更新日： 集計期間:2025年03月26日～2025年04月22日
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シンプルな乾燥機をご提案！設計から設置まで一貫したものつくりをさせていただきます
『遠赤外線乾燥炉』は、一般的な電気炉やガス炉とは違い、 遠赤外線ヒーターから照射される遠赤外線によって被加熱物自体を 直接加熱することができます。 そのため、加熱時間の短縮が見込め、製造ラインのコンパクト化や省エネ、 製造ラインのインライン化など、様々なメリットのある熱処理装置です。 当社では、お客様の要望をもとに専属のエンジニアが1から装置を 設計/製造し、装置納入後のアフターサービスまで万全の体制でお応えします。 【特長】 ■高速かつ高品質な熱処理が可能 ■低騒音で作業環境の改善に寄与できる ■インライン化が可能で、作業工数の削減に貢献 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
薄型基板・高機能フィルムの加熱処理に最適な遠赤外線ロール加熱炉
（特長） ●遠赤外線の持つ浸透力により、加熱時間の短縮・品質の向上が出来ます。 ●熱風循環機構を必要とせず、炉体は三次元方向に小さく出来ます。 ●高精度な温度分布が可能。幅方向±２℃を達成しました。 ●炉内はＮ２雰囲気が可能。給排気をしながら酸素濃度１００ｐｐｍ以下を達成しました。 （分野） フレキ基板、燃料電池、太陽電池、タッチパネル、ＨＤＤ材料、など。 （適用範囲） 使用温度：ＭＡＸ４００℃ 機材幅：ＭＡＸ１１００ｍｍ 炉内クリーン度：クラス１０００対応 炉長は、ご相談に応じます。 （その他） ■巻取・巻出機も取り扱っています。 ■テスト機を保有していますので、テスト検証が可能です。 ■価格・納期はお問合せ下さい。
小型・低価格で汎用性が高い！上下ヒーター式で優れた作業効率を発揮
当社では、様々な加熱、硬化、乾燥に対応する低価格の 「卓上汎用加熱炉」を取り扱っております。 テスト機として新製品の開発・設計用途にもご利用可能。 即熱式 遠赤外線ヒーター QUTヒーター採用で、素早い昇温を 実現します。 ご用命の際は、当社までお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■ネットコンベア式採用でインライン化可能 ■即熱式 遠赤外線ヒーター QUTヒーター採用で、素早い昇温を実現 ■上下ヒーター式で優れた作業効率を発揮(下部ヒーターはオプション) ※下火オプションで設定した場合温度制御が4回路 ※その他機能や詳細については、お問い合わせください。
遠赤外線ヒーターは状況により使用・未使用の選択可能
タッチパネルにて各種設定が容易に行えます。 設定温度・タクトタイム・各ステーション数については、ワークの条件に合わせて設計いたします。
金属試料2段温度熱処理炉
仕様 一段炉 max Temp 1000℃(透明電気炉)A型 二段炉 max Temp 1200℃ 均熱帯40×80(赤外線ゴールドイメージ炉) 到達圧力 ×10-5Pa ＴＭＰ 160L／sec ＲＰ 162L／min 温調計、記録計、ピラニー、電離真空計
コンパクトな筐体と抜群の乾燥力！各種プリント乾燥に適したコンベア式乾燥炉【乾燥炉・工業炉・アニール炉・産業用乾燥炉】
『CH-1500』は、カーボンヒータ採用で抜群の 乾燥力を実現した遠赤外線工業用・産業用乾燥炉です。 抜群の乾燥力により、筐体をコンパクト化。 全長は2 500mm、全幅は1 200mmです。 また、乾燥炉内の強制対流ファンと耐熱型排気ファンは、 インバータにて風量を変えることができます。 【遠赤外線工業用乾燥炉『CH-1500』の特長】 ■カーボンヒータ採用で抜群の乾燥力を実現 ■抜群の乾燥力により筐体をコンパクト化 ■アニール炉、産業用乾燥炉等をお探しの方、まずはご相談ください。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
優れた均一性、精度、長期安定！赤外線センサーの校正とテストに好適
『BR400』は、コンパクトで頑丈なデザインの黒体炉です。 供給範囲は校正ソース、電源、ケーブル、校正証明書、 マニュアルで、400℃迄のラジエーター温度の製品。 また、温度分解能が0.1℃、開口部は128mmとなっており、 消費電力は最大1000Wです。 【特長】 ■400℃迄のラジエーター温度 ■優れた均一性、精度、長期安定 ■コンパクトで頑丈なデザイン ■赤外線センサーの校正とテストに好適 ■供給範囲：校正ソース、電源、ケーブル、校正証明書、マニュアル ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
遠赤外線と熱風のジェット噴射を併用し、ワークを短時間で加熱処理可能です
用途例は印刷の硬化や水分乾燥など、特に板状及びシート状のワークに最適です。
ノサカテックの電気式乾燥炉（遠赤外線ヒーター仕様）
機能性、安全性、操作性、コストパフォーマンス、メンテナンス性に優れたシステムを企画設計・制作。業務の効率化をサポートします。
横方向に渡したバーの上にワークをのせ、遠赤外線を照射しながら搬送します
ワークと搬送装置の接触面を極力小さくしたい場合に最適な方式です
リフロー用小型炉として是非！コンパクト設計の製品をご紹介
当社で取り扱う、「卓上リフロー炉」をご紹介いたします。 上下各5枚の遠赤外線ヒーターを採用。個別に温度制御が可能で 小型基盤のリフローに好適です。 また、別途N2仕様もご用意しております。 ご用命の際は、当社までお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■多品種少量生産に好適 ■コンパクト設計 ■高精度の温度分布 ※その他機能や詳細については、お問い合わせください。
遠赤外線ヒーターと均一加熱方式を採用した連続搬送タイプのアニール炉
当社製の遠赤外線ヒーターと均一加熱方式を採用した連続搬送タイプのアニール炉です。 処理時間の大幅短縮、コストダウン、インライン化に最適です。 （特長） ●早い加熱処理 例その１：自動車ヘッドランプ 溶着後の歪除去 ６０分⇒５分 例その２：ＩＣトレー 射出成形後の寸法安定 ２４０分⇒６分 例その３：人工透析器 射出成形後の内部歪除去 １２０分⇒３分 ●コストダウンに貢献 バッチ処理に比較して、 作業人員：１／１０ 設備面積：１／３ エネルギーコスト：１／２ ●２４時間自動化 成形機から直接投入可能 成形時間と同じサイクルで加熱処理可能 取出し後のストッカー設置可能 ●クリーン対応 ＨＥＰＡフィルター、テフロンベルト追加により、炉内クラス１０００以下可能
携帯電話部品・車載品など小型部品のアニール処理に最適な連続加熱炉
（仕様） ●使用温度：４０〜２３０℃ ●電気容量：５ＫＶＡ（ブレーカー２０Ａ） ●ベルト幅：１００ｍｍ ●外形寸法：１２２０Ｌ×４００Ｗ×１１５７Ｈ（ｍｍ） ●炉長：７００ｍｍ
処理速度は75mm/s！ガラス基板をクリーン遠赤外線ヒーターで加熱乾燥します
『IR乾燥炉』は、ローラー搬送によるタクト搬送で処理を行う製品です。 洗浄、エアブロー後の基板を加熱することにより、基板上の微水分を 蒸発させ、乾燥を実施。 ガラス基板をクリーン遠赤外線ヒーター（クラス100）で加熱乾燥します。 【主な仕様】 ■被加熱物：TFT用ガラスパネル（2880×3130×0.6t） ■処理方法：ローラー搬送によるタクト搬送（6°傾斜） ■処理速度：75mm/s（Tact Time：56sec） ■加熱条件：ガラス表面温度 70 ℃以上到達 ■パスライン：FL+1800±25mm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
