • その他金属材料

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1800℃高温チューブ炉加熱長300mm『OSK93TI143』

頑丈な扉付き、ガス雰囲気使用の高温チューブ電気炉です。

常用温度1650°C以下の運転に適します。 プログラマブルコントローラ内蔵。 二重ハウジング構造で表面温度を低く保ちます。 シリコンカーバイト製発熱体により、優れた耐久性を持ちます。 ガス交換実験に適します。 セラミック製断熱材により、軽量且つ温度上昇速度が速い。 便利なデザインにより、試料のセットや取出しが容易。 加熱プログラムを5種類記憶可能な温度調節器(1プログラムに9セグメント)内蔵。 過熱防止装置付き/CE認証品。 半導体制御整流回路(SCR)とプログラム制御により、低ノイズ及び正確な温度制御(±1℃)を実現。 チューブサイズ:直径50/80/100/120mm。 チューブの材質:石英、セラミック、アルミナ、合金。

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1200℃汎用チューブ炉(600mm)『OSK 93TI132』

開き戸付き、ガス雰囲気使用の汎用チューブ炉です。

常用温度1000°C以下の運転に適します。 プログラマブルコントローラ内蔵。 二重ハウジング構造で表面温度を低く保ちます(800°Cで29~30°C)。 Kanthal発熱体により、優れた耐久性を持ちます。 ガス交換実験に適します。 セラミック製断熱材により、軽量且つ温度上昇速度が速い。 便利なデザインにより、試料のセットや取出しが容易。 加熱プログラムを5種類記憶可能な温度調節器(1プログラムに9セグメント)内蔵。 過熱防止装置付き/CE認証品。 半導体制御整流回路(SSR)とプログラム制御により、低ノイズ及び正確な温度制御(±1℃)を実現。 チューブサイズ:直径50/80/100/120mm。 チューブの材質:石英、セラミック、アルミナ、合金。

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熱処理炉 『ヒーター リフレクター シールド キャリア』

タングステン・モリブデン製ホットゾーンの設計からメンテナンスまでトータルサービスを提供。

真空中や制御雰囲気の炉内では、最高温度 が3000℃にも及ぶ事があります。その様な過酷な環境では、モリブデン、タングステン、タンタル、ニオブが最適な材料です。 特に高度な焼結技術、熱処理技術、真空ロウ付け、最先端研究などで使用される高温炉のホットゾーン構造体には、プランゼーの高温安定性とクリープ特性に優れた高品質材料と、長い経験とノウハウに裏付けられた確かな設計力が必要不可欠です。 プランゼーは創業以来90年に及ぶ粉末冶金技術と、最新の材料・接合技術・シミュレーションを活用し、お客様に最高品質の高温炉構造体と周辺部品をお届け致します。

  • 工業炉
  • アニール炉
  • 加熱装置

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焼鈍炉 『ヒーター リフレクター シールド キャリア』

タングステン・モリブデン製ホットゾーンの設計からメンテナンスまでトータルサービスを提供。

真空中や制御雰囲気の炉内では、最高温度 が3000℃にも及ぶ事があります。その様な過酷な環境では、モリブデン、タングステン、タンタル、ニオブが最適な材料です。 特に高度な焼結技術、熱処理技術、真空ロウ付け、最先端研究などで使用される高温炉のホットゾーン構造体には、プランゼーの高温安定性とクリープ特性に優れた高品質材料と、長い経験とノウハウに裏付けられた確かな設計力が必要不可欠です。 プランゼーは創業以来90年に及ぶ粉末冶金技術と、最新の材料・接合技術・シミュレーションを活用し、お客様に最高品質の高温炉構造体と周辺部品をお届け致します。

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電気炉 『ヒーター リフレクター シールド キャリア』

タングステン・モリブデン製ホットゾーンの設計からメンテナンスまでトータルサービスを提供。

真空中や制御雰囲気の炉内では、最高温度 が3000℃にも及ぶ事があります。その様な過酷な環境では、モリブデン、タングステン、タンタル、ニオブが最適な材料です。 特に高度な焼結技術、熱処理技術、真空ロウ付け、最先端研究などで使用される高温炉のホットゾーン構造体には、プランゼーの高温安定性とクリープ特性に優れた高品質材料と、長い経験とノウハウに裏付けられた確かな設計力が必要不可欠です。 プランゼーは創業以来90年に及ぶ粉末冶金技術と、最新の材料・接合技術・シミュレーションを活用し、お客様に最高品質の高温炉構造体と周辺部品をお届け致します。

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連続式ストランド炉(線材光輝焼鈍炉) 

ステンレスや非鉄金属など多種多様な材質の熱処理に対応可能

サンファーネスでは連続式の『連続式ストランド炉(線材光輝焼鈍炉)』を得意としています。ステンレス鋼線をはじめ、チタン合金などの非鉄金属などの材質の線材の熱処理にも対応可能です。処理量やワークサイズ、用途、前後工程などご要望をお聞きし、周辺領域も含めて最適なストランド炉をご提案いたします。 【製品例】ストランド式炉でつくられる身近な製品例 ■ステープル ■眼鏡フレーム材 ■CPUヒートパイプ ■釣針 ■ばね用線材 ■ボルト・ナット用線材 ■金網 ■カテーテル用マーカーパイプ ■補償導線素材 ■溶接棒材 ■熱電対素線 制御盤のプログラムの工夫により電力コスト削減や作業効率を上げることも可能です。 小ロット生産 ・ 熱処理試験・ 少量サンプル製造などご相談ください。 ​ ※詳しくはお問い合わせ、またはPDFをダウンロードしてください。

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1500℃真空マッフル炉『OSK 93TI102』

管状炉の試料サイズ制限及びマッフル炉の仕切り入れの手間をなくした新たな電気炉です

・常用温度1350°C以下の連続運転に適します。 ・無酸素環境の為の完璧な雰囲気制御。 ・長方形チャンバー設計で、管状炉と比較して、幅広い試料サイズに対応。 ・真空の有無にかかわらず、硬化、焼きなまし、焼戻し、ろう付け、焼結をサポートします。 ・真空、真空状態の解除、ガス入力およびガス出力は個別の4ポートで構成されています。 ・複数の大気環境を作り出せます(空気中での燃焼、空気のパージと真空の引き、不活性ガスの流し込みと焼結) ・オプションのマスフローコントローラにより、不活性ガスのプリセット(98)ができ、より正確で応答性が高い安定したガス管理が可能。 ・オプションの背圧弁により、チャンバー内の正圧を維持できます。 ・マスフローコントローラ、背圧弁、デジタル真空メーター及び真空ポンプのフル構成で完全且つ精密な実験を可能とします。

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連載Part5:小型カーボン炉の主な用途

装置仕様と構成について紹介!装置サイズはさらに大型機にも対応可能

前回は小型カーボン炉の用途について紹介しました。 今回は、実際の装置仕様と構成について紹介します。 本装置は研究開発向けに設計されたコンパクトタイプで、限られたスペース でも設置が可能です。 真空および不活性ガス(Ar、N2)雰囲気での加熱に対応し、酸化を抑制した 安定した加熱環境を実現します。本仕様は研究用の小型装置のスペック例 となります。装置サイズはさらに大型機にも対応可能です。 【主な仕様】 ■設備外寸法:1000W×1000D×2100H mm ■炉内有効寸法:200W×200D×200H mm ■対応雰囲気:不活性ガス(Ar、N2)および真空 ■炉内材質:グラファイト ■ドア構造:前開き方式 ■真空ポンプ:ロータリーポンプ ■記録·監視:温度、流量、圧力など 【安全装置】 ■過昇温防止 ■冷却水低下検知 など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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カーボン炉<炭化の基礎反応試験に好適>

SiC/TiC/ZrCを高温・極低酸素で“速く・再現よく"。固相炭化・複合炭化(B4C併用)や炭素供給条件の最適化を短サイクルで

当社では、真空→不活性ガスへ段階置換できる小型の「カーボン炉」を 取り扱っております。 固相炭化(粉末混合法・被覆法・浸炭)や複合炭化(B4C併用など)による 高硬度化、炭素供給条件の最適化(炭素材の種類・比率・接触状態)などの 実験・プロセスに使用可能です。 ご要望の際は、当社までお気軽にお問い合わせください。 【当社カーボン炉が選ばれる理由(一部)】 ■短時間で高温域へ ・1600-2800℃**を安定到達・保持 ・炭化に効く温度目安:SiC 1600–2000℃、TiC 1500–2100℃、ZrC 1800–2300℃ ■極低酸素分圧で副反応を抑制 ・真空引き→Ar/N2へ置換 ・炉材カーボンのゲッタリングで残存酸素を低減、CO生成を抑える ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

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真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』

卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。

◉ 卓上サイズ 省スペース:328(W) x 220(D) x 250(H)mm(*2inch用チャンバー参考値) ◉ カスタマイズ自在なヒーター構造: - 円筒状ヒーター:るつぼ内サンプル焼成(固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用) - 面状ヒーター:Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉ 昇温時間最速約15分(1500℃)、降温1500℃→100℃まで約40分(真空、およびガス置換雰囲気) ◉ ハイスペック&ハイコストパフォーマンス ◉ シンプルな構成、優れた操作性 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。

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真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉

◉最高使用温度 Max2000℃ ◉カスタマイズ自在なヒーター構造: - 円筒状ヒーター:るつぼ内サンプル焼成(固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用) - 面状ヒーター:Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉PLCセミオートコントロール タッチパネル画面で温度調節計以外の全ての操作を行います。 煩わしいバルブ開閉・ポンプ起動操作が不要、焼成作業前の「真空/パージ」サイクルと焼成作業後の「ベント」を1ボタンで自動シーケンスで行います。 ◉MFC最大3系統 自動流量制御(又は手動調整) ◉APC自動圧力コントロール ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm(*ロータリーポンプ筐体内設置) 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。

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アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉

◉最高使用温度 Max2000℃ ◉カスタマイズ自在なヒーター構造: - 円筒状ヒーター:るつぼ内サンプル焼成(固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用) - 面状ヒーター:Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉PLCセミオートコントロール タッチパネル画面で温度調節計以外の全ての操作を行います。 煩わしいバルブ開閉・ポンプ起動操作が不要、焼成作業前の「真空/パージ」サイクルと焼成作業後の「ベント」を1ボタンで自動シーケンスで行います。 ◉MFC最大3系統 自動流量制御(又は手動調整) ◉APC自動圧力コントロール ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm(*ロータリーポンプ筐体内設置) 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。

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