露光装置 - メーカー・企業34社の製品一覧とランキング
更新日： 集計期間:2025年11月05日～2025年12月02日
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露光装置のメーカー・企業ランキング
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- 株式会社三明 静岡県/産業用電気機器
- 株式会社インターテック販売 東京本社（拠点－関西営業所、熊本営業所） 東京都/電子部品・半導体
- 株式会社ナノシステムソリューションズ 神奈川県/産業用電気機器
- 4 株式会社大日本科研 京都府/光学機器
- 5 株式会社サーマプレシジョン 本社、名古屋営業所 東京都/その他
露光装置の製品ランキング
更新日： 集計期間:2025年11月05日～2025年12月02日
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- LED光源マスクレス露光装置 DL-1000シリーズ 株式会社ナノシステムソリューションズ
- i線ステッパー露光装置 株式会社インターテック販売 東京本社（拠点－関西営業所、熊本営業所）
- 半自動露光装置『半自動マスクアライナー』 株式会社三明
- 4 マスクレス露光装置「MXシリーズ」 株式会社大日本科研
- 5 自動両面露光装置 株式会社ラットコーポレーション 本社：営業部・業務部
露光装置の製品一覧
16～30 件を表示 ／ 全 81 件
表示件数
マニュアル露光装置
顕微鏡オート移動など､生産性､使い勝手に優れたアライナ
2インチウエハ対応のマニュアル露光装置です｡ オペレータがマニュアルでウエハをセットする露光装置です｡4インチのガラスマスクを使用し､フォトマスクとウエハのアライメントマークを顕微鏡で撮像､モニタに写しだされた画像を見ながらの位置合わせと､露光ギャップ設定を行うことで､露光が可能です｡ なお､露光スイッチを押すと自動で顕微鏡が退避､ランプハウスが所定の位置に移動し､設定光量露光､自動退避までを行います｡
- 企業：ウシオライティング株式会社
- 価格：応相談
3次元形状レーザ露光装置 ※開発中
5軸ステージ制御による3次元形状へのマスクレスフォトリソグラフィを実現！
『3次元形状レーザ露光装置』は、5軸ステージ（直進3軸、回転2軸）構成により 様々な形状へ微細パターニングが可能です。 半導体レーザによる直接露光を行いますので、メタルマスクが不要で、研究・開発の 時間短縮、予算低減へ貢献します。 また、専用変換ソフトにより2D、3D CADで制作したデータを読込できます。 【特長】 ■5軸ステージ（直進3軸、回転2軸）構成 ■様々な形状へ微細パターニングが可能 ■メタルマスクが不要で、研究・開発の時間短縮、予算低減へ貢献 ■専用変換ソフトにより2D、3D CADで制作したデータを読込可能 ■アライメント補助機により、容易な立体構造サンプルの位置合わせが可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：ネオアーク株式会社 東京営業部
- 価格：応相談
LED光源マスクレス露光装置 DL-1000シリーズ
世界で初めて最小画素1μm（オプション：0.5um対応可能）の自由度の高いパターニングを実現！DMDを用いたマスクレス露光装置
D-light DL-1000シリーズは、レジストの三次元加工を容易に実現できる機能を搭載したフォトマスクが不要なマスクレス露光装置です。 本装置は、グレースケールデータを効率的に作成・変更できるソフトウエアとDMD（Digital Micromirror Device）に転送されたグレースケール信号をピクセル（□1μm）単位で光強度に階調を持たせた2次元画像として逐次投影することのできるハードウエアから構成されています。 DL-1000を用いることで、マルチトーンマスクを使用したり多重露光をすること無く、レジストの三次元加工を容易に実現することができます。グレースケールデータの作成は、これまで階層毎に図面を描き、各レイヤーに輝度を割り当てる作業が必要でしたが、計算式の係数を変化させることで任意の多角形及び円弧をもとに滑らかなグレースケール画像（最大256階調）を生成することが可能になりました。 また、レジストの感度特性や処理条件の相違による露光結果の変動に対しても、グレースケールデータを容易に変更することができるため、求める形状を迅速に具現化することができます。
- 企業：株式会社ナノシステムソリューションズ
- 価格：応相談
フルパネル量産投影露光装置『CMS-Ck』 ★デモ受付中！
解像力とアライメント精度を高め、量産プロセスに対応可能。UV-LED光源を採用し、ランニングコストを低減します
『CMS（Cerma Micro Stepper）-Ck』は、650×550mmの フルサイズ基板に対応した、微細パターン露光が可能な投影露光装置です。 標準光源として、UV-LED光源を採用。 解像力（L/S）が2μmのインターポーザーをはじめ、 高精細・高精度・高生産性を要求される用途に適しています。 【特長】 ■L/S＝1.4/1.4μmからの量産プロセスに対応 ■ダイバイダイアライメント＆グローバルアライメント方式 ■チップファースト工程にも対応可能 ■ショット毎チルト機構搭載により歩留まり向上 ※詳しくは資料をご覧ください。また、当社では製品を実際に評価いただける クリーンルームも完備。デモをご希望の方はお気軽にご連絡ください。 （ラミネート・塗布、現像の周辺プロセスを含めて対応可能です）
- 企業：株式会社サーマプレシジョン 本社、名古屋営業所
- 価格：応相談
高性能ダイレクト露光装置 ※回路パターン用 ※ソルダーレジスト用
LED/LD混合波レンズ 高速で高い生産能力・高コストパフォーマンス
・LD405+LED385+LED365 三波長混合技術 ・高出力光源+前後二列構造で、より高い生産能力を実現 ◆特徴 ・高速で高い生産能力 ・高精度アライメント ・高コストパフォーマンス ・高出力LD搭載（自社製造）
- 企業：株式会社サーマプレシジョン 本社、名古屋営業所
- 価格：応相談
スクリーン製版用露光装置
スクリーン製版用露光装置
スクリーン印刷機メーカーだからこそ、の、スクリーン版への「こだわり」と「経験」が生み出した、スクリーン版製版機材です。 瞬時点灯型のランプがもたらす優れた照度分布と、積算光量計による露光データの管理によって、常に適切な露光環境を提供します。 露光作業中もゴムシートによって密着される為に紫外線の漏洩が無く、作業環境に負荷を与えません。
- 企業：株式会社ミノグループ 本社/機械事業部
- 価格：応相談
紫外線LED露光機
小型、低消費電力、長寿命の紫外線LED露光ランプです。
基本は弊社が販売しておりますメタルフォト用の露光ランプです。 今まではキセノンランプ、メタルハライドランプ、水銀灯など 高出力のランプを使っておりましたが、最近はやりのLED光を採用し、 自社設計開発しました紫外線LED露光ランプです。 【特長】 ■高さ調整のアーム付き、デジタルタイマー付き ■アームからLED部分が取り外し可能で220gと軽量 ■カタログにありますバキュームテーブルも自社設計製品 ■メタルフォトに限らず波長と出力があえば他のものにも利用可能 ■自社設計のため、光源を変えたり、サイズ変更などカスタマイズ可能
- 企業：東光化学工業株式会社
- 価格：応相談
内層板用両面同時露光装置 光 ＨＤＥ１１０Ｓ
今までの露光装置とは生産性が違います！
通常12秒〜のタクトタイムを、何と！ 9秒にまで縮小しました。 1分に換算すると、今までのものよりも1〜2枚生産量ＵＰが実現できます。
- 企業：豊和工業株式会社 機械事業部ＣＥ営業グループ電子機械チーム
- 価格：応相談
フォトプロセス解析露光装置 ES-3500LP
ウシオ電機社製エキシマランプを搭載。193nm対応解析露光装置。
フォトプロセス解析露光装置 ES-3500LPはVUVES-4500で用いているレーザー光源の代わりに、ウシオ電機社製エキシマランプを搭載した装置。レーザー光源のような、 大がかりなガス供給システムを必要とせず、場所を選ばず設置可能。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
- 企業：リソテックジャパン株式会社
- 価格：応相談
