露光装置 - メーカー・企業35社の業務用製品ランキング | イプロスものづくり
更新日： 集計期間:2026年03月25日～2026年04月21日
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露光装置のメーカー・企業ランキング
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- 株式会社ナノシステムソリューションズ 神奈川県/産業用電気機器
- 株式会社大日本科研 京都府/光学機器
- 株式会社インターテック販売 東京本社（拠点－関西営業所、熊本営業所） 東京都/電子部品・半導体
- 4 株式会社サーマプレシジョン 本社、名古屋営業所 東京都/その他
- 5 株式会社清和光学製作所 東京都/電子部品・半導体
露光装置の製品ランキング
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- LED光源マスクレス露光装置 DL-1000シリーズ 株式会社ナノシステムソリューションズ
- i線ステッパー露光装置 株式会社インターテック販売 東京本社（拠点－関西営業所、熊本営業所）
- 高性能ダイレクト露光装置 ※回路パターン用 ※ソルダーレジスト用 株式会社サーマプレシジョン 本社、名古屋営業所
- マスクレス露光装置「MXシリーズ」 株式会社大日本科研
- 4 マスクレス露光装置PALET『DDB-701シリーズ』 ネオアーク株式会社 東京営業部
露光装置の製品一覧
61～85 件を表示 ／ 全 85 件
表示件数
オート式露光装置
190WPHの高スループットを実現したマスクアライナ
2インチのウエハサイズに対応する､全自動式露光装置です｡ 従来のウエハ搬送方式で用いられる多間接ロボットに代わり､自社開発の搬送ロボットを3台配置させたことで､毎時190枚(2インチウエハ)を処理する高いスループットを実現しました｡ 特に､新開発のアライメント画像処理には､任意座標指定のサーチおよび､インテリジェントθサーチとの複合サーチを行うオートアライメントを採用しました｡また､安定した視認性を実現するために､顕微鏡のハロゲン照明は画像処理により､照度減衰もフィードバックする新機構も搭載しています｡ オペレータはフォトマスクとウエハをセットし､あらかじめ記憶されている露光レシピを選択するだけで､ウエハ搬送からフォトマスクとの位置合わせ､露光までをオートで行うことから､オペレータや使用経験に依存しない､安定した精度での露光が可能です｡
- 企業：ウシオライティング株式会社
- 価格：応相談
マスクレス露光装置PALET『DDB-701シリーズ』
トライ＆エラーが必要不可欠な研究・試作用途に好適なマスクレス露光装置
『DDB-701シリーズ』は、MEMS技術の代表格であるフォトリソグラフィを、 卓上で、手軽に、思いのままに行えるマスクレス露光装置です。 装置サイズを徹底的に小型化し、A3サイズの設置面積を実現。 フローティング構造を採用することで振動を抑制し、 防振台不要・真空吸着用エア源内蔵を実現し、 導入に際して障害となりやすい圧縮エアなどのユーティリティを取り除きました。 【特長】 ■設置場所に困らない卓上型 ■業界の常識を覆す低価格設定 ■ユーザフレンドリーな操作性を追求 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問合せください。
- 企業：ネオアーク株式会社 東京営業部
- 価格：応相談
投影露光装置 『MRSシリーズ』 UV-LED光源を採用
ウエハサイズ 後工程 投影露光装置 MRS 標準光源としてUV-LED光源を採用（生産性を落さずランニングコスト削減が可能！）
■ ８インチ以下は「一括露光方式」、 12インチは「ステップ＆リピート露光方式」の選択が可能 ■ 露光エリアが広い為、高生産性を実現 ■ 焦点深度が深い為、MEMS、RFフィルター業界に多数の 実績あり ■ TAIKOウエハにも対応 ■ グローバルアライメント方式 ■ 高剛性フレームにより、高精度アライメント露光が実現 ■ フォーカスマップ機構標準装備
- 企業：株式会社サーマプレシジョン 本社、名古屋営業所
- 価格：応相談
一括露光機
ミラープロジェクションマスクアライナー、コンタクトアライナーで両面露光を可能にするユニット。IR(近赤外線)仕様も実績あり。
マスクを傷つけることなく一括露光が可能なミラープロジェクション露光機には根強い需要があります。 本機は、コンパクトなフットプリントと低い保守コストで、トランジスタやパワー半導体等、MEMSの生産に長年貢献してきました。 経年劣化による照度低下や解像度・均一性の劣化にも、ミラーの再生など独自の技術でチャレンジを続けています。 【装置改造】 ■ 中古装置リファービッシュ販売 ■ 基盤サイズ変更 ■ チャンバー冷媒改造 ■ ミラー再生 【部品販売】 【引取オーバーホール】 【定期メンテナンス】 【移設業務】 ■ 構内移設 ■ 工場移設 【トラブル対応】
- 企業：株式会社インターテック販売 東京本社（拠点－関西営業所、熊本営業所）
- 価格：応相談
i線ステッパー露光装置
Canon製FPA3000/Nikon製NSRのサービスを行っております。
i線ステッパーであるFPA3000シリーズは、標準的なシリコンウェハ量産機としての実績に加え、 化合物ウェハの特長である反りや重さに対する対応力が高く、その分野でも広く支持されています。 弊社では適正在庫の保持に尽力し、現像機・顕微鏡・CDSEMを備えたデモ環境を整えております。 【装置改造】 ■ 中古装置リファービッシュ販売 ■ ウェハサイズ変更 ■ レチクルサイズ変更 ■ レチクルチェンジャータイプ変更 ■ チャンバー冷媒改造 【部品販売】 【部品修理】 ■ 基盤類修理 【定期メンテナンス】 【移設業務】 ■ 構内移設 ■ 工場移設 【トラブル対応】
- 企業：株式会社インターテック販売 東京本社（拠点－関西営業所、熊本営業所）
- 価格：応相談
外層板用縦型両面露光装置 光 ＦＥ２０５Ｃ
今までの露光装置とは ごみ対策が違います！
当社独自の基板を立てた状態で露光を行うシステムにより、ごみ問題による歩留まり低下を解消します。
- 企業：豊和工業株式会社 機械事業部ＣＥ営業グループ電子機械チーム
- 価格：応相談
フォトプロセス解析露光装置 UVESシリーズ
最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能。
フォトプロセス解析露光装置 UVESシリーズはフォトレジストの研究開発用露光ツールです。ステップ露光することで最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能です。露光されたサンプルをレジスト現像アナライザを用いて現像解析することにより、フォトレジストの材料開発やプロセス開発を加速します。さらに、オプションの脱ガス捕集ユニットを用いることにより、露光中のレジストからのアウトガスの成分分析が可能となります。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
- 企業：リソテックジャパン株式会社
- 価格：応相談
レジスト解析用EUV露光装置 EUVES-7000
EQ-10 EUV光源を搭載、極端紫外光対応解析露光装置
レジスト解析用EUV露光装置EUVES-7000は、米国Energetiq Technology社製EQ-10 EUV光源を搭載し、波長13.5nmの極端紫外光露光に対応したオープンフレーム露光が行えます。
- 企業：リソテックジャパン株式会社
- 価格：応相談
露光装置 大型露光装置
露光安定性・再現性に優れています。
JEMの大型露光装置は、常に完全な均一露光を得るため積算光量計・バラスト機構・大型ドライロータリーポンプ・バキュームレギュレター等を組み込んだ最新高性能の大型露光装置です。
- 企業：日本電子精機株式会社
- 価格：応相談
実験・研究用露光装置
コンパクトな設計のマニュアル式オートアライメント露光装置(マスクアライナ）です。
【主な特長】 ・多品種・小ロット生産や実験・研究に最適なマニュアル一括露光装置 ・高精度オートアライメントおよび裏面アライメント機能を搭載。 ・割れ基板へのオートアライメントが可能。 ・フットプリントを縮小化することで省スペースを実現。 ・UV-LED光源搭載可能 ・レシピ管理機能 ・バーコードリーダーを用いたオペレータ補助とLOG保存。
- 企業：株式会社大日本科研
- 価格：応相談
Ø300mm対応露光装置
Ø200mm Ø300mm対応露光装置（マスクアライナ）
【主な特長】 ・自社開発のミラー光学系ランプハウスを搭載、照射面内均一性、高照度を実現 ・独自の同軸アライメント方式と高速画像処理技術を採用し、高精度なアライメントを実現。I R方式や裏面方式にも対応 ・独自の光学式ギャップセンサにより、マスクと基板間のプロキシミティギャップを非接触で高速・高精度に設定 ・マスクチェンジャを搭載。最大20枚のフォトマスクを自動交換 ロードポートを最大３基搭載可能
- 企業：株式会社大日本科研
- 価格：応相談
実験・研究用 コンパクトUV硬光装置「デモ機あり」
用途に応じた照射長域の選択が可能！マルチな波長対応で実験、研究用に活躍
『UV-1500MT』は、1500Wメタハラ、水銀ランプとも交換共用ができ、 マルチな波長対応で実験、研究用に適したUV簡易露光装置です。 ハイパワー・コンパクト化を実現した独自の光学設計。高安定・長寿命・ オゾンレスランプの使用で、用途に応じた照射長域の選択が可能です。 自動化ラインに対応する豊富なリモート機能や万全なノイズ防止対策など、多彩な機能を備えています。 【特長】 ■ハイパワー・コンパクト化を実現した独自の光学設計 ■高安定・長寿命・オゾンレスランプの使用 ■用途に応じた照射長域の選択が可能 ■70~100%まで強度調整が可能 ■自動化ラインに対応する豊富なリモート機能 ■万全なノイズ防止対策 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社三永電機製作所
- 価格：50万円 ~ 100万円
株式会社プリケン プリント基板 パターンニング(内層)
プレス室、現像室、クリーンルームにて実施！当社の工程設備をご紹介
当社では、工程設備にて「パターンニング(内層)」を行っています。 プレス室にて、X線穴あけ機で内層のパターンを確認し基準穴をあけ、 現像室では、規定の大きさに切断された板の汚れを落としドライフィルム の密着性を向上。 クリーンルームで、オートラミネートカッターでポリエチレンフィルムを 剥がしながら熱ロールで圧着し、フィルムと基材を密着させ、紫外線で露光。 現像室にて未露光部分を膨潤剥離します。 【工程】 ■基準穴加工 ■整面 ■露光 ■現像 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
裏面アライメントシステム(IRAS)
ミラープロジェクションマスクアライナー、コンタクトアライナーで両面露光を可能にするユニット
『裏面アライメントシステム(IRAS)』は、MPA、PLAに搭載する事により、 ウェハーの裏面をアライメントできるユニットです。 MPA、PLAを裏面露光装置として使用する為に製作。 新規で裏面露光装置のご購入を考えているユーザー様に適しています。 ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。 【概要】 ■主要追加部品 ・マスクアライメント用CCDカメラ ・ウェハー裏面アライメント用近赤外線CCDカメラ ・画像解析用モニター＆パソコン ・裏面カメラユニットステージ ・その他 ■対応機種：MPA600Series、PLASeries ■設置期間：1.5週間 ■近赤外線仕様もあります ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
- 企業：株式会社インターテックエンジニアリング 東京営業所
- 価格：応相談
プリント基板事業
消耗品のご提案・サポートも対応！薬品から製造設備の選定、設置までをトータルに行います
株式会社ワイケイシーで行っている、『プリント基板事業』では、 プリント基板製造に関わる薬品から製造設備の 選定、設置までをトータルに行います。 また、ルータービット、ドリル、カートリッジフィルター等の消耗品の ご提案・サポートも対応。 多様化するニーズにお応えしますので、ご用命の際はお問い合わせください。 【特長】 ■薬品から製造設備の選定、設置までをトータルに対応 ■消耗品のご提案・サポートも対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社ワイケイシー
- 価格：応相談
手動等倍露光装置（マニュアルマスクアライナー）
簡単設定、自動平行調整、完全非接触ギャップ管理。搬送系が無い低価格手動マスクアライナー。
当製品は、手動一括等倍露光マスクアライメント装置です。 基板を露光ステージにセットし、露光を行う装置です。 ウエハを露光ステージへ手動でセッティング。 面倒なフォトマスクとウエハの平行調整やギャップ調整は自動で行います。 また，超精密UVW駆動ステージを搭載し高性能画像処理を行う事で フォトマスクとウエハのアライメントを正確に行います。 ソフト、ハードコンタクトにも対応。 マニュアル機～フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 基板が特殊等のオーダーメイドも承ります。 【特長】 ■完全非接触でフォトマスクとウエハの平行出し&露光 ■オートアライメント機能搭載 ■段取り替えが容易で、複数基板サイズ対応可能 ■多品種少量生産、研究、開発用途に好適 ■省スペース&簡単メンテナンス ■低価格、コンパクトを実現 ■超精密UVWステージ搭載 ■特殊基板等のオーダーメイド可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
- 価格：応相談
露光装置 ※MEMS等両面デバイス開発・製造を支援！
MEMSデバイスの研究開発から少ロット・多品種、量産まで対応可能な露光装置/マスクアライナーをラインアップ！
株式会社三明では、コンパクトな微細露光機や両面プロセスのローコストアシストモデル、 両面・多面プロセスのスタンダード量産機である手動型の露光機をはじめ、 少ロット多品種から量産まで対応した半自動・全自動タイプなど優れたローコストな露光装置を多数ラインアップしております。 【各種ラインアップの特長】 （マニュアル マスクアライナー） ■高倍率ズーム顕微鏡を備えた、手動式露光装置！ ■片面露光タイプ、両面露光タイプ、両面同時露光タイプと多彩なシリーズをラインナップ！ （セミオート マスクアライナー) ■自動ギャップ調整から手動アライメント、自動コンタクト露光、自動搬出の流れで量産が可能！ （フルオート マスクアライナー) ■C to C 自動搬送 ■丸形、角形試料など、各種デバイスへ露光可能！ ※詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
- 企業：株式会社三明
- 価格：応相談
【半導体向け】露光装置で微細化プロセスを支援！
MEMSデバイスから量産まで対応。微細化プロセスをサポート。
半導体業界では、デバイスの高性能化に伴い、微細化技術が不可欠です。微細化プロセスにおいては、高精度な露光技術が求められ、製造プロセスの品質と歩留まりを左右します。露光装置の選定は、製品の信頼性向上、歩留まり改善に繋がります。当社露光装置は、MEMSデバイスの研究開発から少ロット・多品種、量産まで対応し、お客様の微細化プロセスを強力にサポートします。 【活用シーン】 ・MEMSデバイス製造 ・半導体ウェーハへのパターン露光 ・微細加工プロセス 【導入の効果】 ・高精度な露光による歩留まり向上 ・多様なデバイスへの対応 ・ローコストでの量産体制構築
- 企業：株式会社三明
- 価格：応相談
中古半導体製造装置
中古半導体製造装置
弊社ホームページでFPD・半導体関連の中古設備情報を掲載しています。 中古装置のハイテック・システムズ！ 半導体製造装置のご相談は、ハイテック・システムズへ！
- 企業：株式会社ハイテック・システムズ
- 価格：応相談
露光機/Aligner/ステッパー/Stepper
露光機/Aligner/ステッパー/Stepper
弊社ホームページでFPD・半導体関連の中古設備情報を掲載しています。 中古装置のハイテック・システムズ！
- 企業：株式会社ハイテック・システムズ
- 価格：応相談
プロキシミティ露光とは？
汚れや傷がつきにくい！レジストに紫外線を照射し、パターンを形成
プロキシミティ露光とは、半導体や液晶などの製造に使われる技術の一つです。 レジスト(光感性樹脂)に紫外線を照射し、パターンを形成します。 その際、レジストとフォトマスク(パターンを形成するための板)の 間に微小な隙間を設け、レジストに光を届けることで、細かなパターンを 形成します。 【メリット】 ■マスクとワークが接触しないため汚れや傷がつきにくい ■フォトリソグラフィーと比較してパターン形成に必要な時間が短くて 済むため生産性が高い ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：夏目光学株式会社
- 価格：応相談
半自動等倍露光装置（セミオートマスクアライナー）
簡単設定、自動平行調整、完全非接触ギャップ管理。搬送ユニット搭載の半自動マスクアライナー。
当製品は、半自動一括等倍露光マスクアライメント装置です。 基板を1枚毎にセットし、 基板セット後，搬送～露光を自動で行う装置です。 フォトマスクとウエハを完全非接触で自動平行調整を行います。 従来の手動でギャップ調整を行うという煩雑な作業が一切不要です． また，超精密UVW駆動ステージを搭載し高性能画像処理を行う事で フォトマスクとウエハのアライメントを正確に行います。 ソフト、ハードコンタクトにも対応。 マニュアル機～フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 基板が特殊等のオーダーメイドも承ります。 【特長】 ■完全非接触でフォトマスクとウエハの平行出し&露光 ■オートアライメント機能搭載 ■段取り替えが容易で、複数基板サイズ対応可能 ■多品種少量生産、研究、開発用途に好適 ■省スペース&簡単メンテナンス ■低価格、コンパクトを実現 ■超精密UVWステージ搭載 ■特殊基板等のオーダーメイド可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
- 価格：応相談
試料裏面マスクアライメント露光装置『BAシリーズ』
プロセスの異なる試料表裏の一致した位置にパターン露光！ナノテックの露光装置
試料裏面マスクアライメント露光装置『BAシリーズ』は、 従来の露光装置では困難であった試料裏面からのアライメントを 可能にするローコストなマスクアライメント装置です。 本装置では試料の第1面に予め形成されたアライメントマークに対して、 その対面（第2面）の指定された位置にマスクパターンを アライメントして露光できます。 コンパクトなので通常の片面露光マスクアライナーとしても使用でき、 各種MEMSや半導体素子の両面デバイス開発を支援します。 【特長】 ■裏面観察専用の双対物2視野CCD顕微鏡搭載 ■対物レンズ間隔最小16mm ■小型試料のアライメントまで可能 ■裏面アライメントに最適化されたフリーズワイプ処理装置を装備 ■試料アクセスに便利なフロントスライド式高精度アライメントステージ 他 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社ナノテック
- 価格：応相談
投影露光とは？
微細なパターンを半導体基板上に形成するために使用される技術。
投影露光は、半導体製造プロセスにおいて、微細なパターンを半導体基板上に 形成するために使用される技術の一つです。 半導体基板上にUV(紫外線)光を照射することで、フォトレジストと 呼ばれる光に敏感な材料にパターンを形成します。 フォトレジストは、UV光を当てると化学反応が起こり、露光した箇所が 溶解したり、硬化したりします。その後、露光された箇所をエッチングなどの プロセスで取り除き、残った部分には微細なパターンが形成されます。 【特長】 ■光に敏感な材料にパターンを形成する ■ステッパーが使用される ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：夏目光学株式会社
- 価格：応相談
