フォトプロセス解析露光装置 ES-3500LP
ウシオ電機社製エキシマランプを搭載。193nm対応解析露光装置。
フォトプロセス解析露光装置 ES-3500LPはVUVES-4500で用いているレーザー光源の代わりに、ウシオ電機社製エキシマランプを搭載した装置。レーザー光源のような、 大がかりなガス供給システムを必要とせず、場所を選ばず設置可能。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
- 企業：リソテックジャパン株式会社
- 価格：応相談
露光装置 - メーカー・企業35社の業務用製品ランキング | イプロスものづくり
更新日： 集計期間:2026年03月25日～2026年04月21日
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露光装置のメーカー・企業ランキング
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- 株式会社ナノシステムソリューションズ 神奈川県/産業用電気機器
- 株式会社大日本科研 京都府/光学機器
- 株式会社インターテック販売 東京本社（拠点－関西営業所、熊本営業所） 東京都/電子部品・半導体
- 4 株式会社サーマプレシジョン 本社、名古屋営業所 東京都/その他
- 5 株式会社清和光学製作所 東京都/電子部品・半導体
露光装置の製品ランキング
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- LED光源マスクレス露光装置 DL-1000シリーズ 株式会社ナノシステムソリューションズ
- i線ステッパー露光装置 株式会社インターテック販売 東京本社（拠点－関西営業所、熊本営業所）
- 高性能ダイレクト露光装置 ※回路パターン用 ※ソルダーレジスト用 株式会社サーマプレシジョン 本社、名古屋営業所
- マスクレス露光装置「MXシリーズ」 株式会社大日本科研
- 4 マスクレス露光装置PALET『DDB-701シリーズ』 ネオアーク株式会社 東京営業部
露光装置の製品一覧
31～60 件を表示 ／ 全 85 件
表示件数
疑似平行露光装置『F1型/F2型』
照度分布の均一化を実現！積算光量計により10chのメモリー登録が可能な疑似平行露光装置
当社が取り扱う、疑似平行露光装置『F1型/F2型』をご紹介します。 ランプは3kwメタルハライドランプ。フレーネルレンズを採用しており、 拡散光を擬似平行光にします。 また、積算光量計により10chのメモリー登録ができ、ランプ交換により 水銀ランプ（UV360nm）も可能です。 【特長】 ■拡散光を擬似平行光にする ■照度分布の均一化を実現 ■積算光量計により10chのメモリー登録ができる ■ランプ交換により水銀ランプ（UV360nm）も可能 ■露光制御装置：EC501（10chメモリー付き） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社ムラカミ
- 価格：応相談
平行光露光装置
コンパクト設計な平行光露光装置です。
本装置は、点光源の超高圧水銀灯を光源とする、コリメーションミラー方式の平行光露光装置です。主要構成は、光源部・吸着式の露光テーブル部・マスク部から成り、露光方式は、真空密着式(ハードコンタクト)の露光方式が可能になっております。要望により、プロキシミティ方式も承ります。 露光管理の為に、積算光量計も搭載し、適正露光量を設定し易くなっており、架台付きで、コンパクト設計な露光装置です。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
- 企業：株式会社イーエッチシー
- 価格：応相談
【半導体製造装置関連】自動両面マスク露光機
ウェハ搬送ロボットによる全自動搬送2マガジン対応の自動マスク露光機。
500万画素CCDによるアライメント精度±1.0µm。
- 企業：株式会社ライズワン
- 価格：応相談
露光装置 小型露光装置
ＪＥＭの装置は簡単な操作で正確な製版ができます。
露光時温度を一定に保つ様、ランプのブロワー換気を行っていますので露光安定性、再現性にすぐれています。露光面積に余裕があり、専用バキュームポンプを使用しています。振動騒音が少なくネガフィルムの密着は完璧です。
- 企業：日本電子精機株式会社
- 価格：応相談
露光装置 表面処理後露光装置
操作回路は全て電子化され、電気系統の安全性に優れ長期間使用できます。
ＪＥＭの装置は簡単な操作でべた付きのない美しい製版ができ、段ボール印刷からプロセス等の美粧印刷まで高品質な印刷ができます。
- 企業：日本電子精機株式会社
- 価格：応相談
露光装置 大型両面露光装置
操作回路は全て電子化され、電気系統の安全性に優れ長寿命です。
ＪＥＭの新型両面露光機は、一度樹脂版をセットするだけで裏返す手間が省け作業時間が短縮でき、省力・省エネ・低コスト・高品質な製版に貢献します。
- 企業：日本電子精機株式会社
- 価格：応相談
テレセントリックｆθレンズ仕様 レーザ露光装置
テレセントリックｆθレンズとポリゴンミラーによる「ラスタースキャン型レーザ露光」で走査幅全域において高精度ビーム形状描画が可能
プリンテッド・エレクトロニクス関連で、絶縁膜のパターン形成や金属パターン形成、ＭＥＭＳ形状のバンク・隔壁形成に、ポジレジスト・ネガレジストをマスクレスで直接露光する「レーザ露光機」です。テレセントリックｆθレンズとポリゴンミラーによる「ラスタースキャン型レーザ露光」で走査幅全域において高精度ビーム形状描画が可能。h線・i線を含む、レーザ波長 375，405，650，780，830nmなど選択可能。レーザスポット径 2μm（@405nm）10μm 22μm 30μm 等。分解能 ～25,400dpi ～5,080dpi ～3,000dpi 等 感光性レジストの全般（半導体露光用レジスト各種、ポリイミドレジスト、感光性Ａｇ）に対応可能。 有機ＴＦＴのゲート絶縁膜、感光性Ａｇインク 等で電極形成。 インクジェット／フレキソ／スクリーン 等の工法で困難なパターン形状の作成が、容易に可能です
- 企業：株式会社ワイ・ドライブ
- 価格：1000万円 ~ 5000万円
マスクレス露光装置「MXシリーズ」
半導体製造等の露光工程における、開発/納期の短縮とコスト削減に貢献します。
半導体製造工程・マイクロセンサー（加速度センサー、圧力センサー、温度センサー、ガスセンサー）製造工程・プリント基板製造工程における露光技術では、フォトマスクを使用し、それを基盤に転写する方式が主流です。 一方、マスクレス露光装置「MXシリーズ」は、DMD（デジタル・マイクロミラー・デバイス）を用いた独自のポイントアレイ方式で、CADデータから直接露光することができます。 フォトマスクを使用しない露光方式では、世界最高レベル（1ミクロン以下）の露光精度を実現。 試作が容易になり、時間・コストの削減に貢献します。 【特徴】 ○高価なマスクが不要となる ○マスクデータの外部流出防止 ○描画パターンの設計から描画までの時間短縮 ○描画パターンの設計変更が容易 ○各基板の歪みに合わせた露光パターンの補正等が可能 ・詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
- 企業：株式会社大日本科研
- 価格：応相談
Ø150mm対応露光装置
Ø2”～6”対応全自動露光装置（マスクアライナ）
【主な特長】 ・全機能がコンパクトに一体化 ・独自のアライメントシステムを搭載。 ・バーコードリーダーを用いたオペレータ補助と生産管理。 ・上位通信システム対応可能。 ・量産用としてのべ５００台以上の販売実績。
- 企業：株式会社大日本科研
- 価格：応相談
据置型(大型)照射装置『UVフォトエッチングタイプ』
高精度な紫外線露光タイプ！均一な平行光を実現します！
『UVフォトエッチングタイプ』は、高均一・平行光の照射が可能な 据置型(大型)照射装置です。 ランプから出力するUV光を効率よく利用し、照射面でのUV強度を得られる 独自開発の光学系 “高効率ツインミラーユニット”を全機種に採用し、 さらに各種の光学ユニットの組み合わせにより汎用タイプから高精度タイプ まで取り揃えております。 また、「UV樹脂コーティングタイプ」のご用意もございます。 【特長】 ■高精度 ■均一・平行光 ■紫外線露光タイプ ■高効率ツインミラーユニット採用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三永電機製作所
- 価格：応相談
自動両面露光装置
フィルム材料用 Roll To Roll 自動両面露光装置
自動両面露光装置は、高精度両面自動整合機を搭載しています。 平行光ランプで高精度画像が得られます。 【特長】 ■タッチパネル PET フィルム用 Roll To Roll 露光装置 ■フィルム搬送を熟知した材料搬送技術 ■露光機専用に開発された画像処理装置搭載 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社ラットコーポレーション 本社：営業部・業務部
- 価格：応相談
ロール両面同時露光装置『BEX-560DR-LED』
ランニングコストの負担軽減に貢献するロール両面同時露光装置！
『BEX-560DR-LED』は、生産性・高精度・大面積・省エネ・拡張性など 1台で多様な生産現場のニーズに対応できるロール両面同時露光装置です。 高品質なLED光源ユニットを搭載し、ランニングコストの負担を軽減。 また、超高精度アライメント機構によりパターン表裏の位置合わせ精度 1μmを実現します。 【特長】 ■露光室のクリーン度を上げる／装置内をクリーン度でクラス分け ■ランニングコストの負担を軽減：高品質LED光源ユニット ・ランプ交換不要の長寿命LED ・LED専用設計のフライアイレンズ ・水銀灯比1/8の低消費電力 ・高速電子シャッター搭載 ・熱線を含まないLED光源（365nm） ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社べアック
- 価格：応相談
実験・研究機向け 手動式露光装置『MA-1000シリーズ』
独自のギャップ機構と高速画像処理！オートアライメントシステムで多層露光が可能
『MA-1000シリーズ』は、多品種小ロット生産や実験・研究に好適な 手動式露光装置です。 ソフトコンタクト露光と、プロキシミティ露光を採用可能。 また、用途と基板サイズに合わせて超高圧水銀ランプ、各種ミラー、 特殊レンズを好適に組み合わせた光学系を準備いたします。 【特長】 ■ソフトコンタクト露光と、プロキシミティ露光を採用可能 ■独自のミラー・レンズ光学系を採用した面内均一照明 ■多層露光が可能 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社SCREENファインテックソリューションズ
- 価格：応相談
【技術資料】平行光手動露光装置『FRC-2500』
装置概要及び仕様要綱や概略仕様などについて、表を用いて詳しく掲載！
当資料は、平行光手動露光装置である『FRC-2500』についてご紹介しています。 当製品は益々高精度化するプリント配線基板に対応すべく、新たな設計思想 により開発されたU字形光源を搭載しています。 「6.5kW」「8kW」「6.5kW & 8kW (切替)」の、必要な明るさに合わせて 選べる3種類の電源を使用可能。 また、焼枠移動の際発生する様々な方向からのモーメント荷重に耐えられる リニアガイドを採用しています。 【掲載内容】 ■1. 装置概要及び仕様要綱 ■2. 概略仕様 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：誠和ケミカル株式会社
- 価格：応相談
紫外線偏光露光装置 HC−1001PUFM
均一性の優れた一定の偏光光のみを選択して照射する光源装置
【特徴】 ○水銀キセノンランプを光源とし、紫外線コールドミラーと 光学インテグレータ使用により、均一性の優れた一定の 偏光光のみを選択して照射する光源装置 ○偏光消光比 50：1以上の光を照射 ○高透過率干渉フィルターを装着することで 照射波長を選択することができる ○希望の照射面積・照射強度に対応可能
φ300mm（12インチ）ウェハー用全自動両面露光装置
各工程インテグレードで効率生産！！！
<特徴> MLCSP、Ｃ-MOSno裏面配線用両面アライメント露光装置です。 エンバイロメント（Foup）を装備し、GEM300、OHTも対応 スピンコーター、デベロッパーもインテクレード可能、レジストコートから露光、現像まで全自動で パターニングが可能（オプション） レチクル自動交換（オプション）
- 企業：株式会社清和光学製作所
- 価格：応相談
小型ウエハー自動露光装置
LED/水晶デバイスに最適な、全自動露光装置です！
<特徴> LED/水晶デバイスに最適な、全自動露光装置です。 生産性を重視した高剛性設計、ベースと支柱に石定盤を採用。 ダブルハンドロボットにて、高スループットアクセスランダム制御。 オリフラアライナーも装備
- 企業：株式会社清和光学製作所
- 価格：応相談
ウエハー露光装置（マスクアライナー） 研究開発用
研究開発用手動タイプ
概要 研究開発，小ロット生産まで多用途に対応が可能 ハードコンタクト，ソフトコンタクト，プロキシティーを選択し使用用途に合わせて提案
- 企業：株式会社清和光学製作所
- 価格：応相談
UV露光装置 UVL-3
超高圧水銀ランプを光源に使用した簡易的な露光装置です
『UVL-3』は、卓上型のUV露光器です。 主にガラス基板等を使用するフォトリソグラフィ工程において、 露光焼付けを手軽に行うことが可能。 カラー液晶と十字キーを装備し 照射時間を正確にコントロールします。 【特長】 ■フォトリソグラフィ工程における簡易露光焼付装置 ■卓上型・一体型のため省スペース ■マイコン搭載により、照射時間を正確に制御 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：壷坂電機株式会社
- 価格：応相談
2サイズインチ兼用自動等倍露光装置（オートマスクアライナー）
サイズ切替が容易なウエハ2サイズ兼用オートマスクアライナー。簡単設定、自動平行調整、完全非接触ギャップ管理、オートアライメント。
当製品は、オート一括等倍露光マスクアライメント装置です。 φ3、4インチ φ4、６インチなどの2サイズのウエハが兼用可能です。 切替作業は、非常に簡単。3つの部品を交換するだけでOK。 搬送ロボットの微調整など一切不要です。 更にフォトマスクとウエハを完全非接触で自動平行調整を行い、 製造工程における段取り替え時間を大幅に削減可能です。 超精密UVW駆動ステージを搭載し高性能画像処理を行う事で フォトマスクとウエハのアライメントを正確に行います。 ソフト、ハードコンタクトにも対応。 マニュアル機～フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 【特長】 ■複数基板サイズ対応 ■段取り替えが容易 ■完全非接触でフォトマスクとウエハの平行出し&露光 ■オートアライメント機能 ■省スペース&簡単メンテナンス ■低価格、コンパクトを実現し、多品種少量生産にも好適 ■超精密UVWステージ搭載 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
- 価格：応相談
半自動両面同時露光装置（セミオートダブルマスクアライナー）
ベルト搬送方式によるウエハ表面、裏面を同時に露光可能な装置です。 fast露光モード、アライメント露光モードを設定可能。
当製品は、半自動両面同時露光装置です。 ウエハキャリアからの取り出し、搬入をベルト方式に行います。 マスクとウエハはコンタクトし、同時に露光を行います。 アライメントなしのfast露光モード、 ウエハとマスクのアライメントを主導で行うアライメント露光モードを レシピで選択。 ベルト搬送方式の特徴を生かし、fast露光モードは高タクトで処理が可能。 上下マスクの位置合わせ、マスク―ウエハの位置合わせはI.Fを同一とし 操作が煩雑になる事がありません。 また、マスクの交換も簡単に行えます。 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 【特長】 ■両面同時露光 ■fast露光モード、アライメント露光モード ■段取り替えが容易で、複数基板サイズ対応可能 ■省スペース&簡単メンテナンス ■低価格、コンパクトを実現し、多品種少量生産にも好適 ■ベルト搬送方式 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
- 価格：応相談
量産工程用露光装置『全自動マスクアライナー』
サイズは4inと8inをご用意！〇型□型試料に対応した高い汎用性を有しております
当社が取り扱う量産工程用露光装置『全自動マスクアライナー』を ご紹介します。 シンプル構造で低価格を実現。 〇型□型試料に対応した高い汎用性を有しております。 4inサイズの「ALA410」と、8inサイズの「ALA810」をご用意しています。 【特長】 ■高い汎用性（〇型□型試料対応） ■信頼性の高い球面軸受 平行機構 ■シンプル構造で低価格を実現 ■Φ4in、Φ6in、Φ8in仕様 ■CToC自動搬送 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三明
- 価格：応相談
半自動露光装置『半自動マスクアライナー』
4inと8inサイズをご用意！アライメント露光が可能な多品種量産用半自動露光装置！
株式会社三明で取り扱っている『半自動マスクアライナー』をご紹介します。 当製品は、露光光源が照度分布±5％以内の多品種量産用半自動露光装置です。 自動ギャップ調整から手動アライメント、自動コンタクト露光、自動搬送の 流れで行うことができます。 詳細については、お気軽にご相談ください。 【仕様】 ■φ4in φ6in φ8in 仕様 ■Top-side アライメント ■Bottom-side アライメント ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三明
- 価格：応相談
自動搬送露光装置
搬送系はローラコンベア方式でインラインとして利用可能！
ガラス基板などのフォトリソ工程において、ガラスマスクとワークをアライメントし、ソフトコンタクト露光で微細なマスクパターンを転写する露光機です。
- 企業：ウシオライティング株式会社
- 価格：応相談
スクリーン版用露光装置
フレネルレンズを搭載した高精度露光装置です。
フレネルレンズを搭載した高精度露光装置です。新真空システムでスクリーン版枠の歪みを軽減し、さらに配光バランスを向上させました。スクリーン枠装置と、PDP用の大型装置の2種類をラインアップさせています。
- 企業：ウシオライティング株式会社
- 価格：応相談
