フォトプロセス解析露光装置 ES-3500LP
ウシオ電機社製エキシマランプを搭載。193nm対応解析露光装置。
フォトプロセス解析露光装置 ES-3500LPはVUVES-4500で用いているレーザー光源の代わりに、ウシオ電機社製エキシマランプを搭載した装置。レーザー光源のような、 大がかりなガス供給システムを必要とせず、場所を選ばず設置可能。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
- 企業：リソテックジャパン株式会社
- 価格：応相談
露光装置 - メーカー・企業33社の製品一覧とランキング
更新日： 集計期間:2025年08月06日～2025年09月02日
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露光装置のメーカー・企業ランキング
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- 株式会社三明 静岡県/産業用電気機器
- 株式会社ピーエムティー 福岡県/産業用機械 本社・工場
- 株式会社ナノシステムソリューションズ 神奈川県/産業用電気機器
- 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ 埼玉県/電子部品・半導体
- 5 ネオアーク株式会社 東京都/産業用電気機器 東京営業部
露光装置の製品ランキング
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- 露光装置 ※MEMS等両面デバイス開発・製造を支援！ 株式会社三明
- マスクレス露光装置『 ME-120F』 株式会社ピーエムティー 本社・工場
- LED光源マスクレス露光装置 DL-1000シリーズ 株式会社ナノシステムソリューションズ
- マスクレス露光装置PALET『DDB-701シリーズ』 ネオアーク株式会社 東京営業部
- 5 i線ステッパー露光装置 株式会社インターテック販売 東京本社（拠点－関西営業所、熊本営業所）
露光装置の製品一覧
31～45 件を表示 ／ 全 81 件
表示件数
疑似平行露光装置『F1型/F2型』
照度分布の均一化を実現！積算光量計により10chのメモリー登録が可能な疑似平行露光装置
当社が取り扱う、疑似平行露光装置『F1型/F2型』をご紹介します。 ランプは3kwメタルハライドランプ。フレーネルレンズを採用しており、 拡散光を擬似平行光にします。 また、積算光量計により10chのメモリー登録ができ、ランプ交換により 水銀ランプ（UV360nm）も可能です。 【特長】 ■拡散光を擬似平行光にする ■照度分布の均一化を実現 ■積算光量計により10chのメモリー登録ができる ■ランプ交換により水銀ランプ（UV360nm）も可能 ■露光制御装置：EC501（10chメモリー付き） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社ムラカミ
- 価格：応相談
平行光露光装置
コンパクト設計な平行光露光装置です。
本装置は、点光源の超高圧水銀灯を光源とする、コリメーションミラー方式の平行光露光装置です。主要構成は、光源部・吸着式の露光テーブル部・マスク部から成り、露光方式は、真空密着式(ハードコンタクト)の露光方式が可能になっております。要望により、プロキシミティ方式も承ります。 露光管理の為に、積算光量計も搭載し、適正露光量を設定し易くなっており、架台付きで、コンパクト設計な露光装置です。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
- 企業：株式会社イーエッチシー
- 価格：応相談
【半導体製造装置関連】自動両面マスク露光機
ウェハ搬送ロボットによる全自動搬送2マガジン対応の自動マスク露光機。
500万画素CCDによるアライメント精度±1.0µm。
- 企業：株式会社ライズワン
- 価格：応相談
露光装置 小型露光装置
ＪＥＭの装置は簡単な操作で正確な製版ができます。
露光時温度を一定に保つ様、ランプのブロワー換気を行っていますので露光安定性、再現性にすぐれています。露光面積に余裕があり、専用バキュームポンプを使用しています。振動騒音が少なくネガフィルムの密着は完璧です。
- 企業：日本電子精機株式会社
- 価格：応相談
露光装置 表面処理後露光装置
操作回路は全て電子化され、電気系統の安全性に優れ長期間使用できます。
ＪＥＭの装置は簡単な操作でべた付きのない美しい製版ができ、段ボール印刷からプロセス等の美粧印刷まで高品質な印刷ができます。
- 企業：日本電子精機株式会社
- 価格：応相談
露光装置 大型両面露光装置
操作回路は全て電子化され、電気系統の安全性に優れ長寿命です。
ＪＥＭの新型両面露光機は、一度樹脂版をセットするだけで裏返す手間が省け作業時間が短縮でき、省力・省エネ・低コスト・高品質な製版に貢献します。
- 企業：日本電子精機株式会社
- 価格：応相談
テレセントリックｆθレンズ仕様 レーザ露光装置
テレセントリックｆθレンズとポリゴンミラーによる「ラスタースキャン型レーザ露光」で走査幅全域において高精度ビーム形状描画が可能
プリンテッド・エレクトロニクス関連で、絶縁膜のパターン形成や金属パターン形成、ＭＥＭＳ形状のバンク・隔壁形成に、ポジレジスト・ネガレジストをマスクレスで直接露光する「レーザ露光機」です。テレセントリックｆθレンズとポリゴンミラーによる「ラスタースキャン型レーザ露光」で走査幅全域において高精度ビーム形状描画が可能。h線・i線を含む、レーザ波長 375，405，650，780，830nmなど選択可能。レーザスポット径 2μm（@405nm）10μm 22μm 30μm 等。分解能 ～25,400dpi ～5,080dpi ～3,000dpi 等 感光性レジストの全般（半導体露光用レジスト各種、ポリイミドレジスト、感光性Ａｇ）に対応可能。 有機ＴＦＴのゲート絶縁膜、感光性Ａｇインク 等で電極形成。 インクジェット／フレキソ／スクリーン 等の工法で困難なパターン形状の作成が、容易に可能です
- 企業：株式会社ワイ・ドライブ
- 価格：1000万円 ~ 5000万円
マスクレス露光装置「MXシリーズ」
半導体製造等の露光工程における、開発/納期の短縮とコスト削減に貢献します。
半導体製造工程・マイクロセンサー（加速度センサー、圧力センサー、温度センサー、ガスセンサー）製造工程・プリント基板製造工程における露光技術では、フォトマスクを使用し、それを基盤に転写する方式が主流です。 一方、マスクレス露光装置「MXシリーズ」は、DMD（デジタル・マイクロミラー・デバイス）を用いた独自のポイントアレイ方式で、CADデータから直接露光することができます。 フォトマスクを使用しない露光方式では、世界最高レベル（1ミクロン以下）の露光精度を実現。 試作が容易になり、時間・コストの削減に貢献します。 【特徴】 ○高価なマスクが不要となる ○マスクデータの外部流出防止 ○描画パターンの設計から描画までの時間短縮 ○描画パターンの設計変更が容易 ○各基板の歪みに合わせた露光パターンの補正等が可能 ・詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
- 企業：株式会社大日本科研
- 価格：応相談
Ø150mm対応露光装置
Ø2”～6”対応全自動露光装置（マスクアライナ）
【主な特長】 ・全機能がコンパクトに一体化 ・独自のアライメントシステムを搭載。 ・バーコードリーダーを用いたオペレータ補助と生産管理。 ・上位通信システム対応可能。 ・量産用としてのべ５００台以上の販売実績。
- 企業：株式会社大日本科研
- 価格：応相談
据置型(大型)照射装置『UVフォトエッチングタイプ』
高精度な紫外線露光タイプ！均一な平行光を実現します！
『UVフォトエッチングタイプ』は、高均一・平行光の照射が可能な 据置型(大型)照射装置です。 ランプから出力するUV光を効率よく利用し、照射面でのUV強度を得られる 独自開発の光学系 “高効率ツインミラーユニット”を全機種に採用し、 さらに各種の光学ユニットの組み合わせにより汎用タイプから高精度タイプ まで取り揃えております。 また、「UV樹脂コーティングタイプ」のご用意もございます。 【特長】 ■高精度 ■均一・平行光 ■紫外線露光タイプ ■高効率ツインミラーユニット採用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三永電機製作所
- 価格：応相談
自動両面露光装置
フィルム材料用 Roll To Roll 自動両面露光装置
自動両面露光装置は、高精度両面自動整合機を搭載しています。 平行光ランプで高精度画像が得られます。 【特長】 ■タッチパネル PET フィルム用 Roll To Roll 露光装置 ■フィルム搬送を熟知した材料搬送技術 ■露光機専用に開発された画像処理装置搭載 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社ラットコーポレーション 本社：営業部・業務部
- 価格：応相談
ロール両面同時露光装置『BEX-560DR-LED』
ランニングコストの負担軽減に貢献するロール両面同時露光装置！
『BEX-560DR-LED』は、生産性・高精度・大面積・省エネ・拡張性など 1台で多様な生産現場のニーズに対応できるロール両面同時露光装置です。 高品質なLED光源ユニットを搭載し、ランニングコストの負担を軽減。 また、超高精度アライメント機構によりパターン表裏の位置合わせ精度 1μmを実現します。 【特長】 ■露光室のクリーン度を上げる／装置内をクリーン度でクラス分け ■ランニングコストの負担を軽減：高品質LED光源ユニット ・ランプ交換不要の長寿命LED ・LED専用設計のフライアイレンズ ・水銀灯比1/8の低消費電力 ・高速電子シャッター搭載 ・熱線を含まないLED光源（365nm） ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社べアック
- 価格：応相談
プロキシミティ露光とは？
汚れや傷がつきにくい！レジストに紫外線を照射し、パターンを形成
プロキシミティ露光とは、半導体や液晶などの製造に使われる技術の一つです。 レジスト(光感性樹脂)に紫外線を照射し、パターンを形成します。 その際、レジストとフォトマスク(パターンを形成するための板)の 間に微小な隙間を設け、レジストに光を届けることで、細かなパターンを 形成します。 【メリット】 ■マスクとワークが接触しないため汚れや傷がつきにくい ■フォトリソグラフィーと比較してパターン形成に必要な時間が短くて 済むため生産性が高い ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：夏目光学株式会社
- 価格：応相談
