ワニス処理乾燥炉 滴下式連続炉
遠赤外線ヒーターは状況により使用・未使用の選択可能
タッチパネルにて各種設定が容易に行えます。 設定温度・タクトタイム・各ステーション数については、ワークの条件に合わせて設計いたします。
- 企業:日本フルックス株式会社
- 価格:応相談
更新日: 集計期間:2025年09月17日~2025年10月14日
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遠赤外線ヒーターは状況により使用・未使用の選択可能
タッチパネルにて各種設定が容易に行えます。 設定温度・タクトタイム・各ステーション数については、ワークの条件に合わせて設計いたします。
優れた均一性、精度、長期安定!赤外線センサーの校正とテストに好適
『BR400』は、コンパクトで頑丈なデザインの黒体炉です。 供給範囲は校正ソース、電源、ケーブル、校正証明書、 マニュアルで、400℃迄のラジエーター温度の製品。 また、温度分解能が0.1℃、開口部は128mmとなっており、 消費電力は最大1000Wです。 【特長】 ■400℃迄のラジエーター温度 ■優れた均一性、精度、長期安定 ■コンパクトで頑丈なデザイン ■赤外線センサーの校正とテストに好適 ■供給範囲:校正ソース、電源、ケーブル、校正証明書、マニュアル ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
特殊遠赤外線パネルヒータによりフラックスを分解し炉内固着防止!
『VFRシリーズ』は、特殊遠赤外線パネルヒータ&熱風循環方式を採用した 遠赤併用熱風循環リフロー炉です。 炉内フラックス付着を最小限に抑え、メンテナンス期間延長を実現。 特殊フィルタでミスト回収(フィルタは洗浄にて繰り返し使用可能)もできます。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■特殊遠赤外線パネルヒータ&熱風循環方式 ■炉内フラックス付着を最小限に抑え、メンテナンス期間延長 ■特殊フィルタでミスト回収(フィルタは洗浄にて繰り返し使用可能) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
金属試料2段温度熱処理炉
仕様 一段炉 max Temp 1000℃(透明電気炉)A型 二段炉 max Temp 1200℃ 均熱帯40×80(赤外線ゴールドイメージ炉) 到達圧力 ×10-5Pa TMP 160L/sec RP 162L/min 温調計、記録計、ピラニー、電離真空計
コンパクトな筐体と抜群の乾燥力!各種プリント乾燥に適したコンベア式乾燥炉【乾燥炉・工業炉・アニール炉・産業用乾燥炉】
『CH-1500』は、カーボンヒータ採用で抜群の 乾燥力を実現した遠赤外線工業用・産業用乾燥炉です。 抜群の乾燥力により、筐体をコンパクト化。 全長は2,500mm、全幅は1,200mmです。 また、乾燥炉内の強制対流ファンと耐熱型排気ファンは、 インバータにて風量を変えることができます。 【遠赤外線工業用乾燥炉『CH-1500』の特長】 ■カーボンヒータ採用で抜群の乾燥力を実現 ■抜群の乾燥力により筐体をコンパクト化 ■アニール炉、産業用乾燥炉等をお探しの方、まずはご相談ください。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
横方向に渡したバーの上にワークをのせ、遠赤外線を照射しながら搬送します
ワークと搬送装置の接触面を極力小さくしたい場合に最適な方式です
遠赤外線と熱風のジェット噴射を併用し、ワークを短時間で加熱処理可能です
用途例は印刷の硬化や水分乾燥など、特に板状及びシート状のワークに最適です。
ノサカテックの電気式乾燥炉(遠赤外線ヒーター仕様)
機能性、安全性、操作性、コストパフォーマンス、メンテナンス性に優れたシステムを企画設計・制作。業務の効率化をサポートします。
特殊フィルタで簡単メンテナンスを実現!熱風/微熱風/微熱風+遠赤の使い分けが可能!
『N2リフロー装置 VFR-4010N』は、特殊遠赤外線パネルヒータの採用により、熱風循環と 併用したユニークな加熱方法を組み合わせた装置です。 基板(板厚)や実装部品に応じて、熱風循環のみではなく、遠赤外線効果 での優位性を活かした生産も可能。 基板や部品に配慮した装置になります。 【特長】 ■遠赤併用熱風循環リフロー炉 ■特殊遠赤外線パネルヒータ採用 ■炉内フラックス溜まりを最小限に抑えメンテナンス期間延長 ■特殊フィルタで炉内ミスト回収(洗浄にて繰り返し使用可能) ■高効率断熱構造で熱損失低減による省電力化 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
赤外線ランプ加熱でお客様のニーズにお応えします。
大小様々な対象物の加熱で研究開発や生産装置、さまざまな分野でご利用いただいてます。
リフロー用小型炉として是非!コンパクト設計の製品をご紹介
当社で取り扱う、「卓上リフロー炉」をご紹介いたします。 上下各5枚の遠赤外線ヒーターを採用。個別に温度制御が可能で 小型基盤のリフローに好適です。 また、別途N2仕様もご用意しております。 ご用命の際は、当社までお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■多品種少量生産に好適 ■コンパクト設計 ■高精度の温度分布 ※その他機能や詳細については、お問い合わせください。
遠赤外線ヒーターと均一加熱方式を採用した連続搬送タイプのアニール炉
当社製の遠赤外線ヒーターと均一加熱方式を採用した連続搬送タイプのアニール炉です。 処理時間の大幅短縮、コストダウン、インライン化に最適です。 (特長) ●早い加熱処理 例その1:自動車ヘッドランプ 溶着後の歪除去 60分⇒5分 例その2:ICトレー 射出成形後の寸法安定 240分⇒6分 例その3:人工透析器 射出成形後の内部歪除去 120分⇒3分 ●コストダウンに貢献 バッチ処理に比較して、 作業人員:1/10 設備面積:1/3 エネルギーコスト:1/2 ●24時間自動化 成形機から直接投入可能 成形時間と同じサイクルで加熱処理可能 取出し後のストッカー設置可能 ●クリーン対応 HEPAフィルター、テフロンベルト追加により、炉内クラス1000以下可能
携帯電話部品・車載品など小型部品のアニール処理に最適な連続加熱炉
(仕様) ●使用温度:40〜230℃ ●電気容量:5KVA(ブレーカー20A) ●ベルト幅:100mm ●外形寸法:1220L×400W×1157H(mm) ●炉長:700mm
処理速度は75mm/s!ガラス基板をクリーン遠赤外線ヒーターで加熱乾燥します
『IR乾燥炉』は、ローラー搬送によるタクト搬送で処理を行う製品です。 洗浄、エアブロー後の基板を加熱することにより、基板上の微水分を 蒸発させ、乾燥を実施。 ガラス基板をクリーン遠赤外線ヒーター(クラス100)で加熱乾燥します。 【主な仕様】 ■被加熱物:TFT用ガラスパネル(2880×3130×0.6t) ■処理方法:ローラー搬送によるタクト搬送(6°傾斜) ■処理速度:75mm/s(Tact Time:56sec) ■加熱条件:ガラス表面温度 70 ℃以上到達 ■パスライン:FL+1800±25mm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。